JP2014096513A - 半導体発光素子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 ガリウムヒ素系材料のp型半導体層10、n型半導体層20及び活性層30を備える半導体発光素子1であって、活性層30は、n型半導体層10とp型半導体層20との層間に配置され、複数の井戸層31〜34及び障壁層35〜39を交互に積層した多重量子井戸構造を有する。井戸層で発光される光の波長は井戸層31〜34ごとに異なり、各井戸層の量子準位は第1量子準位のみ持つ。
【選択図】 図1
Description
本発明に好適となる実施形態について図面を用いながら詳細に説明する。
図1は本実施形態におけるスーパールミネッセントダイオードの外観を示す図であり、図2は図1のX−X線を通る断面を示す図である。
このようなスーパールミネッセントダイオード1では、第1電極層51及び第2電極層53に電流が印加された場合、活性層30にキャリアが注入され、当該キャリアの注入によって各井戸層31〜34で発光が生じる。
以上のとおり、本実施形態におけるスーパールミネッセントダイオード1は、n型半導体層10とp型半導体層20との層間に配置される多重量子井戸構造の活性層30を備えており、この活性層30における複数の井戸層31〜34ごとに発光波長が異なり、当該井戸層31〜34の量子準位は第1量子準位のみ持つ。
上記実施形態が一例として説明された。しかしながら本発明は上記実施形態に限定されるものではない。
10・・・n型半導体層
20・・・p型半導体層
30・・・活性層
31〜34・・・井戸層
35〜39・・・障壁層
41,42・・・キャリアブロック層
Claims (3)
- ガリウムヒ素系材料のp型半導体層、n型半導体層及び活性層を備える半導体発光素子であって、
前記活性層は、前記n型半導体層と前記p型半導体層との層間に配置され、複数の井戸層及び障壁層を交互に積層した多重量子井戸構造を有し、
前記井戸層で発光される光の波長は前記井戸層ごとに異なり、
各前記井戸層の量子準位は第1量子準位のみ持つ
ことを特徴とする半導体発光素子。 - 各前記井戸層の厚さは、55nm以下である
ことを特徴とする請求項1に記載の半導体発光素子。 - 各前記井戸層にはインジウムが含まれる
ことを特徴とする請求項2に記載の半導体発光素子。
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Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016098273A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | ソニー株式会社 | 活性層構造、半導体発光素子および表示装置 |
WO2017110017A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | ソニー株式会社 | 発光素子および表示装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000022203A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光ダイオード |
JP2009124009A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光半導体装置 |
JP2010141039A (ja) * | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Hamamatsu Photonics Kk | スーパールミネッセントダイオード |
JP2014082482A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Canon Inc | 光半導体素子とその駆動方法、および前記光半導体素子を有する光干渉断層撮像装置 |
-
2012
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000022203A (ja) * | 1998-07-03 | 2000-01-21 | Oki Electric Ind Co Ltd | 発光ダイオード |
JP2009124009A (ja) * | 2007-11-16 | 2009-06-04 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 光半導体装置 |
JP2010141039A (ja) * | 2008-12-10 | 2010-06-24 | Hamamatsu Photonics Kk | スーパールミネッセントダイオード |
JP2014082482A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-05-08 | Canon Inc | 光半導体素子とその駆動方法、および前記光半導体素子を有する光干渉断層撮像装置 |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016098273A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2016-06-23 | ソニー株式会社 | 活性層構造、半導体発光素子および表示装置 |
JPWO2016098273A1 (ja) * | 2014-12-19 | 2017-09-28 | ソニー株式会社 | 活性層構造、半導体発光素子および表示装置 |
US10672944B2 (en) | 2014-12-19 | 2020-06-02 | Sony Corporation | Active layer structure, semiconductor light emitting element, and display apparatus |
WO2017110017A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2017-06-29 | ソニー株式会社 | 発光素子および表示装置 |
JPWO2017110017A1 (ja) * | 2015-12-25 | 2018-10-18 | ソニー株式会社 | 発光素子および表示装置 |
US11217721B2 (en) | 2015-12-25 | 2022-01-04 | Sony Corporation | Light-emitting device and display apparatus |
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