JP5946190B2 - 結像光学系及びこの種の結像光学系を有するマイクロリソグラフィのための投影露光装置 - Google Patents
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- 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)内に、該物体視野(4)と該像視野(8)の間の結像光(3)のビーム経路を通じて結像する複数のミラー(M1からM8)を備え、該物体視野(4)と該像視野(8)の間の該結像光(3)の該ビーム経路内の最後のミラー(M8)の光学的使用領域が、該結像光(3)の通過のための貫通開口部を有する結像光学系(7)であって、
物体視野(4)と像視野(8)の間の結像光(3)のビーム経路内の結像光学系(7)の最後から2番目のミラー(M7)が、該像視野(8)の前で該結像光(3)の光束(22)の外側に配置され、
前記最後から2番目のミラー(M7)の光学的使用領域内の該最後から2番目のミラー(M7)の反射面が、前記結像光(3)の通過のための貫通開口部を持たず、
結像光学系(7)の複数のミラー(M1からM8)が、6つよりも多いミラーを含む、 ことを特徴とする結像光学系(7)。 - 物体平面(5)の物体視野(4)を像平面(9)の像視野(8)に結像する複数のミラー(M1からM8)を備えた結像光学系(7)であって、
10%よりも低い瞳掩蔽率がもたらされるような結像光学系(7)の光学構成要素の配列と、
結像光学系(7)の複数のミラー(M1からM8)が、6つよりも多いミラーを含むこと、
を特徴とする結像光学系(7)。 - 結像光学系(7)の前記光学構成要素の前記配列は、5%よりも低い瞳掩蔽率がもたらされるようなものであることを特徴とする請求項2に記載の結像光学系。
- 少なくとも0.5である像側開口数(NA)を特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記結像光(3)の前記ビーム経路内の結像光学系(7)の最後から2番目のミラー(M7)の、前記像視野(8)からの作動間隔(dw)と像側開口数(NA)との積が、少なくとも10mmであることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 少なくとも1つの中間像が、前記物体視野(4)と前記像視野(8)の間の前記結像光(3)の前記ビーム経路に存在することを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(4)と前記像視野(8)の間の前記ビーム経路内の前記最後から2番目のミラー(M7)上の個々の点上の平均入射角が、このミラー(M7)の使用される反射面上の全ての点に対して25度よりも小さいことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記物体視野(4)と前記像視野(8)の間の前記ビーム経路内の前記最後から2番目のミラー(M7)上の個々の点上の入射角の帯域幅(BWi)と、
前記像視野(8)の最大視野寸法と、
の比が、このミラー(M7)の使用される反射面上の全ての点に対して1.00度/mmよりも小さいことを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の結像光学系。 - 中心物体視野点の主光線(16)が、前記物体平面(5)に対する法線(N)と5度よりも大きい角度(α)をなすことを特徴とする請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の結像光学系。
- 前記結像光学系(7)の最後から2番目のミラー(M7)が、凸であることを特徴とする請求項1から請求項9のいずれか1項に記載の結像光学系。
- マイクロリソグラフィのための投影光学系として構成されることを特徴とする請求項1から請求項10のいずれか1項に記載の結像光学系。
- マイクロリソグラフィのための投影露光装置であって、
請求項11に記載の結像光学系(7)を有し、
照明及び結像光(3)のための光源(2)を有し、
前記結像光(3)を前記結像光学系(7)の物体視野(4)に案内するための照明光学系(6)を有する、
ことを特徴とする投影露光装置。 - 前記光源(2)は、5nmと30nmの間の波長を有する結像光(3)を生成するように構成されることを特徴とする請求項12に記載の投影露光装置。
- 構造化構成要素を生成する方法であって、
レチクル(10)及びウェーハ(11)を準備する方法段階と、
請求項12又は請求項13に記載の投影露光装置を用いて前記レチクル(10)上の構造を前記ウェーハ(11)の感光層上に投影する方法段階と、
前記ウェーハ(11)上に微細構造又はナノ構造を生成する方法段階と、
を含むことを特徴とする方法。
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