JP2014071918A - 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2014071918A JP2014071918A JP2012214892A JP2012214892A JP2014071918A JP 2014071918 A JP2014071918 A JP 2014071918A JP 2012214892 A JP2012214892 A JP 2012214892A JP 2012214892 A JP2012214892 A JP 2012214892A JP 2014071918 A JP2014071918 A JP 2014071918A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- glass substrate
- polishing
- glass
- recording medium
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
【解決手段】研磨工程を有し、前記研磨工程は、Asker−C硬度が60以上90以下の研磨パッドを用いてガラス基板を研磨する第1ポリッシュ工程と、板厚に基づいてガラス基板を選別する選別工程と、Asker−C硬度が60以上90以下の研磨パッドを用いてガラス基板を研磨する第2ポリッシュ工程とを含む磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【選択図】図3
Description
研磨工程は、後述するガラス基板形成/研削工程を経たガラス基板に対して行う工程である。研磨工程には、第1ポリッシュ工程(粗研磨工程)と、選別工程と、第2ポリッシュ工程(精密研磨工程)とが含まれる。
第1ポリッシュ工程は、後続する第2ポリッシュ工程において最終的に必要とされる面粗さが効率よく得られるように、ガラス基板の両主表面を研磨加工する工程である。第1ポリッシュ工程では、両面研磨装置が用いられる。
選別工程は、第1ポリッシュ工程を経たガラス基板5を、当該ガラス基板5の板厚に基づいて選別する工程である。板厚に基づいてガラス基板5を選別する方法としては特に限定されず、間接的な方法により板厚を計測(または推定)して選別してもよく、直接的な方法により板厚を計測(または推定)して選別してもよい。
第2ポリッシュ工程は、選別工程を経て選別されたガラス基板に対して行う研磨工程である。第2ポリッシュ工程では、第1ポリッシュ工程と同様に、たとえば図2に示される両面研磨装置(たとえば浜井産業(株)製、16Bタイプ)が使用される。
ガラスブランクス準備工程には、ガラス素材を溶融するガラス素材溶融工程と、溶融したガラス素材からガラス基板(ブランクス)を得るプレス成形工程とが含まれる。
ガラス基板形成/研削工程には、第1ラップ工程と、コアリング(内外周カット)工程と、第2ラップ工程とが含まれる。
研磨工程は、上記したとおりである。研磨工程には、第1ポリッシュ工程と、選別工程と、第2ポリッシュ工程と含まれる。
化学強化工程は、ガラス基板を強化処理液に浸漬し、ガラス基板の耐衝撃性、耐振動性および耐熱性等を向上させる工程である。
洗浄工程は、ガラス基板を洗浄し、清浄にする工程である。洗浄方法としては特に限定されず、ガラス基板の表面を清浄にできる洗浄方法であればよい。
磁気薄膜形成工程は、蒸着装置を用いてガラス基板に磁気薄膜(磁性膜)を形成する工程である。磁性膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を採用することができる。たとえば、磁性粒子を分散させた熱硬化性樹脂を基板上にスピンコートして形成する方法や、スパッタリング、無電解めっきにより形成する方法を採用することができる。スピンコート法での膜厚は約0.3〜1.2μm程度、スパッタリング法での膜厚は0.04〜0.08μm程度、無電解めっき法での膜厚は0.05〜0.1μm程度である。これらの形成方法により磁性膜を成膜する場合、磁性膜の種類によっては、ガラス基板は、100〜500℃程度に保持される。
以下の方法によりガラス基板を作製した。
ガラス素材として、SiO2、Al2O3、R2O(R=K、Na、Li)を主成分としたアルミノシリケートガラスを用い、溶融したガラス素材をプレス成形して、外径が67mmの円板状のブランクスを作製した。ブランクスの厚みは1.0mmとした。
ブランクスの両主表面を、両面研削機(浜井産業(株)製、16Bタイプ)を用いて研削加工した。研削条件として、粒度#600のアルミナ粉末を使用し、荷重は50g/cm2、上定盤回転数を30rpm、下定盤回転数を20rpmとした。
(第1ポリッシュ工程)
ブランクスの両表面を、両面研磨装置(浜井産業(株)製、16Bタイプ)を用いて粗研磨加工した。研磨パッドとしてスウェードパッド(Filwel社製、商品名:NP178、Asker−C硬度:82)を使用した。砥粒には平均一次粒子径1μmの酸化セリウム砥粒を用いた。加工時の最大荷重は9.0kPaとした。キャリアとしては、図3に示されるように、2重の同心円(同心円C1および同心円C2)上にそれぞれ保持孔4a(計22個)が形成されたキャリア4を使用した。キャリア4は図2に示されるように、計5個配置した。加工量は20μmとした。
同心円C1上に形成された保持孔4aに保持されたガラス基板5を1つのグループとし、同心円C2上に形成された保持孔4aに保持されたガラス基板5を他の1つのグループとして分類することにより、ガラス基板5を選別した。
グループ分けしたそれぞれのガラス基板5に対して、第1ポリッシュ工程と同様に両面研磨装置(浜井産業(株)製、16Bタイプ、図2参照)を用いて精密研磨加工した。研磨パッドとしてスウェードパッド(Filwel社製、商品名:NP385、Asker−C硬度:77)を使用した。研磨剤スラリーとして、平均一次粒子径が20nmのコロイダルシリカの砥粒(研磨液成分)を水に分散させてスラリー状にしたものを用いた。水と砥粒との混合比率は、80:20とした。さらに硫酸を含有する調整液でスラリーのpHを調整した。加工時の最大荷重は10.5kPaとした。加工量は3μmとした。
次いで、得られたガラス基板の化学強化処理を行った。化学強化処理液としては、硝酸カリウム(KNO3)と硝酸ナトリウム(NaNO3)との混合溶融塩の水溶液を用いた。混合比は質量比で1:1とした。化学強化処理液の温度は380℃とし、浸漬時間は25分とした。
ガラス基板をスクラブ洗浄した。洗浄液として、KOHとNaOHとを質量比で1:1に混合したものを超純水(DI水)で希釈し、洗浄能力を高めるために非イオン界面活性剤を添加して得られた液体を用いた。洗浄液の供給は、スプレー噴霧によって行った。スクラブ洗浄後、ガラス基板の表面に残る洗浄液を除去するために、水リンス洗浄工程を超音波槽で2分間行い、IPA洗浄工程を超音波槽で2分間行い、最後に、IPA蒸気によりガラス基板の表面を乾燥させた。
Fe−Pt合金をスパッタリング法によりガラス基板を成膜し、その後、熱処理(600℃、1時間)を行って磁気薄膜を形成し、磁気記録媒体用ガラス基板を作製した。
選別工程において、第1ポリッシュ工程を経たガラス基板の板厚を分光干渉レーザ変位計SI−80F((株)キーエンス製)を用いてそれぞれ計測し、板厚の誤差が0.3μm以内にあるものを1つのグループとして分類することにより、ガラス基板を選別した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
第1ポリッシュ工程において、図5に示される領域R1および領域R2に分けられたキャリア4を使用し、選別工程において、領域R1に形成された保持孔4aに保持されたガラス基板5を1つのグループ(計14枚)とし、領域R2に形成された保持孔4aに保持されたガラス基板5を他の1つのグループ(計8枚)として分類することにより、ガラス基板5を選別した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
選別工程において、第1ポリッシュ工程を経たガラス基板の重量をそれぞれ計測し、重量の誤差が2mg以内にあるものを1つのグループとして分類することにより、ガラス基板を選別した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
選別工程を実施せず、第1ポリッシュ工程を経たガラス基板を第2ポリッシュ工程に供した以外は、実施例1と同様の方法によりガラス基板を作製した。
Zygo社製NewViewを用いて、第2ポリッシュ工程を経たガラス基板の端面の形状を測定し、端面形状の標準偏差(Å)を算出した。測定範囲は、ガラス基板(半径32.5mm)の中心から30.0mmから31.7mmを対象範囲として、半径方向の形状プロファイルを求め、110μmを基準とするローパスフィルタリングを行った後、計測範囲の両端を結ぶ線分からの高さ変位量の最大値を求めた。
実施例1〜4、比較例1の製造方法で得られたそれぞれのガラス基板について、メディア化して磁気ドライブに搭載し、記録可能な面内領域を確認した。記録可能な領域が良品基準を満たしている基板の割合を評価した。評価基準を以下に示す。
◎:評価したドライブの97%以上
○: 評価したドライブの94%以上97%未満
△: 評価したドライブの94%未満
2 上定盤
2a、3a 研磨パッド
3 下定盤
4 キャリア
4a 保持孔
5 ガラス基板
Claims (4)
- 研磨工程を有する磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法であって、
前記研磨工程は、
Asker−C硬度が60以上90以下の研磨パッドを用いてガラス基板を研磨する第1ポリッシュ工程と、
該粗研磨工程の後に、板厚に基づいてガラス基板を選別する選別工程と、
該選別工程の後にAsker−C硬度が60以上90以下の研磨パッドを用いてガラス基板を研磨する第2ポリッシュ工程とを含む、
磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記第1ポリッシュ工程において、ガラス基板を保持する複数の保持孔が形成されたキャリアを使用し、
前記選別工程において、前記保持孔の位置に基づいて前記ガラス基板を分類することにより選別する、請求項1記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記第1ポリッシュ工程において、同心円状に前記保持孔が形成されたキャリアを使用し、
前記選別工程において、同心円状に形成された前記保持孔に保持されたガラス基板ごとに分類することにより選別する、請求項2記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。 - 前記選別工程において、前記第1ポリッシュ工程で研磨されたガラス基板の物性を計測し、該物性に基づいてガラス基板を分類することにより、ガラス基板を選別する、請求項1記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012214892A JP6034636B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012214892A JP6034636B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014071918A true JP2014071918A (ja) | 2014-04-21 |
JP6034636B2 JP6034636B2 (ja) | 2016-11-30 |
Family
ID=50746974
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012214892A Active JP6034636B2 (ja) | 2012-09-27 | 2012-09-27 | 磁気記録媒体用基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6034636B2 (ja) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003173517A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-20 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および媒体基板 |
JP2011210343A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-20 | Hoya Corp | 磁気ディスク用半製品基板の出荷方法 |
JP2011233193A (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 |
WO2012090364A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2012142050A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
-
2012
- 2012-09-27 JP JP2012214892A patent/JP6034636B2/ja active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003173517A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-20 | Showa Denko Kk | 磁気記録媒体、その製造方法および媒体基板 |
JP2011210343A (ja) * | 2010-03-31 | 2011-10-20 | Hoya Corp | 磁気ディスク用半製品基板の出荷方法 |
JP2011233193A (ja) * | 2010-04-26 | 2011-11-17 | Asahi Glass Co Ltd | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 |
WO2012090364A1 (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-05 | コニカミノルタオプト株式会社 | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
JP2012142050A (ja) * | 2010-12-28 | 2012-07-26 | Konica Minolta Advanced Layers Inc | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP6034636B2 (ja) | 2016-11-30 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4998095B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP5321594B2 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
JPWO2013145503A1 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP2009076167A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
US20100081013A1 (en) | Magnetic disk substrate and magnetic disk | |
JP2014188668A (ja) | ガラス基板の製造方法 | |
WO2010041536A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
WO2010041537A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、および磁気記録媒体の製造方法 | |
JP5536481B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法及び情報記録媒体の製造方法 | |
JP5636508B2 (ja) | ガラス基板、該ガラス基板を用いた情報記録媒体および当該ガラス基板の製造方法 | |
WO2011021478A1 (ja) | ガラス基板の製造方法、ガラス基板、磁気記録媒体の製造方法および磁気記録媒体 | |
JP5781845B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP6034636B2 (ja) | 磁気記録媒体用基板の製造方法 | |
JP2008204499A (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板及び磁気記録媒体 | |
JP5706250B2 (ja) | Hdd用ガラス基板 | |
JP5859757B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP5869241B2 (ja) | Hdd用ガラス基板、hdd用ガラス基板の製造方法、及びhdd用磁気記録媒体 | |
JP5897959B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5886108B2 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5360331B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
WO2014045653A1 (ja) | 情報記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP2013012282A (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法 | |
JP6088545B2 (ja) | Hdd用ガラス基板の製造方法、情報記録媒体の製造方法、及びhdd用ガラス基板 | |
JP2014175023A (ja) | 磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法 | |
JP5719030B2 (ja) | 研磨パッドおよび該研磨パッドを用いたガラス基板の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20140122 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20150804 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160616 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160719 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160912 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161011 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161028 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6034636 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |