JP2014123131A - 遮光瞳を有する高開口率対物光学系 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】光線束を通過させる開口部を有さない少なくとも1枚の鏡S1を有する第1部分対物光学系100と、少なくとも1枚の1次凹面鏡SK1と1枚の2次凹面鏡SK2を有する第2部分対物光学系200とを含み、1次凹面鏡SK1と2次凹面鏡SK2が光線束を通過させる開口部を有する。
【選択図】図1q
Description
凹面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凹面鏡−凸面鏡
平面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凹面鏡−凸面鏡
凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡
平面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡
凸面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡
平面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凹面鏡
凸面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凸面鏡−凹面鏡
平面鏡−凸面鏡−凹面鏡−凸面鏡−凸面鏡−凹面鏡
で表される条件を満たす、即ち、
の比が
の比とほぼ一致する条件を満たす直径を有することが提案される。ここでd1は2次凹面鏡の直径、d2は第3の鏡の直径、Z1は2次凹面鏡の表面から2次中間像までの距離、Z2はは第3の鏡の表面から2次中間像までの距離を示す。
像側開口数NAは以下の数式で表せる。
NA = n0*sinΘmax
光線によって形成される角度を表す。EUV光を用いた照明システムの場合、媒体は真空であり、屈折率n0=1となる。Θmaxは、投影対物光学系2101からの周辺光線によって形成される角度を表す。
ここで、Rは、解像可能な投影対物光学系の最小寸法を表し、kは、寸法に依存しない定数で、処理係数と呼ぶ。処理係数kは、例えば、抵抗物質の極性特性等の各種要件によって変動する。通常、kは0.4から0.8の範囲にあるが、特殊なケースでは0.4を上回る、或いは0.8を下回ることもある。
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
鏡3:鏡S5
鏡4:鏡S6
鏡5:鏡S3
鏡6:鏡S4
鏡7:1次凹面鏡SK1
鏡8:2次凹面鏡SK2
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
鏡3:鏡S5
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鏡7:1次凹面鏡SK1
鏡8:2次凹面鏡SK2
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
鏡3:鏡S5
鏡4:鏡S6
鏡5:鏡S3
鏡6:鏡S4
鏡7:1次凹面鏡SK1
鏡8:2次凹面鏡SK2
凸鏡−凹鏡−凸鏡−凹鏡−凸鏡−凹鏡−凹鏡−凹鏡
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
鏡3:鏡S5
鏡4:鏡S6
鏡5:鏡S3
鏡6:鏡S4
鏡7:1次凹面鏡SK1
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鏡1:鏡S1
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鏡7:1次凹面鏡SK1
鏡8:2次凹面鏡SK2
凸鏡−凹鏡−凸鏡−凹鏡−凸鏡−凹鏡−凹鏡−凹鏡
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
鏡3:鏡S5
鏡4:鏡S6
鏡5:鏡S3
鏡6:鏡S4
鏡7:1次凹面鏡SK1
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鏡1:鏡S10
鏡2:鏡S20
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鏡4:鏡S60
鏡5:鏡S70
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鏡9:1次凹面鏡SK1
鏡10:2次凹面鏡SK2
凹鏡―凹鏡―凸鏡−凹鏡−凸鏡−凹鏡
平鏡−凹鏡―凸鏡−凹鏡−凸鏡−凹鏡
フィールド中心点へ進む主光線CRの最大入射角度ΘCR(max)は、鏡S10、鏡S20、鏡S30、鏡S40、鏡S50、鏡S60、鏡S70、鏡S80、鏡SK1、鏡SK2において20°である。鏡S10、鏡S20、鏡S30、鏡S40、鏡S50、鏡S60、鏡S70、鏡S80、鏡SK1、鏡SK2に対する各光線の最大入射角度Θmax(max)は27.7°である。鏡S10、鏡S20、鏡S30、鏡S40、鏡S50、鏡S60、鏡S70、鏡S80、鏡SK1、鏡SK2それぞれに入射する光線の最大角度範囲ΔΘmaxは、20.9°である。子午面における最大の鏡の寸法は884mmである。x軸方向の最大の鏡の寸法は927mmである。
鏡1:鏡S10
鏡2:鏡S20
鏡3:鏡S50
鏡4:鏡S60
鏡5:鏡S70
鏡6:鏡S80
鏡7:鏡S30
鏡8:鏡S40
鏡9:1次凹面鏡SK1
鏡10:2次凹面鏡SK2
鏡1:鏡S10
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鏡8:鏡S40
鏡9:1次凹面鏡SK1
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鏡5:鏡S70
鏡6:鏡S80
鏡7:鏡S30
鏡8:鏡S40
鏡9:1次凹面鏡SK1
鏡10:2次凹面鏡SK2
の条件が保たれる場合、面遮光は最小となり、図13に示す実施例の10%ではなく、図14に示す実施例においては僅か8%となる。ここで、d1は最後の鏡1030の直径であり、d2は最後から4番目の鏡1000の直径であり、z1は第1の鏡表面から中間像への光軸HAに沿った距離であり、z2は、鏡1000の光学面から中間像z2への光軸HAに沿った距離である。
鏡1:鏡S10
鏡2:鏡S20
鏡3:鏡S50
鏡4:鏡S60
鏡5:鏡S70
鏡6:鏡S80
鏡7:鏡S30
鏡8:鏡S40
鏡9:1次凹面鏡SK1
鏡10:2次凹面鏡SK2
対象物:対象物面
鏡1:鏡S100
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鏡3:鏡S300
鏡4:鏡S400
鏡5:鏡S500
絞り:開口絞り
鏡6:鏡S600
像:結像面
対象物:対象物面
鏡1:鏡S100
鏡2:鏡S200
鏡3:鏡S300
鏡4:鏡S400
鏡5:鏡S500
絞り:開口絞り
鏡6:鏡S600
像:結像面
鏡S1は凸面鏡。
鏡S2は凹面鏡。
鏡S5は凸面鏡。
鏡S6は凹面鏡。
鏡S3は凸面鏡。
鏡S4は凹面鏡。
鏡SK1は凹面鏡。
鏡SK2は凹面鏡。
対象物:対象物面
鏡1:鏡MIR1
鏡2:鏡MIR2
鏡3:鏡MIR3
鏡4:鏡MIR4
鏡5:鏡MIR5
鏡6:鏡MIR6
鏡7:鏡MIR7
鏡8:鏡MIR8
鏡9:鏡MIR9
鏡10:鏡MIR10
絞り:開口絞り
像:結像面
対象物:対象物面
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絞り:開口絞り
像:結像面
対象物:対象物面
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絞り:開口絞り
像:結像面
対象物:対象物面
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
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鏡5:鏡S5
鏡6:鏡S6
鏡7:凸面鏡SK1
鏡8:凹面鏡SK2
絞り:開口絞り
鏡1:鏡S1
鏡2:鏡S2
鏡3:鏡S3
鏡4:鏡S4
鏡5:鏡S5
鏡6:鏡S6
鏡7:凸面鏡SK1
鏡8:凹面鏡SK2
絞り:開口絞り
200 第2部分対物光学系
300 第3部分対物光学系
2100 マイクロリソグラフィー投影露光装置
2101 投影対物光学系
2102 結像面
2103 対象物面
2105 光軸
2110 光源
2120 照明システム
2130 支持構造部(作業面)
2140 マスク
2150 基板
2152 光線束
2400 開口部を有さない部分対物光学系
2450 開口部を有さない部分対物光学系
2500 開口部を有する部分対物光学系
2550 開口部を有する部分対物光学系
2912 鏡上に位置する遮光絞り
2926 鏡の間に位置する遮光絞り
2930 鏡の間に位置する遮光絞り
2700 リングフィールド
2705 フィールド中心点
10000 第1部分対物光学系(第1小対物光学系)
20000 第2部分対物光学系(第2小対物光学系)
29000 第1小対物光学系
29010 第2小対物光学系
8100 第1部分対物光学系
8200 第2部分対物光学系
また、さらに以下のような実施形態も考えられる。
(4)
光線束を通過させる開口部を有さない鏡(S1)を少なくとも1枚備える第1部分対物光学系(100)と、
少なくとも1枚の1次鏡(SK1)と1枚の2次鏡(SK2)を有する第2部分対物光学系(200)とを含み、
前記1次鏡(SK1)と前記2次鏡(SK2)が、前記光線束を通過させる開口部を有し、
開口絞り(B)が、前記第1部分対物光学系(100)に配置される、
結像光学系。
(5)
マイクロリソグラフィー投影対物光学系が、対象物面(10)と結像面(20)を備え、
前記光線束が、前記対象物面(10)から前記結像面(20)へ進む光路内において、前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系を通過する、
(4)記載の結像光学系。
(6)
前記対物光学系は、像側開口数NAが、NA>0.4である
(4)又は(5)迄の何れかに記載の結像光学系。
(7)
前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系が、軸(HA)を有し、
前記光線束が、前記鏡(S1)の反射面に入射し、
少なくとも前記反射面が、前記鏡(S1)の軸外部位によって構成される、
(4)から(6)迄の何れかに記載の結像光学系。
(8)
前記第1部分対物光学系が、前記鏡(S1)の下流側で、前記1次凹面鏡(SK1)の上流の光路内に配置される第2の鏡(S2)を備え、
前記第2の鏡(S2)が、光線束を通過させる開口部を有さない、
(4)から(7)迄の何れかに記載の結像光学系。
(9)
前記光線束が、前記第2の鏡(S2)の第2の反射面に入射し、
少なくとも前記第2の反射面が、前記第2の鏡(S2)の第2の軸外部位によって構成される、
(8)に記載の結像光学系。
(10)
前記開口絞り(B)が、前記第1部分対物光学系(100)上に若しくは近傍に配置される、
(4)から(9)迄の何れかに記載の結像光学系。
(11)
前記第2部分対物光学系(200)の前記1次鏡(SK1)と前記2次鏡(SK2)は、凹面鏡として構成される、
(4)から(10)迄の何れかに記載の結像光学系。
(12)
前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の瞳面に配置される、
(4)から(11)迄の何れかに記載の結像光学系。
(13)
前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の二つの鏡の間に配置される、
(4)から(12)迄の何れかに記載の結像光学系。
(14)
前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の鏡に直接配置される、
(4)から(12)迄の何れかに記載の結像光学系。
(15)
前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の鏡の上流に直接配置される、
(4)から(13)迄の何れかに記載の結像光学系。
(16)
前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の第2の鏡(S20)上の前記結像ビーム経路に配置される、
(4)から(15)迄の何れかに記載の結像光学系。
(17)
前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の第1の鏡(S10)上の前記結像ビーム経路に配置される、
(4)から(15)迄の何れかに記載の結像光学系。
(18)
前記第1部分対物光学系が、前記第1の鏡(S1)、前記第2の鏡(S2)、第5の鏡(S5)、第6の鏡(S6)からなる4枚の鏡を備え、
前記光路において、前記第5の鏡(S5)は、前記第2の鏡(S2)の下流に位置し、前記第6の鏡(S6)は、前記第5の鏡(S5)の下流に位置し、前記第6の鏡(S6)は、前記第1次凹面鏡(SK1)の上流に位置する、
(4)から(17)迄の何れかに記載の結像光学系。
(19)
前記4枚の鏡(S1、S2、S5、S6)は、前記第1部分対物光学系内の前記対象物面から前記結像面に進む光路に位置する順に、
凹面鏡―凸面鏡―凸面鏡―凹面鏡、又は
凸面鏡―凹面鏡―凸面鏡―凹面鏡、又は
凹面鏡―凹面鏡―凸面鏡―凹面鏡、又は
平面鏡―凹面鏡―凸面鏡―凹面鏡である、
(18)記載の結像光学系。
(20)
開口絞りが、前記第1部分対物光学系(100)内の前記第5の鏡(S5)上に設けられる、
(18)及び(19)の何れかに記載の結像光学系。
(21)
前記対物光学系は、開口絞り及び陰影絞りを備え、
前記陰影絞りは、前記結像光学系の各鏡の位置から離間している絞り面内に設けられる、
(4)から(20)迄の何れかに記載の結像光学系。
(22)
前記開口絞り及び前記陰影絞りは、別々の絞り面に設けられる、(21)記載の結像光学系。
(23)
対物光学系が、対象物面(10)及び結像面(20)を備え、
光線束が、前記対象物面(10)から前記結像面(20)へ進む光路において、結像光学系を通過し、
光線束を通過させる開口部を有さない、少なくとも1枚の鏡(S100、S200、S300、S400)を有する第1部分対物光学系(100)と、
少なくとも1枚の1次鏡(S500)と、2次鏡(S600)とを有する第2部分対物光学系(200)とを含み、
前記1次鏡(S500)と前記2次鏡(S600)とは、前記光線束を通過させる開口部を有し、
前記第1部分対物光学系が、4枚の鏡(S100からS400)を備え、前記第2部分対物光学系が、2枚の鏡(S500及びS600)を備える、6枚の鏡(S100からS600)を備え、
像側開口数NAが、NA>0.4であり、
像側フィールドの最大寸法(Dx、Dy)が、1mmを上回る、
結像光学系。
(24)
前記結像光学系は、反射式対物光学系として構成される、
(23)に記載の結像光学系。
(25)
前記第1部分対物光学系の前記鏡(S100からS400)の一つは、光線束を通過させる開口部を有する
(23)又は(24)に記載の結像光学系。
(26)
像側開口数が、0.5である、
(23)から(25)迄の何れかに記載の結像光学系。
(27)
陰影絞り(AB)が、前記第3の鏡(S300)と前記第4の鏡(S400)との間の前記光線束の光路に配置される、
(23)から(26)迄の何れかに記載の結像光学系。
(28)
前記陰影絞り(AB)は、前記開口部の総開口半径の40%を下回る陰影半径に達する、
(27)に記載の結像光学系。
(29)
開口絞り(B)が、前記第5の鏡(S500)と前記第6の鏡(S600)との間の前記光線束の光路に配置される、
(23)から(28)迄の何れかに記載の結像光学系。
(30)
前記光線束の光路に配置される前記第2の鏡(S200)は、凹面鏡として構成される、
(23)から(29)迄の何れかに記載の結像光学系。
(31)
前記光線束の光路に配置される前記第5の鏡(S500)は、凸面鏡として構成される、
(23)から(30)迄の何れかに記載の結像光学系。
(32)
動作波長が、13.5nmである、
(23)から(31)迄の何れかに記載の結像光学系。
(33)
縮小結像倍率が、8倍である、
(23)から(32)迄の何れかに記載の結像光学系。
(34)
像フィールドの寸法が、13mmx1mmである、
(23)から(33)迄の何れかに記載の結像光学系。
(35)
像側フィールド半径が、9.75mmである、
(23)から(34)迄の何れかに記載の結像光学系。
(36)
像側フィールド半径が、10mm乃至50mmの範囲である、
(23)から(35)迄の何れかに記載の結像光学系。
(37)
最大主光線角度が、前記鏡(S100からS600)の一つにおいて35度である、
(23)から(36)迄の何れかに記載の結像光学系。
(38)
最大入射角が、前記鏡(S100からS600)の一つにおいて40%である、
(23)から(37)迄の何れかに記載の結像光学系。
(39)
入射角の最大範囲が、前記鏡(S100からS600)の一つにおいて25度を下回る、
(23)から(38)迄の何れかに記載の結像光学系。
(40)
前記物体面(10)と前記像面(20)との間の距離が、2メートルを下回る、
(23)から(39)迄の何れかに記載の結像光学系。
(41)
前記物体面(10)と前記像面(20)との間に、中間像がある、
(23)から(40)迄の何れかに記載の結像光学系。
(42)
前記中間像が、幾何学的に最も近い第2部分対物光学系の鏡への光軸に沿った距離が、対物光学系全長の15%を下回る、
(23)から(41)迄の何れかに記載の結像光学系。
(43)
前記第1部分対物光学系の長さは、結像光学系の全長の16%を上回る、
(23)から(42)迄の何れかに記載の結像光学系。
(44)
対象物面を結像面に結像する結像光学系であって、
前記対象物面から前記結像面に結像ビーム経路に沿って結像放射を導く複数の素子を備え、
前記複数の素子は、第1部分対物光学系及び第2部分対物光学系を備え、
前記第2部分対物光学系は、マンジャン鏡を備える、
結像光学系。
(45)
前記マンジャン鏡は、前記結像面に最も近い、前記結像光学系の光学素子である、
(44)に記載の結像光学系。
(46)
前記第1部分対物光学系は、前記結像ビーム経路に沿った結像放射を通過させる開口部を有さない少なくとも一つの鏡を備える、
(44)または(45)迄の何れかに記載の結像光学系。
(47)
前記第2部分対物光学系は、前記結像ビーム経路に沿った結像放射を通過させる開口部を有する少なくとも一つの鏡を備える、
(44)から(46)迄の何れかに記載の結像光学系。
(48)
前記マンジャン鏡が、前記第2部分対物光学系の前記結像ビーム経路における第1の鏡である、
(44)から(47)迄の何れかに記載の結像光学系。
(49)
前記結像光学系は、10の鏡を備える、
(44)から(48)迄の何れかに記載の結像光学系。
(50)
前記対物光学系は、8倍の縮小倍率を持つ、
(44)から(49)迄の何れかに記載の結像光学系。
(51)
前記マンジャン鏡と前記結像面との間の像側動作距離は、10mmである、
(44)から(50)迄の何れかに記載の結像光学系。
Claims (53)
- 対象物面を結像面に結像する結像光学系であって、
前記対象物面から前記結像面に結像ビーム経路に沿って結像放射を導く複数の素子を備え、
前記光学系の子午面において、前記結像ビーム経路は、各素子表面において22°を下回る最大入射角を有し、
前記光学系は、少なくとも0.4の像側開口数を有し、
前記光学系は、反射式対物光学系であり、
前記素子の少なくとも一つは、前記結像ビーム経路に沿った結像放射を通過させる開口部を有し、
前記開口部は、前記光学系の瞳面において、開口半径の30%以下の遮光にする、
結像光学系。 - 前記結像ビーム経路に沿った前記結像放射を通過させる開口部を有する、少なくとも2つの素子を有する、
請求項1に記載の結像光学系。 - 前記複数の素子の少なくとも一つは、前記結像ビーム経路に沿った前記結像放射を通過させる開口部を有さない、請求項1又は請求項2に記載の結像光学系。
- 光線束を通過させる開口部を有さない鏡(S1)を少なくとも1枚備える第1部分対物光学系(100)と、
少なくとも1枚の1次鏡(SK1)と1枚の2次鏡(SK2)を有する第2部
分対物光学系(200)とを含み、
前記1次鏡(SK1)と前記2次鏡(SK2)が、前記光線束を通過させる開口部を有し、
開口絞り(B)が、前記第1部分対物光学系(100)に配置される、
結像光学系。 - マイクロリソグラフィー投影対物光学系が、対象物面(10)と結像面(20)を備え、
前記光線束が、前記対象物面(10)から前記結像面(20)へ進む光路内において、前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系を通過する、
請求項4記載の結像光学系。 - 前記対物光学系は、像側開口数NAが、NA>0.4である
請求項4又は請求項5迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記マイクロリソグラフィー投影対物光学系が、軸(HA)を有し、
前記光線束が、前記鏡(S1)の反射面に入射し、
少なくとも前記反射面が、前記鏡(S1)の軸外部位によって構成される、
請求項4から請求項6迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記第1部分対物光学系が、前記鏡(S1)の下流側で、前記1次凹面鏡(SK1)の上流の光路内に配置される第2の鏡(S2)を備え、
前記第2の鏡(S2)が、光線束を通過させる開口部を有さない、
請求項4から請求項7迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記光線束が、前記第2の鏡(S2)の第2の反射面に入射し、
少なくとも前記第2の反射面が、前記第2の鏡(S2)の第2の軸外部位によって構成される、
請求項8に記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)が、前記第1部分対物光学系(100)上に若しくは近傍に配置される、
請求項4から請求項9迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記第2部分対物光学系(200)の前記1次鏡(SK1)と前記2次鏡(SK2)は、凹面鏡として構成される、
請求項4から請求項10迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の瞳面に配置される、
請求項4から請求項11迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の二つの鏡の間に配置される、
請求項4から請求項12迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の鏡に直接配置される、
請求項4から請求項12迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の鏡の上流に直接配置される、
請求項4から請求項13迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の第2の鏡(S20)上の前記結像ビーム経路に配置される、
請求項4から請求項15迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り(B)は、前記第1部分対物光学系(100)の第1の鏡(S10)上の前記結像ビーム経路に配置される、
請求項4から請求項15迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記第1部分対物光学系が、前記第1の鏡(S1)、前記第2の鏡(S2)、第5の鏡(S5)、第6の鏡(S6)からなる4枚の鏡を備え、
前記光路において、前記第5の鏡(S5)は、前記第2の鏡(S2)の下流に位置し、前記第6の鏡(S6)は、前記第5の鏡(S5)の下流に位置し、前記第6の鏡(S6)は、前記第1次凹面鏡(SK1)の上流に位置する、
請求項4から請求項17迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記4枚の鏡(S1、S2、S5、S6)は、前記第1部分対物光学系内の前記対象物面から前記結像面に進む光路に位置する順に、
凹面鏡―凸面鏡―凸面鏡―凹面鏡、又は
凸面鏡―凹面鏡―凸面鏡―凹面鏡、又は
凹面鏡―凹面鏡―凸面鏡―凹面鏡、又は
平面鏡―凹面鏡―凸面鏡―凹面鏡である、
請求項18記載の結像光学系。 - 開口絞りが、前記第1部分対物光学系(100)内の前記第5の鏡(S5)上に設けられる、
請求項18及び請求項19の何れかに記載の結像光学系。 - 前記対物光学系は、開口絞り及び陰影絞りを備え、
前記陰影絞りは、前記結像光学系の各鏡の位置から離間している絞り面内に設けられる、
請求項4から請求項20迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記開口絞り及び前記陰影絞りは、別々の絞り面に設けられる、請求項21記載の結像光学系。
- 対物光学系が、対象物面(10)及び結像面(20)を備え、
光線束が、前記対象物面(10)から前記結像面(20)へ進む光路において、結像光学系を通過し、
光線束を通過させる開口部を有さない、少なくとも1枚の鏡(S100、S200、S300、S400)を有する第1部分対物光学系(100)と、
少なくとも1枚の1次鏡(S500)と、2次鏡(S600)とを有する第2部分対物光学系(200)とを含み、
前記1次鏡(S500)と前記2次鏡(S600)とは、前記光線束を通過させる開口部を有し、
前記第1部分対物光学系が、4枚の鏡(S100からS400)を備え、前記第2部分対物光学系が、2枚の鏡(S500及びS600)を備える、6枚の鏡(S100からS600)を備え、
像側開口数NAが、NA>0.4であり、
像側フィールドの最大寸法(Dx、Dy)が、1mmを上回る、
結像光学系。 - 前記結像光学系は、反射式対物光学系として構成される、
請求項23に記載の結像光学系。 - 前記第1部分対物光学系の前記鏡(S100からS400)の一つは、光線束を通過させる開口部を有する
請求項23又は請求項24に記載の結像光学系。 - 像側開口数が、0.5である、
請求項23から請求項25迄の何れかに記載の結像光学系。 - 陰影絞り(AB)が、前記第3の鏡(S300)と前記第4の鏡(S400)との間の前記光線束の光路に配置される、
請求項23から請求項26迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記陰影絞り(AB)は、前記開口部の総開口半径の40%を下回る陰影半径に達する、
請求項27に記載の結像光学系。 - 開口絞り(B)が、前記第5の鏡(S500)と前記第6の鏡(S600)との間の前記光線束の光路に配置される、
請求項23から請求項28迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記光線束の光路に配置される前記第2の鏡(S200)は、凹面鏡として構成される、
請求項23から請求項29迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記光線束の光路に配置される前記第5の鏡(S500)は、凸面鏡として構成される、
請求項23から請求項30迄の何れかに記載の結像光学系。 - 動作波長が、13.5nmである、
請求項23から請求項31迄の何れかに記載の結像光学系。 - 縮小結像倍率が、8倍である、
請求項23から請求項32迄の何れかに記載の結像光学系。 - 像フィールドの寸法が、13mmx1mmである、
請求項23から請求項33迄の何れかに記載の結像光学系。 - 像側フィールド半径が、9.75mmである、
請求項23から請求項34迄の何れかに記載の結像光学系。 - 像側フィールド半径が、10mm乃至50mmの範囲である、
請求項23から請求項35迄の何れかに記載の結像光学系。 - 最大主光線角度が、前記鏡(S100からS600)の一つにおいて35度である、
請求項23から請求項36迄の何れかに記載の結像光学系。 - 最大入射角が、前記鏡(S100からS600)の一つにおいて40%である、
請求項23から請求項37迄の何れかに記載の結像光学系。 - 入射角の最大範囲が、前記鏡(S100からS600)の一つにおいて25度を下回る、
請求項23から請求項38迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記物体面(10)と前記像面(20)との間の距離が、2メートルを下回る、
請求項23から請求項39迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記物体面(10)と前記像面(20)との間に、中間像がある、
請求項23から請求項40迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記中間像が、幾何学的に最も近い第2部分対物光学系の鏡への光軸に沿った距離が、対物光学系全長の15%を下回る、
請求項23から請求項41迄の何れかに記載の結像光学系。 - 前記第1部分対物光学系の長さは、結像光学系の全長の16%を上回る、
請求項23から請求項42迄の何れかに記載の結像光学系。 - 対象物面を結像面に結像する結像光学系であって、
前記対象物面から前記結像面に結像ビーム経路に沿って結像放射を導く複数の素子を備え、
前記複数の素子は、第1部分対物光学系及び第2部分対物光学系を備え、
前記第2部分対物光学系は、マンジャン鏡を備える、
結像光学系。 - 前記マンジャン鏡は、前記結像面に最も近い、前記結像光学系の光学素子である、
請求項44に記載の結像光学系。 - 前記第1部分対物光学系は、前記結像ビーム経路に沿った結像放射を通過させる開口部を有さない少なくとも一つの鏡を備える、
請求項44または請求項45迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 前記第2部分対物光学系は、前記結像ビーム経路に沿った結像放射を通過させる開口部を有する少なくとも一つの鏡を備える、
請求項44から請求項46迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 前記マンジャン鏡が、前記第2部分対物光学系の前記結像ビーム経路における第1の鏡である、
請求項44から請求項47迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 前記結像光学系は、10の鏡を備える、
請求項44から請求項48迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 前記対物光学系は、8倍の縮小倍率を持つ、
請求項44から請求項49迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 前記マンジャン鏡と前記結像面との間の像側動作距離は、10mmである、
請求項44から請求項50迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 波長が193nm以下のマイクロリソグラフィー投影光学系として、構成される、
請求項1から請求項51迄の何れかにに記載の結像光学系。 - 前記結像光学系は、マイクロリソグラフィー投影露光装置、顕微鏡又は検査システムの一部である、
請求項1から請求項52迄の何れかにに記載の結像光学系。
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