JP2008193014A - Lpp型euv光源装置用ターゲット物質供給装置及びシステム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】このターゲット物質供給装置20は、LPPターゲット物質を出射するための噴射口21aが形成されたスリーブ21と、スリーブ21内に摺動可能に嵌入されたプランジャー22と、プランジャー22を押圧することにより、スリーブ21及びプランジャー22によって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質を加圧して、LPPターゲット物質をスリーブ21の噴射口21aから出射させる押圧装置23とを含む。
【選択図】図1
Description
第1に、高圧ガス保安法等の法令に則ってガス設備、特定設備等の設置許可申請等を行うことが必要であり、その手続きが煩雑であるという問題がある。
第2に、高圧ガスは危険なものであり、安全確保を容易に行うことができないという問題がある。
第3に、高圧高温バルブ等の高価な設備が必要であり、製造コストが高くなってしまうという問題がある。
そのため、液化室13内において高圧ガスを用いることなくターゲット物質を加圧する技術が望まれている。
図1は、本発明に係るLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置(以下、単に「ターゲット物質供給装置」という。)の構成を原理的に示す断面図である。本発明に係るターゲット物質供給装置は、LPP型EUV光源装置において、EUV光の生成が行われるチャンバ内にターゲット物質を供給するために用いられるものである。
スリーブ21は、例えば、チタン、ステンレス(特に、SUS316、304)等の金属やアルミナセラミック等で構成可能であり、スリーブ21の図中左側の壁には、ターゲット物質を噴射するための噴射口21aが形成されている。
押圧装置23は、ロッド23aを有しており、ロッド23aは、プランジャー22に結合されている。なお、押圧装置23としては、油圧シリンダー、空圧シリンダー、電動シリンダー等を利用することができる。
また、ターゲット物質が圧縮性を有しなければ、押圧装置23の押圧力をゼロにすることにより、ターゲット物質の噴射を高圧ガスを用いた場合よりも短時間で停止することができる。
図3は、本実施形態に係るターゲット物質供給装置の構成を示す断面図である。図3に示すように、このターゲット物質供給装置は、スリーブ26と、プランジャー27と、押圧装置28とを含んでいる。
プランジャー27は、スリーブ26内に摺動可能に嵌入されている。
また、ターゲット物質が圧縮性を有しなければ、押圧装置28の押圧力をゼロにすることにより、ターゲット物質の噴射を高圧ガスを用いた場合よりも短時間で停止することができる。
図4は、本実施形態に係るターゲット物質供給装置の構成を示す断面図である。図4に示すように、このターゲット物質供給装置は、スリーブ26と、押圧装置28と、プランジャー36とを含んでいる。
図5は、本実施形態に係るターゲット物質供給装置の構成を示す断面図である。図5に示すように、このターゲット物質供給装置は、プランジャー27と、押圧装置28と、スリーブ31と、ホース34とを含んでいる。
プランジャー27は、スリーブ31内に摺動可能に嵌入されている。
図7は、本実施形態に係るターゲット物質供給装置の構成を示す断面図である。図7に示すように、このターゲット物質供給装置は、スリーブ41と、プランジャー42と、押圧装置43とを含んでいる。
プランジャー42は、スリーブ41内に摺動可能に嵌入されている。
スリーブ41の内壁面及びプランジャー42によって形成される空間内には、ターゲット物質が充填される。押圧装置43は、プランジャー42を図中の下方向に押圧することにより、ターゲット物質を加圧して、ターゲット物質を噴射口41aからプラズマ発生位置の方向に噴射させる。
図8は、本実施形態に係るターゲット物質供給装置の構成を示す断面図である。図8に示すように、このターゲット物質供給装置は、スリーブ46と、プランジャー47と、押圧装置48と、センサ49と、排気管50と、バルブ51と、バルブ開閉装置52とを含んでいる。
プランジャー47は、スリーブ46内に摺動可能に嵌入されている。
スリーブ46の内壁面及びプランジャー47によって形成される空間内には、ターゲット物質が充填される。押圧装置48は、プランジャー47を図中の下方向に押圧することにより、ターゲット物質を加圧して、ターゲット物質を噴射口46aからプラズマ発生位置の方向に噴射させる。
排気管50の一端は、プランジャー47の下面と面一になるように、プランジャー47に埋め込まれており、他端には、バルブ開閉装置52によって開閉可能なバルブ51が設けられている。
押圧装置58は、ロッド58aを有しており、ロッド58aは、ターゲット物質槽59の図中左側の壁に形成された開口59bを通過して、プランジャー57に結合されている。
プランジャー67は、スリーブ66内に摺動可能に嵌入されている。
図11は、本実施形態に係るターゲット物質供給システムの構成を示す図である。図11に示すように、このターゲット物質供給システムは、本発明に係るターゲット物質供給装置81、82と、3方弁83とを含んでいる。
Claims (15)
- LPP型EUV光源装置のEUV生成チャンバにLPPターゲット物質を供給するLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置であって、
LPPターゲット物質を出射するための開口が形成されたスリーブと、
前記スリーブ内に摺動可能に嵌入されたプランジャーと、
前記プランジャーを押圧することにより、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質を加圧して、LPPターゲット物質を前記スリーブの開口から出射させる押圧装置と、
を具備するLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。 - その一端が前記スリーブの開口に結合され、他端にLPPターゲット物質を出射するための開口が形成されたホースを更に具備する、請求項1記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記ホースが、LPP型EUV光源装置のEUV生成チャンバに形成された開口を通過するように配置されている、請求項2記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記スリーブの外壁、壁内、及び/又は、前記スリーブの内部に配置され、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質を加熱及び/又は保温するための加熱手段を更に具備する、請求項1〜3のいずれか1項記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記スリーブの外壁、壁内、及び/又は、前記スリーブの内部に配置され、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質を冷却及び/又は保温するための冷却手段を更に具備する、請求項1〜3のいずれか1項記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記スリーブの前記プランジャーが摺接する壁に、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内のガスを排出し、及び/又は、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内にLPPターゲット物質を補充するための第2の開口が形成されている、請求項1〜5のいずれか1項記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記プランジャーに埋め込まれ、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内のガスを排出するための排気管を更に具備する、請求項1〜6のいずれか1項記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記プランジャーのLPPターゲット物質を押圧する面とLPPターゲット物質とが接触したか否かを検出するためのセンサと、
前記排気管に取り付けられたバルブと、
前記センサが前記プランジャーのLPPターゲット物質を押圧する面とLPPターゲット物質とが接触したことを検出するまでは前記バルブを開放し、前記センサが前記プランジャーのLPPターゲット物質を押圧する面とLPPターゲット物質とが接触したことを検出した後は前記バルブを閉じるバルブ制御装置と、
を更に具備する、請求項7記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。 - LPP型EUV光源装置のEUV生成チャンバにLPPターゲット物質を供給するLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置であって、
LPPターゲット物質を貯蔵するLPPターゲット物質槽と、
前記LPPターゲット物質槽内のLPPターゲット物質に浸され、LPPターゲット物質を出射するための開口が形成されたスリーブと、
その一端が、前記スリーブの開口に結合され、他端が、LPPターゲット物質を出射するための開口を有し、前記LPPターゲット物質槽の外部に位置するホースと、
前記スリーブ内に摺動可能に嵌入されたプランジャーと、
前記プランジャーを押圧することにより、前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質を加圧して、LPPターゲット物質を前記ホースの開口から出射させる押圧装置と、
を具備する、LPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。 - 前記LPPターゲット物質槽の外壁、壁内、及び/又は、前記LPPターゲット物質槽の内部に配置され、前記LPPターゲット物質槽内に貯蔵されたLPPターゲット物質を加熱及び/又は保温するための加熱手段を更に具備する、請求項9記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記LPPターゲット物質槽の外壁、壁内、及び/又は、前記LPPターゲット物質槽の内部に配置され、前記LPPターゲット物質槽内に貯蔵されたLPPターゲット物質を冷却及び/又は保温するための冷却手段を更に具備する、請求項9記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記押圧装置が、油圧シリンダー、空圧シリンダー、又は、電動シリンダーである、請求項1〜11のいずれか1項記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記プランジャーの外周部に取り付けられ、前記スリーブと前記プランジャーとの間をシールする少なくとも1つのシール材を更に具備する、請求項1〜12のいずれか1項記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。
- 前記スリーブ及び前記プランジャーによって形成される空間内に充填されたLPPターゲット物質の温度、圧力、及び/又は、出射されたLPPターゲット物質の速度を検出するための少なくとも1つのセンサと、
前記センサからの検出信号に基づいて、前記押圧装置、前記加熱手段、及び/又は、前記冷却手段を制御する処理部と、
を更に具備する、請求項1〜13のいずれか1項に記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置。 - 複数の請求項1〜14のいずれか1項に記載のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置と、
前記複数のLPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給装置のいずれかから出射されたLPPターゲット物質をEUV生成チャンバに出射する多方弁と、
を具備する、LPP型EUV光源装置用ターゲット物質供給システム。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010103507A (ja) * | 2008-09-27 | 2010-05-06 | Xtreme Technologies Gmbh | プラズマに基づく短波長放射線源の動作方法およびその装置 |
WO2010137625A1 (ja) * | 2009-05-27 | 2010-12-02 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット出力装置及び極端紫外光源装置 |
JP2012199005A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-18 | Komatsu Ltd | ターゲット供給装置 |
JP2013179029A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-09-09 | Gigaphoton Inc | ターゲット供給装置、および、ターゲット供給方法 |
JP2017049614A (ja) * | 2008-12-19 | 2017-03-09 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット供給装置 |
US10073353B2 (en) | 2014-04-28 | 2018-09-11 | Gigaphoton Inc. | Target supply device and EUV light generation apparatus |
JP2019505833A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-02-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 液滴ジェネレータ及びレーザ生成プラズマ放射源 |
WO2023089082A1 (en) * | 2021-11-22 | 2023-05-25 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for supplying liquid target material to a radiation source |
Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6177240A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | 軟x線発生装置 |
JP2003528710A (ja) * | 1999-10-18 | 2003-09-30 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | ミクロン及びサブミクロンの小滴の濃霧を生成する方法及びその装置、並びに特にリソグラフィのための極紫外線の生成への応用 |
JP2004037364A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Kansai Tlo Kk | 極短波長の光を発生させるターゲット、そのターゲットを用いた光発生方法及びそのための装置 |
JP2004533105A (ja) * | 2001-06-21 | 2004-10-28 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 液体金属ターゲットを設けたx線源 |
JP2004533704A (ja) * | 2001-04-18 | 2004-11-04 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 特にリソグラフィのための極短紫外の光を生成するための方法及び装置 |
JP2006086110A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-03-30 | Xtreme Technologies Gmbh | 短波長電磁放射線の生成用のターゲット材料を測定するための装置および方法 |
WO2006093687A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-09-08 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for euv light source target material handling |
JP2007103176A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Osaka Univ | 放射線源用ターゲット生成供給装置 |
JP2007142306A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Hyogo Prefecture | 液滴生成装置 |
JP2008532228A (ja) * | 2005-02-25 | 2008-08-14 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源ターゲット材料を処理する方法及び装置 |
-
2007
- 2007-02-08 JP JP2007028728A patent/JP2008193014A/ja active Pending
Patent Citations (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6177240A (ja) * | 1984-09-21 | 1986-04-19 | Hitachi Ltd | 軟x線発生装置 |
JP2003528710A (ja) * | 1999-10-18 | 2003-09-30 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | ミクロン及びサブミクロンの小滴の濃霧を生成する方法及びその装置、並びに特にリソグラフィのための極紫外線の生成への応用 |
JP2004533704A (ja) * | 2001-04-18 | 2004-11-04 | コミツサリア タ レネルジー アトミーク | 特にリソグラフィのための極短紫外の光を生成するための方法及び装置 |
JP2004533105A (ja) * | 2001-06-21 | 2004-10-28 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 液体金属ターゲットを設けたx線源 |
JP2004037364A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Kansai Tlo Kk | 極短波長の光を発生させるターゲット、そのターゲットを用いた光発生方法及びそのための装置 |
JP2006086110A (ja) * | 2004-07-23 | 2006-03-30 | Xtreme Technologies Gmbh | 短波長電磁放射線の生成用のターゲット材料を測定するための装置および方法 |
WO2006093687A1 (en) * | 2005-02-25 | 2006-09-08 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for euv light source target material handling |
JP2008532228A (ja) * | 2005-02-25 | 2008-08-14 | サイマー インコーポレイテッド | Euv光源ターゲット材料を処理する方法及び装置 |
JP2007103176A (ja) * | 2005-10-05 | 2007-04-19 | Osaka Univ | 放射線源用ターゲット生成供給装置 |
JP2007142306A (ja) * | 2005-11-22 | 2007-06-07 | Hyogo Prefecture | 液滴生成装置 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010103507A (ja) * | 2008-09-27 | 2010-05-06 | Xtreme Technologies Gmbh | プラズマに基づく短波長放射線源の動作方法およびその装置 |
JP2017049614A (ja) * | 2008-12-19 | 2017-03-09 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット供給装置 |
WO2010137625A1 (ja) * | 2009-05-27 | 2010-12-02 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット出力装置及び極端紫外光源装置 |
JPWO2010137625A1 (ja) * | 2009-05-27 | 2012-11-15 | ギガフォトン株式会社 | ターゲット出力装置及び極端紫外光源装置 |
US8710472B2 (en) | 2009-05-27 | 2014-04-29 | Gigaphoton Inc. | Target output device and extreme ultraviolet light source apparatus |
JP2012199005A (ja) * | 2011-03-18 | 2012-10-18 | Komatsu Ltd | ターゲット供給装置 |
JP2013179029A (ja) * | 2012-02-10 | 2013-09-09 | Gigaphoton Inc | ターゲット供給装置、および、ターゲット供給方法 |
US10073353B2 (en) | 2014-04-28 | 2018-09-11 | Gigaphoton Inc. | Target supply device and EUV light generation apparatus |
JP2019505833A (ja) * | 2015-12-17 | 2019-02-28 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. | 液滴ジェネレータ及びレーザ生成プラズマ放射源 |
WO2023089082A1 (en) * | 2021-11-22 | 2023-05-25 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus for supplying liquid target material to a radiation source |
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