JP2014077894A - 反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法 - Google Patents

反射防止フィルム及び反射防止フィルムの製造方法 Download PDF

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Abstract

【課題】ケン化処理に耐え得る耐アルカリ性を具備し、反射防止性に優れるとともに、表面硬度の高い反射防止フィルムを提供する。
【解決手段】トリアセチルセルロースフィルムの片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムをケン化処理した際に、ハードコート層と反射防止層とが界面剥離しないことで、ケン化処理に耐え得る耐アルカリ性を具備する。
【選択図】なし

Description

本発明は、透明フィルム基材の片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムに関する。
液晶表示パネル、冷陰極線管パネル、プラズマディスプレイ等の各種表示パネルにおいて、外光の映りを防止し、画質を向上させるために、低屈折率性、耐擦傷性、塗工性、及び耐久性に優れた反射防止フィルムが求められている。例えばPVA−ヨウ素系偏光板においては、従来、PVA(ポリビニルアルコール)の薄いフィルムに光学的異方性の高いヨウ素をヨウ化カリ水溶液等の中で吸着させた後、ホウ酸水溶液中で、一方向に4倍程度延伸した偏光膜が使用されている。即ち、上記のようにして得られた偏光膜の両面に光学的透明性の高いトリアセチルセルロースフィルムを貼合して偏光板を得ることが行われている(偏光フィルムの応用;1986年(株)シーエムシー発行)。この場合、トリアセチルセルロースフィルムと偏光膜の接着性を高めるために、貼合前にトリアセチルセルロースフィルムをアルカリ水溶液などへ浸漬するケン化と呼ばれる処理が施される(特許文献1および特許文献2)。このとき、塗膜側もアルカリ水溶液が接触するので、特に耐アルカリ性の低い反射防止フィルムにおいては反射防止層が剥がれ落ちてハードコート層のみとなり、反射防止性能が損なわれるといった問題があった。
上記の問題を解決するため、反射防止層側に保護フィルムを貼合する対策が一般的にとられている(特許文献3)。これは、従来の偏光板製造設備及び工程を変えることなく、トリアセチルセルロースフィルムの偏光膜との貼合面のみをケン化処理することで、上記のケン化処理による不都合をなくす技術である。しかしながら、保護フィルムはケン化処理後に不要となり廃棄されるので、近年では廃棄物削減および不要なコスト削減のため、保護フィルムが無くてもケン化処理を含む製造工程に耐え得る耐アルカリ性と処理後の性能維持、特に耐擦傷性の高い低反射フィルムが求められている。
さらに、ケン化処理済みのトリアセチルセルロースフィルム上に成膜する技術が開示されている(特許文献4)。こちらも耐アルカリ性の低い反射防止層にアルカリ水溶液が接触することを回避できる方法であるが、浸漬後に成膜するので異物混入による欠陥の発生や従来の偏光板製造設備及び工程を変更しなければならない問題がある。
また、ラジカル重合性樹脂とカチオン重合性樹脂を混合し、干渉縞と密着性を良化する技術が開示されている(特許文献5)。しかしながら、前記技術ではカチオン重合性官能基を有する樹脂が水分の影響を受けて硬化具合にバラツキが発生したり、エージングが必要であるため生産性に欠ける問題がある。
また、透光性基材上に電離放射線硬化性樹脂を用いた塗布層を硬化して形成した反射防止層を有する反射防止フィルムにおいて、二重結合反応率と密着性および耐擦傷性の関係を見出し、これらを改良する手段が提案されている(特許文献6)。しかしながら、実際には酸素阻害が生じた場合において二重結合部分が酸素と結合しているにもかかわらず、二重結合部分が減少していることから架橋していると判断されてしまう問題があり、酸素と結合した部分は耐アルカリ性が低くケン化処理による不都合が発生する。
また、ハードコート樹脂をハーフキュアさせ、ハードコート樹脂中の反応性官能基を残したハードコート層を形成した後にそのハードコート層上に更に反射防止層を形成、硬化させることで層間の密着性を向上させたフィルム(特許文献7)、あるいはハードコート層をアルカリ処理のような前処理を行うことにより、ハードコート層と反射防止層の密着性を向上させたフィルムについての技術が開示されている(特許文献8)。しかしながら、特許文献7に記載の技術は、ハードコート層をハーフキュアさせた後に反射防止層を形成、硬化させるためハードコート層の硬化反応率が低く、高いハード性が得られない。また、特許文献8に記載の技術は、ハードコート層の硬化状態、特に硬化時の酸素濃度により密着向上の効果が大きく変化するため、安定した密着が得られないといった問題があった。
特許第4540414号 特開2009−181046号公報 特許第3925877号 特許第3466250号 特開2007−237483号公報 特開2007−213045号公報 特開2003−311911号公報 特開2002−265866号公報
上述のとおり、従来の反射防止フィルムは、耐アルカリ性が乏しくケン化処理によって反射防止層が剥がれ落ちたり、表面硬度が低下するという問題があった。
このため、本発明では、保護フィルム無しでもケン化処理に耐え得る耐アルカリ性を具備し、しかも反射防止性に優れるとともに、表面硬度の高い反射防止フィルムを提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、以下の構成によれば上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させたものである。
(第1の発明)
トリアセチルセルロースフィルムの片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムをケン化処理した際に、前記ハードコート層と前記反射防止層とが界面剥離しないことを特徴とする反射防止フィルム。
(第2の発明)
前記ケン化処理の条件が、前記トリアセチルセルロースフィルム表面の水接触角が40度未満になる条件であることを特徴とする第1の発明に記載の反射防止フィルム。
(第3の発明)
前記ハードコート層は酸素濃度を2000ppm未満の雰囲気で硬化させたことを特徴とする第1又は第2の発明に記載の反射防止フィルム。
(第4の発明)
前記反射防止層にペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを含有することを特徴とする第1乃至第3の発明のいずれかに記載の反射防止フィルム。
(第5の発明)
トリアセチルセルロースフィルムの片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、前記ハードコート層は酸素濃度を2000ppm未満の雰囲気で硬化させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
(第6の発明)
前記反射防止フィルムをケン化処理することを特徴とする第5の発明に記載の反射防止フィルムの製造方法。
本発明によれば、保護フィルム無しでもケン化処理に耐え得る耐アルカリ性を具備し、しかも反射防止性に優れるとともに、表面硬度の高い反射防止フィルムを提供することができる。
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
上記のとおり、本発明は、トリアセチルセルロースフィルムの片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムをケン化処理した際に、前記ハードコート層と前記反射防止層が界面剥離しないことを特徴とする反射防止フィルムである(第1の発明)。
本発明の反射防止フィルムは、該反射防止フィルムをケン化処理した際に、前記ハードコート層と前記反射防止層が界面剥離しないため、保護フィルム無しでもケン化処理に耐え得る耐アルカリ性を具備している。しかも反射防止性に優れ、かつ表面硬度の高い反射防止フィルムである。
(フィルム基材)
本発明においては、フィルム基材としてトリアセチルセルロ−スフィルムが用いられる。トリアセチルセルロースフィルムは、光学異方性(複屈折率)、透過率、ヘイズ(曇価)の点から好ましいフィルムである。また、フィルム厚さも特に制限はないが、20μm〜250μm程度が汎用的に使用される。
(ケン化処理)
本発明において、トリアセチルセルロースフィルム表面の水接触角が40度未満になるようにケン化処理を施すことが、偏光板製造工程において偏光膜との接着性低下防止の点から好ましい。トリアセチルセルロース表面の接触角が40度未満になるようにケン化処理する方法は特に限定されるものではなく、ケン化処理の各種条件(アルカリの種類、濃度、温度、浸漬時間など)を適宜調整することが好ましい。具体的には、トリアセチルセルロースフィルムを基材フィルムとして使用した反射防止フィルムを、10〜30重量%の水酸化ナトリウム水溶液や水酸化カリウム水溶液等のアルカリ水溶液に15秒〜120秒間浸漬した後、5秒〜100秒間水あるいは酸性溶液で洗浄する処理条件を例示することができる。
なお、本発明において、トリアセチルセルロースフィルム表面の水接触角は、協和界面化学社製の測定機 DM-701によって測定された値である。
(反射防止層)
本発明の反射防止層は特に限定されるものではなく、公知の反射防止層を使用することができるが、反射防止性、撥油撥水性、防汚性などの優れた効果を発現するフッ素系樹脂あるいはシリコーン系樹脂を反射防止層に含有させることが望ましく、表面強度や反射防止性(屈折率)の点からフッ素系樹脂を含有させることが特に好ましい。また、反射防止層を形成しうるマトリックス成分に、低屈折率材料であるポリシロキサン、中空シリカ、フッ化マグネシウム、フッ素樹脂などの微粒子を分散させ塗料とし、これを塗布等により形成した層であることができ、これらの中では中空シリカを用いることが好ましい。更に、屈折率の上昇を抑制するとともに架橋密度を高め、反射率を低くした場合においても表面硬度を向上させることができるペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを反射防止層に含有させることが好ましい。
本発明において、反射防止層に含有されるペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールの配合量は、反射防止層の全成分量に対して、2〜30重量%であることが好ましく、2〜15重量%であることがより好ましい。ペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールの配合量が少ないと架橋密度を十分に高められないため表面硬度の向上効果が低く、一方、多いと屈折率が高くなり反射防止性が低下する。
本発明の反射防止層に含有されるフッ素系樹脂としては、少なくとも1個の重合性の不飽和二重結合と、少なくとも1個のフッ素原子を有する化合物を挙げることができ、その具体例としては、例えば(1)テトラフロロエチレン、ヘキサフロロプロピレン、3,3,3−トリフロロプロピレン、クロロトリフロロエチレンなどのフロロオレフィン類;(2)アルキルパーフロロビニルエーテル類もしくはアルコキシアルキルパーフロロビニルエーテル類;(3)パーフロロ(メチルビニルエーテル)、パーフロロ(エチルビニルエーテル)、パーフロロ(プロピルビニルエーテル)、パーフロロ(ブチルビニルエーテル)、パーフロロ(イソブチルビニルエーテル)などのパーフロロ(アルキルビニルエーテル)類;(4)パーフロロ(プロポキシプロピルビニルエーテル)などのパーフロロ(アルコキシアルキルビニルエーテル)類;(5)トリフロロエチル(メタ)アクリレート、テトラフロロプロピル(メタ)アクリレート、オクタフロロペンチル(メタ)アクリレート、ヘプタデカフロロデシル(メタ)アクリレートなどのフッ素含有(メタ)アクリレート類;その他を挙げることができる。これらの化合物は、単独で、または2種以上を併用することができる。具体的な商品としては、反射防止膜形成用塗料としてJSR社から上市されているオプスターTU2205およびTU2276などを挙げることができる。
本発明の反射防止層には、効果を阻害しない範囲において、電離放射線硬化性樹脂、有機粒子、無機粒子、レベリング剤、消泡剤、滑剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、湿潤分散剤、レオロジーコントロール剤、酸化防止剤、防汚剤、帯電防止剤、導電剤、光重合開始剤などを必要に応じて含有してもよい。特に、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基を有する表面調整剤を添加することが好ましく、保護フィルム無しでアルカリ処理した場合においても反射防止層は表層に残存することができる(界面剥離しない)ため効果を持続することができる。
また、反射防止層の積層方法として、特に限定されるものではないが、グラビア塗工、マイクログラビア塗工、バー塗工、スライドダイ塗工、スロットダイ塗工、デイップコートなど、塗膜厚さの調整が容易なウェット塗工方式を用いることができる。
本発明の反射防止層を積層するにあたって、上記した各種塗工方式に適した粘度及び濃度になるように、有機溶媒を用いて任意の塗料濃度(固形分濃度)にすることが好ましい。希釈する有機溶剤の種類は特に限定されるものではないが、極性の高いフッ素樹脂との相溶性の点からケトン類、アルコール類が好ましく、更に塗工性の点からアルコール類を使用することがより好ましい。なお、アルコール類の中でも、tert−ブチルアルコール(2−メチルプロパン−2−オール)を使用することが、相溶性及び塗工性の点から特に好ましい。
本発明の反射防止層の厚さは通常80〜120nm程度であるが、特に限定されるものではなく、反射防止フィルムの使用される用途によって適宜調整することが望ましい。例えば、反射率・色相が重視される用途では80〜100nmに調整されることが一般的であり、色相よりも反射率が重視される用途では90〜120nmに調整されることが一般的である。
本発明において、トリアセチルセルロースフィルム上に積層するハードコート層は特に限定されるものではなく、クリアハードコート層、帯電防止機能を有するハードコート層、ハードコート層に微粒子を1種類あるいは2種類以上含有した防眩機能を有するハードコート層、帯電防止機能及び防眩機能を有するハードコート層、高い屈折率のハードコート層などを例示することができ、これらを単層あるいは2層以上積層して使用することができる。また、高屈折率層と組合わせることで更に反射率の低い低反射フィルムを提供することができる。
本発明において、反射防止フィルムをケン化処理した場合の反射防止層とハードコート層の接着性劣化防止の点から、トリアセチルセルロースフィルムに積層するハードコート層は、不活性ガスで塗膜表層の雰囲気を置換し、酸素濃度を2000ppm未満の雰囲気下で硬化させることが好ましく、より好ましくは1000ppm未満、特に好ましくは500ppm未満である。硬化時のハードコート層表面の雰囲気を不活性ガスで置換して酸素濃度が少ない状態とすることで、架橋点であるラジカルが大気中の酸素と反応することを防止できるため未反応物が生成されることを抑制できる。ハードコート層表面の未反応物生成を抑制することで架橋密度の低下を防止でき、ケン化処理(アルカリ処理)した場合にハードコート層側が劣化することを抑制でき、ハードコート層と反射防止層とが界面剥離して反射防止層が剥がれ落ちることを防止できる。
本発明のハードコート層に含有される樹脂は特に限定されるものではないが、電子線または紫外線等を照射することによって硬化する透明な電離放射線硬化型樹脂であることが好ましく、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等のラジカル重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、プレポリマーを単独で、または適宜混合した組成物が用いられる。樹脂の種類は特に限定されるものではないが、例えばウレタンアクリレート系樹脂、ポリエステルアクリレート系樹脂、及びエポキシアクリレート系樹脂等があげられる。モノマーの例としては、アクリル酸メチル、メチルメタクリレート、メトキシポリエチレンメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、フェノキシエチルメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート等があげられる。オリゴマー、プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート等のアクリレート化合物、不飽和ポリエステル、テトラメチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルや各種脂環式エポキシ等のエポキシ系化合物があげられる。樹脂の含有量はハードコート層用組成物の固形分に対して、好ましくは50〜95重量%である。
本発明のハードコート層の積層方法として、特に限定されるものではないが、グラビア塗工、マイクログラビア塗工、バー塗工、スライドダイ塗工、スロットダイ塗工、デイップコートなど、塗膜厚さの調整が容易なウェット塗工方式を用いることができる。
また、本発明のハードコート層を積層するにあたって、上記した各種塗工方式に適した粘度及び濃度になるように、有機溶媒を用いて任意の塗料濃度(固形分濃度)にすることが好ましい。希釈する有機溶剤の種類は特に限定されるものではないが、ヘキサン、オクタンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、エタノール、1−プロパノール、イソプロパノール、1−ブタノールなどのアルコール類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブなどのセロソルブ類などから適宜選択して用いることができ、単独または、これらのうち数種類を混合して用いてもよい。また、フィルム基材を溶解または膨潤させる有機溶剤を選定すると干渉ムラの抑制や密着性が向上するため特に好ましい。
さらに、本発明のハードコート層の塗工性を阻害しない範囲で、有機微粒子、無機微粒子、レベリング剤、消泡剤、滑剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤、湿潤分散剤、レオロジーコントロール剤、酸化防止剤、防汚剤、帯電防止剤、導電剤、光重合開始剤などを必要に応じて含有することが可能である。
本発明において、ハードコート層の厚さは特に限定されるものではないが、通常1〜20μm、より好ましくは3〜10μm程度に調整することがカール、鉛筆硬度の点から望ましい。
以下、本発明の実施の形態を実施例により更に詳細に説明するが、本発明は要旨を超えない限りこれらの実施例に限定されるものではない。なお、以下において「部」および「%」は特に断わらない限り、それぞれ重量部および重量%を示す。
(製造例1:クリアハードコートフィルムの作製)
酢酸エチル26.6gとノルマルプロパノール11.4gにイルガキュア184(光重合開始剤:(株)チバスペシャリティケミカル社製)を1.5g添加し十分攪拌した。この液にアクリル系紫外線硬化樹脂(屈折率1.52:日本合成化学(株)社製)を30g添加し十分攪拌して塗料を調整した。この塗料をトリアセチルセルロースフィルム(厚さ40μm)の上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、酸素濃度1000ppmにて100mJ/cm2の紫外線を照射し約6μmの塗膜を得た。
(製造例2:帯電防止機能付きクリアハードコートフィルムの作製)
メチルエチルケトン26.6gとプロピレングリコールモノメチルエーテル11.4gにイルガキュア184(光重合開始剤:(株)チバスペシャリティケミカル社製)を1.75g添加し十分攪拌した。この液に1SX-1055(4級アンモニウム塩タイプ帯電防止ポリマー:大成ファインケミカル(株)社製)を5gとアクリル系紫外線硬化樹脂(屈折率1.52:日本合成化学(株)社製)を35g添加し十分攪拌して塗料を調整した。この塗料を製造例1と同じトリアセチルセルロースフィルムの上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、酸素濃度500ppmにて100mJ/cm2の紫外線を照射し約5μmの塗膜を得た。
(製造例3:帯電防止機能付き防眩ハードコートフィルムの作製)
プロピレングリコールモノメチルエーテル6gにアクリル粒子(平均粒径5.0μm、屈折率1.525:総研化学(株)社製)を2g添加し十分攪拌してA液を作製した。酢酸エチル39gにイルガキュア184(光重合開始剤:(株)チバスペシャリティケミカル社製)を1.75g、BYK-3550(表面調整剤:ビックケミー(株)社製)を0.05g添加し十分攪拌した後、1SX-1055(4級アンモニウム塩タイプ帯電防止ポリマー:大成ファインケミカル(株)社製)を5gとアクリル系紫外線硬化樹脂(屈折率1.52:日本合成化学(株)社製)を35g添加し十分攪拌してA液を混合し塗料を調整した。この塗料を製造例1と同じトリアセチルセルロースフィルムの上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、酸素濃度1500ppmにて100mJ/cm2の紫外線を照射し約8μmの塗膜を得た。
(製造例4:防眩ハードコートフィルムの作製)
プロピレングリコールモノメチルエーテル9gにアクリル粒子(平均粒径1.3μm、屈折率1.525:総研科学(株)社製)を1.5g、AEROSILOX50(親水性フュームドシリカ:日本アエロジル(株)社製)を0.75g添加し十分攪拌してB液を作製した。酢酸エチル24gにイルガキュア184(光重合開始剤:(株)チバスペシャリティケミカル社製)を1.5g、アクリル系紫外線硬化樹脂(屈折率1.52:日本合成化学(株)社製)を30g添加し十分攪拌した後B液を混合して塗料を調整した。この塗料を製造例1と同じトリアセチルセルロースフィルムの上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、酸素濃度200ppmにて100mJ/cm2の紫外線を照射し約3.5μmの塗膜を得た。
(実施例1)
反射防止膜形成用塗料オプスターTU2205(中空シリカ含有フッ素系樹脂、JSR(株)社製、屈折率1.35、固形分10%)4.5gにtert-ブチルアルコール10.5g、ペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを全体の固形分に対して5%添加して十分攪拌し反射防止膜形成用塗料を作製した。この塗料を製造例1で作製したクリアハードコートフィルム上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、窒素雰囲気下で150mJ/cm2の紫外線を照射し約0.1μmの反射防止フィルムを得た。こうして得られた反射防止フィルムを公知の方法にてケン化処理してケン化処理済反射防止フィルムを得た。なお、ケン化処理は、反射防止層が設けられていない面(トリアセチルセルロース面側)の水接触角が40度未満になるようにアルカリの種類・濃度・温度・浸漬時間を適宜調整して行った。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=57/17(°)であった。なお、水接触角は、協和界面化学社製の測定機 DM-701によって測定した(以下の実施例、比較例において同じ)。
(実施例2)
ペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを20%に変更した以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを得た。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=58/20(°)であった。
(実施例3)
ペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを1%に変更した以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを得た。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=63/25(°)であった。
(実施例4)
実施例1のクリアハードコートフィルムを製造例2で作製した帯電防止機能付きクリアハードコートフィルムに変更したこと以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを得た。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=58/17(°)であった。
(実施例5)
実施例1のクリアハードコートフィルムを製造例3で作製した帯電防止機能付き防眩ハードコートフィルムに変更したこと以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを得た。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=63/21(°)であった。
(実施例6)
実施例1のクリアハードコートフィルムを製造例4で作製した防眩ハードコートフィルムに変更したこと以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを得た。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=59/19(°)であった。
(実施例7)
反射防止膜形成用塗料オプスターTU2205(中空シリカ含有フッ素系樹脂、JSR(株)社製、屈折率1.35、固形分10%)4.5gにtert-ブチルアルコール10.5gを添加して十分攪拌し反射防止膜形成用塗料を作製した。この塗料を製造例1で作製したクリアハードコートフィルム上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、窒素雰囲気下で150mJ/cm2の紫外線を照射し約0.1μmの反射防止フィルムを得た。こうして得られた反射防止フィルムを公知の方法にてケン化処理してケン化処理済反射防止フィルムを得た。なお、ケン化処理は、実施例1と同様、反射防止層が設けられていない面(トリアセチルセルロース面側)の水接触角が40度未満になるようにアルカリの種類・濃度・温度・浸漬時間を適宜調整して行った。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=64/20(°)であった。
(実施例8)
反射防止膜形成用塗料オプスターTU2205(中空シリカ含有フッ素系樹脂、JSR(株)社製、屈折率1.35、固形分10%)4.5gにtert-ブチルアルコール10.5g、トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを全体の固形分に対して5%添加して十分攪拌し反射防止膜形成用塗料を作製した。この塗料を製造例1で作製したクリアハードコートフィルム上にマイヤーバーを用いて塗工し、80℃で1分間乾燥後、窒素雰囲気下で150mJ/cm2の紫外線を照射し約0.1μmの反射防止フィルムを得た。こうして得られた反射防止フィルムを公知の方法にてケン化処理してケン化処理済反射防止フィルムを得た。なお、ケン化処理は、実施例1と同様、反射防止層が設けられていない面(トリアセチルセルロース面側)の水接触角が40度未満になるようにアルカリの種類・濃度・温度・浸漬時間を適宜調整して行った。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=57/18(°)であった。
(実施例9)
製造例1のクリアハードコートを2000ppmにて硬化させたこと以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを作製した。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=58/26(°)であった。
(実施例10)
製造例1のクリアハードコートを2200ppmにて硬化させたこと以外は実施例1と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを作製した。
本実施例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=64/24(°)であった。
(比較例1)
製造例1のクリアハードコートを大気雰囲気下で硬化させたこと以外は実施例8と同様にしてケン化処理済反射防止フィルムを作製したが、反射防止層がハードコート層との界面で剥離した。
本比較例のケン化処理済反射防止フィルムは、トリアセチルセルロース面側の水接触角(処理前/処理後)=58/19(°)であった。
以上の各実施例及び比較例の反射防止フィルムについて以下の評価を行い、その結果を纏めて表1に示した。
(外観の評価方法)
反射防止膜が設けられていない面に黒色テープを貼り、目視にて反射防止膜が剥がれ落ちていないか以下の基準で評価した。なお、○が合格品である。
○:反射防止膜が残っている
△:反射防止膜が部分的に剥がれ落ちている
×:反射防止膜が全て剥がれ落ちている
(反射率の測定)
裏面反射を防止するために反射防止膜が設けられていない基材面側に黒色テープを貼り、5°正反射測定装置を備えた(株)日立製作所製分光光度計U-3310を用いて550nmの視感反射率を測定し下記の基準で評価した。なお、○と△が合格品である。
○:反射率が1.2%未満
△:反射率が1.2%以上〜1.3%未満
×:反射率が1.3%以上
(表面硬度の評価方法)
反射防止膜が設けられている面にスチールウール(#0000)をのせ、その上から500g/cm2の荷重をかけ10往復した反射防止フィルムを下記の基準で目視評価した。なお、○と△が合格品である。
○:傷なし
△:傷1〜10本
×:傷11本以上
Figure 2014077894
※ペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールの化学式は以下のとおりである。
Figure 2014077894
※トリアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールの化学式は以下のとおりである。
Figure 2014077894
上記表1の結果から明らかなように、本発明の反射防止フィルムによれば、反射防止フィルムケン化処理した際に、ハードコート層と反射防止層が界面剥離せず、保護フィルム無しでもケン化処理に耐え得る耐アルカリ性を具備し、しかも反射防止性に優れるとともに、表面硬度の高い反射防止フィルムを提供することができる。
一方、従来(比較例)の反射防止フィルムは、耐アルカリ性が乏しくケン化処理によって反射防止層が剥がれ落ち、そのことによって反射防止性が得られず、表面硬度も低下する問題がある。

Claims (6)

  1. トリアセチルセルロースフィルムの片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムであって、該反射防止フィルムをケン化処理した際に、前記ハードコート層と前記反射防止層とが界面剥離しないことを特徴とする反射防止フィルム。
  2. 前記ケン化処理の条件が、前記トリアセチルセルロースフィルム表面の水接触角が40度未満になる条件であることを特徴とする請求項1に記載の反射防止フィルム。
  3. 前記ハードコート層は酸素濃度を2000ppm未満の雰囲気で硬化させたことを特徴とする請求項1又は2に記載の反射防止フィルム。
  4. 前記反射防止層にペンタアクリロイルヘプタデカフルオロノネニルペンタエリスリトールを含有することを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の反射防止フィルム。
  5. トリアセチルセルロースフィルムの片面もしくは両面に、少なくともハードコート層、反射防止層をこの順に積層してなる反射防止フィルムの製造方法であって、前記ハードコート層は酸素濃度を2000ppm未満の雰囲気で硬化させることを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。
  6. 前記反射防止フィルムをケン化処理することを特徴とする請求項5に記載の反射防止フィルムの製造方法。

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