JP2014038868A - ターゲット供給装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ノズル31から出力される液状のターゲット物質である溶融錫34を蓄えるタンク30内のガス圧を圧力調整器41が備えつけられたガスボンベ40から供給されるガスの圧力で制御するターゲット供給装置1は、前記ガスボンベ40から供給されるガスを前記タンク30へ導入するガス流路L1と、前記ガス流路L1上に配置されてガス流路L1を流れるガスの圧力を調整し、圧力調整器41よりも高精度の圧力調整が可能な圧力コントローラ51と、を備える。
【選択図】図4
Description
図1は、この発明の実施の形態1によるターゲット供給装置が用いられる極端紫外光光源装置の構成を示す模式図である。なお、図1に示した極端紫外光光源装置は、レーザビームをターゲット物質に照射して励起させることにより極端紫外光を生成するレーザ励起プラズマ(LPP)方式を採用している。
つぎに、この発明の実施の形態2について説明する。図5は、この発明の実施の形態2によるターゲット供給装置の構成を示す模式図である。図5に示すように、この実施の形態2によるターゲット供給装置2は、ガス流路L1上に配置されたガス配管の外周をヒータ52で覆い、このヒータ52によってガス流路L1を加熱することでタンク30内に供給するガスを温調している。その他の構成は、実施の形態1と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
つぎに、この発明の実施の形態3について説明する。図6は、この発明の実施の形態3によるターゲット供給装置の構成を示す模式図である。図6に示すように、この実施の形態3によるターゲット供給装置3は、タンク30近傍のガス流路L1内の圧力を検出する圧力計53と、この圧力計53が検出した圧力をもとに圧力コントローラ51による圧力制御を制御するコントローラ60とを有する。その他の構成は、実施の形態1と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
つぎに、この発明の実施の形態4について説明する。図8は、この発明の実施の形態4によるターゲット供給装置の構成を示す模式図である。図8に示すように、この実施の形態4によるターゲット供給装置4は、圧力コントローラ51をバイパスするガス流路L3を備える。このガス流路L3の配管径は、圧力コントローラ51が流す流量よりも大きな流量を流すことができる程度に大きい。また、ガス流路L3上にはバルブ43が設けられ、圧力調整器41と圧力コントローラ51との間のガス流路L1上であってガス流路L3の分岐点と圧力コントローラ51との間にバルブ42が設けられる。その他の構成は、実施の形態1と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
つぎに、この発明の実施の形態5について説明する。図10は、この発明の実施の形態5によるターゲット供給装置の構成を示す模式図である。図10に示すように、この実施の形態5によるターゲット供給装置5は、圧力コントローラ51に対応して、流量制御バルブ44および47とバルブ45および48とを設けている。流量制御バルブ44およびバルブ45は、それぞれガス流路L1のタンク30側に順次配置される。バルブ45のタンク30側には、ガス流路L1から分岐し、一端が排気口を有する排気用のガス流路L4が設けられる。このガス流路L4上には、ガス流路L1の分岐点から順次、流量制御バルブ47およびバルブ48が配置される。また、上述の実施の形態4と同様に、ガス流路L1のバイパスラインとしてガス流路L3が設けられることで、圧力調整器41と流量制御バルブ44との間と、ガス流路L4の分岐点とタンク30との間とがバイパスされる。また、このガス流路L3上に、バルブ43に対応したバルブ46が配置される。さらに、タンク30近傍のガス流路L1内の圧力を検出する圧力計53が設けられる。その他の構成は、図8に示したターゲット供給装置4の構成と同じであり、同一構成部分には同一符号を付している。
つぎに、この発明の実施の形態6について説明する。上述した実施の形態1〜5およびその変形例では、ターゲットの供給方法にコンティニュアスジェット法を採用していた。このため、上述の実施の形態1〜5およびその変形例では、数MPa〜十数MPa程度の比較的高い圧力がタンク30内のターゲット物質に与えられていた。これに対し、本実施の形態6では、静電引出し法を採用する。この静電引出し法では、ノズル先端と対向する位置に電極が配置される。例えば、ノズル先端を接地して、この電極に電圧を印加すると、ターゲット物質に静電引力が働く。この静電引力とタンク内のガス圧により、ノズル先端からターゲット物質が、ドロップレットの形態で出力される。このように、静電引出し法を採用したターゲット供給装置では、電極に電圧を印加することにより、静電引力が働くため、ターゲット物質を蓄えるタンク内部の圧力は、コンティニュアスジェット法を採用した場合よりも、比較的低い圧力、たとえば1MPa以下の圧力であってもよい。
10 真空チャンバ
11,21 ターゲット供給部
13 ターゲット
14 集光ミラー
15 ドライバレーザ
16 レーザ集光光学系
17 排気装置
18 プラズマ
19 極端紫外光
20 励起用レーザビーム
26 高精度圧力調整機構
30 タンク
31 ノズル
31a ノズル先端
32 ピエゾ素子
33,52 ヒータ
34 溶融錫
35 絶縁部
36 電極
36a 孔
40 ガスボンベ
41 圧力調整器
42,43,45,46,48 バルブ
44,47 流量制御バルブ
44a,47a オリフィス
51 圧力コントローラ
53,54 圧力計
60,61,62 コントローラ
L1〜L4 ガス流路
Claims (6)
- 液状のターゲット物質を蓄えるタンク内のガス圧を制御することで前記ターゲット物質を前記タンクに連通するノズルから出力するターゲット供給装置であって、
前記タンク内へガスを供給するガス供給源と、
前記ガス供給源から供給されるガスを前記タンクへ導入するガス流路と、
前記ガス供給源と前記タンクとの間の前記ガス流路上に設けられ、前記ガス供給源から流出するガスの圧力を調節する圧力調節器と、
前記圧力調節器よりも圧力調節の精度が高く、前記圧力調節器と前記タンクとの間の前記ガス流路上に設けられて前記ガス流路上に流れる前記ガスの圧力を調節する高精度圧力調節機構と、
前記ノズルから前記ターゲット物質を吐出する際の前記タンク内における前記ガス圧の正圧変動を一定範囲内に抑えるように前記高精度圧力調節機構を制御するコントローラと、
を備えたことを特徴とするターゲット供給装置。 - 前記タンク内における前記ガス圧を検出する圧力計をさらに備え、
前記コントローラは、前記圧力計の測定値をもとに前記高精度圧力調節器を制御することを特徴とする請求項1に記載のターゲット供給装置。 - 前記圧力計は、前記タンク近傍の前記ガス流路上に配置されていることを特徴とする請求項2に記載のターゲット供給装置。
- 前記タンクに直結する計測用ガス流路をさらに備え、
前記圧力計は、前記計測用ガス流路に設けられていることを特徴とする請求項2に記載のターゲット供給装置。 - 前記ターゲット供給源は、前記圧力調節器が備え付けられたガスボンベであることを特徴とする請求項1〜4のいずれか一つに記載のターゲット供給装置。
- 前記コントローラは、前記タンク内における前記ガス圧の前記正圧変動が1kPa(キロパスカル)以下となるように前記高精度圧力調節機構を制御することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載のターゲット供給装置。
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