JP5597246B2 - 結像光学系及びこの種の結像光学系を備えたマイクロリソグラフィ用の投影露光装置 - Google Patents
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Description
ここでx及びyは、座標原点を起点とし、非球面の使用面領域の外側に位置することができる基本球面上の座標を表す。zは、基本非球面の矢高又はサジッタを表す。RDYは、基本非球面の半径、言い換えれば、座標原点における面曲率の逆数である。CCYは、円錐パラメータである。
zM2>zM4>zM3>zM1>zM6>zM5
この場合、x及びyは、それぞれの面上の座標を表す。この場合、局所座標系は、広域基準系に対してy座標方向に変位し、x軸の回りに傾斜される。
zM4>zM2>zM3>zM1>zM6>zM5
5 物体平面
8 像視野
9 像平面
36 結像光学系
M1、M2、M3、M4、M5、M6 ミラー
Claims (15)
- 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に結像する複数のミラー(M1からM6)を備えた結像光学系(36;39;40)であって、
物体視野(4)の後の結像光(3)の結像ビーム経路に最初のミラー(M1)を備え、 像視野(8)の前の結像光(3)の前記結像ビーム経路に最後のミラー(M6)を備え、
前記ミラー(M1からM6)の各々から前記像平面(9)までの、更なる折り返しミラーを含まない非折り返し結像ビーム経路において、前記結像光(3)を誘導するように構成されたミラー(M1からM6)の各々の使用領域(23)上への前記物体視野(4)の中心点に属する主光線(16)の入射点が、像平面(9)からのミラー間隔(zM)を有し、
前記最初のミラー(M1)のミラー間隔(zM1)は、前記最後のミラー(M6)のミラー間隔(zM6)よりも大きく、
最後から4番目のミラー(M3)のミラー間隔(zM3)が、前記最初のミラー(M1)の前記ミラー間隔(zM1)よりも大きく、
互いに離間した前記物体視野(4)の各点から発する主光線(16)が、入射瞳の負の後部焦点を与える相互に発散するビーム進路を有する、
ことを特徴とする結像光学系。 - ミラー(M1からM6)のうちの少なくとも1つの反射面が、回転対称関数によって説明することができない固定の自由曲面として設計され、
自由曲面が、結像光(3)を誘導するように構成された該自由曲面の使用領域(23)の各自由曲面要素(20)に対する法線(FN)が非球面(21)の対応する非球面要素(22)に対する法線(FNB)と最大で70μradの角度(α)を取るような方法で、回転対称関数によって説明することができる該自由曲面からの最小偏位を有する非球面(21)とは異なる、
ことを特徴とする請求項1に記載の結像光学系。 - 前記自由曲面は、それからの最小偏位を有する前記非球面(21)から結像光学系(7;36;37;38;39;40)が設計される対象である前記結像光(3)の波長よりも大きく偏位することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の結像光学系。
- 結像光学系(7;36;37;38;39;40)が、厳密に6つのミラー(M1からM6)を有することを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 全ての前記ミラー(M1からM6)の前記反射面は、自由曲面として構成されることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 0.3よりも大きい像側の開口数を特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記像視野(8)は、少なくとも1mmの広がりを有する辺(29,30,34,35)によって境界が定められた区域を覆うことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の結像光学系。
- λが、使用される前記結像光(3)の波長である時に、25mλの最大波面誤差(rms)を特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 1.1nmの最大歪曲を特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 3mradの最小テレセントリック性を特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 結像光学系(7;36;37;38;39;40)が、マイクロリソグラフィのための投影光学系として構成されることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 請求項11に記載の投影光学系を備え、かつ
結像光学系(7)の物体視野(4)に向けて照明光(3)を誘導するための照明光学系(6)を備える、
ことを特徴とする光学系。 - 請求項12に記載の光学系を備え、かつ
照明及び結像光(3)のための光源(2)を備える、
ことを特徴とするマイクロリソグラフィのための投影露光装置。 - 前記光源(2)は、5と30nmの間の波長を有する照明光を生成するように構成されることを特徴とする請求項13に記載の投影露光装置。
- 構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(10)及びウェーハ(11)を準備する段階と、
請求項13又は請求項14に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル(10)上の構造を前記ウェーハ(11)の感光層上に投影する段階と、
前記ウェーハ(11)上に構造を生成する段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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