JP2014026141A - 液晶装置、液晶装置の製造方法、及び電子機器 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】対向配置された素子基板10及び対向基板20と、これらを貼り合わせるシール材と、素子基板10及び対向基板20に挟持された液晶層と、素子基板10の画素領域Eに設けられた画素電極27と、画素領域Eの周囲の周辺領域72に設けられた周辺電極40と、柱状構造物28a1,28b1を有する無機配向膜28a,28bと、を備え、周辺領域72の柱状構造物28b1の密度が、画素領域Eの柱状構造物28a1の密度より小さい。
【選択図】図6
Description
図1は、液晶装置の構成を示す模式平面図である。図2は、図1に示す液晶装置のH−H’線に沿う模式断面図である。図3は、液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図である。以下、液晶装置の構成を、図1〜図3を参照しながら説明する。
図5は、液晶装置のうち主に周辺電極及び配向膜の構成を示す模式平面図である。図6は、図5に示す液晶装置のA−A’線に沿う模式断面図である。以下、周辺電極及び配向膜の構成について、図5及び図6を参照しながら説明する。
図7は、液晶装置の製造方法を工程順に示すフローチャートである。図8は、液晶装置の製造方法のうち一部の製造方法を示す模式断面図である。図9は、第1無機配向膜と第2無機配向膜との柱状構造物の構造を比較して示す断面図である。以下、液晶装置の製造方法及び配向膜の構造を、図7〜図9を参照しながら説明する。
次に、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置について、図10を参照して説明する。図10は、上記した液晶装置を備えた投射型表示装置の構成を示す概略図である。
上記したように、対向基板20の配向膜32を、素子基板10の第1無機配向膜28aと同様に構成することに限定されず、図11に示すように構成してもよい。図11は、変形例の対向基板20の構成を示す模式断面図である。図11に示すように、対向基板20は、第2基材20a上に形成された対向電極31上に第1無機配向膜32aを形成する。更に、マスク46を用いて画素領域Eを覆い、蒸着方向を変えて周辺領域72の少なくとも素子基板10の周辺電極40に対向する領域に第2無機配向膜32bを形成する。好ましくは、周辺領域72の全面に第2無機配向膜32bが形成されている。
上記したように、第2無機配向膜28bの製造方法として、雰囲気圧力を変える、及び蒸着方向を変える、の両方を実施することに限定されず、第1柱状構造物28a1より第2柱状構造物28b1の隙間が広くなればよく、例えば、雰囲気圧力を変える、又は蒸着方向を変える、のどちらか一方を行うようにしてもよい。
上記したように、周辺電極40(イオントラップ電極)を1本で構成する方法(周辺電極40と対向電極31との間で電界をかける方法)に限定されず、例えば、第1基材10a上の画素領域Eの周囲に2本の周辺電極を配置するようにしてもよい。2本の周辺電極に異なる電位を印加すると、2本の周辺電極間に電界がかかるので(横方向、すなわち素子基板10の表面と水平な方向に電界がかかるので)、周辺電極40の側面に第2無機配向膜28b(第2柱状構造物28b1)があることが好ましい。
上記したように、液晶注入方式の液晶装置100に適用することに限定されず、液晶滴下方式(ODF)の液晶装置に適用するようにしてもよい。また、透過型の液晶装置100に限定されず、例えば、反射型の液晶装置(反射型ライトバルブ)に適用するようにしてもよい。
上記したように、無機配向膜28a,28bの蒸着条件を変え、第2無機配向膜28bの第2柱状構造物28b1の隙間を広くする(ポーラスな状態にする)方法に限定されず、例えば、球状ミセル上でのオルガノシランの脱水縮合重合によって、ポーラスな配向膜を周辺電極40上に形成するようにしてもよい。
Claims (7)
- 第1基板と、
前記第1基板と対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板を貼り合わせるシール材と、
前記第1基板と前記第2基板に挟持された液晶層と、を含み、
前記第1基板は、
表示領域に設けられた複数の画素電極と、
平面視で、前記表示領域と前記シール材の内縁との間に形成された周辺電極と、
前記液晶層側の面に設けられ、複数の柱状構造物を有する無機配向膜と、を有し、
前記第2基板は、
前記液晶層側の面に設けられ、複数の柱状構造物を有する無機配向膜を有し、
少なくとも前記第1基板及び前記第2基板のうち一方の前記無機配向膜において、平面視で、前記周辺電極と重なる第2柱状構造物の密度が、前記表示領域の第1柱状構造物の密度より小さいことを特徴とする液晶装置。 - 請求項1に記載の液晶装置であって、
前記周辺電極と重なる前記第2柱状構造物の平均間隔が、前記表示領域の前記第1柱状構造物の平均間隔よりも大きいことを特徴とする液晶装置。 - 請求項1又は請求項2に記載の液晶装置であって、
前記周辺電極と重なる前記第2柱状構造物の蒸着方向と、前記表示領域の前記第1柱状構造物の蒸着方向とが異なることを特徴とする液晶装置。 - 第1基板と、
前記第1基板と対向するように配置された第2基板と、
前記第1基板と前記第2基板を貼り合わせるシール材と、
前記第1基板と前記第2基板に挟持された液晶層と、を含み、
前記第1基板は、
表示領域に設けられた複数の画素電極と、
平面視で、前記表示領域と前記シール材の内縁との間に形成された周辺電極と、
前記液晶層側の面に設けられ、複数の柱状構造物を有する無機配向膜と、を有し、
前記第2基板は、
前記液晶層側の面に設けられ、複数の柱状構造物を有する無機配向膜を有する液晶装置の製造方法であって、
少なくとも前記第1基板及び前記第2基板のうち一方の基板において、前記表示領域に第1柱状構造物を有する第1無機配向膜を形成する第1無機配向膜形成工程と、
少なくとも前記第1基板及び前記第2基板のうち一方の基板において、前記周辺電極上に、前記第1柱状構造物の密度より小さい密度の第2柱状構造物を有する第2無機配向膜を形成する第2無機配向膜形成工程と、
を有することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 請求項4に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第1無機配向膜形成工程は、第1雰囲気圧力を加えて前記第1無機配向膜を形成し、
前記第2無機配向膜形成工程は、前記第1雰囲気圧力より高い第2雰囲気圧力を加えて前記第2無機配向膜を形成することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 請求項4に記載の液晶装置の製造方法であって、
前記第1無機配向膜形成工程は、前記表示領域に第1蒸着方向から前記第1無機配向膜を蒸着し、
前記第2無機配向膜形成工程は、前記周辺電極上に前記第1蒸着方向と異なる第2蒸着方向から前記第2無機配向膜を蒸着することを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載の液晶装置を備えることを特徴とする電子機器。
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