JP2013535404A - シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品の処理 - Google Patents
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Abstract
Description
シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品を以下の化合物、
(i)混合気内のCOとCl2の総濃度が体積で10%より高く、CO:Cl2の比が0.25と5の間であるような、キャリアガス内のCOとCl2の混合気、及び
(ii)CCl4の濃度が体積で1%より高いような、キャリアガス内のCCl4、
の内の少なくとも一方で処理する工程を含む。
シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品を、
(i)CCl4濃度が体積で1%より高いような、キャリアガス内のCCl4、及び
(ii)混合気内のCOとCl2の総濃度が体積で10%より高く、CO:Cl2の比が0.25と5の間であるような、キャリアガス内のCOとCl2の混合気、
で処理する工程、
を含み、
CCl4による処理はCO/Cl2混合気による処理の前、または後に、実施される。
シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品を以下の化合物、
(i)混合気内のCOとCl2の総濃度が体積で10%より高く、CO:Cl2の比が0.25と5の間であるような、キャリアガス内のCOとCl2の混合気、及び
(ii)キャリアガス内のCCl4の濃度が体積で1%より高いような、キャリアガス内のCCl4、
の内の少なくとも一方で処理する工程を含む。例えば、キャリアガス内のCCl4濃度は、1.5体積%、2体積%、3体積%、5体積%、10体積%、15体積%、20体積%、25体積%、30体積%、35体積%または40体積%とすることができる。CCl4による処理は600℃と850℃の間の温度で実施されることが好ましい。CO/Cl2混合気による処理は、好ましくは900℃と1200℃の間、さらに好ましくは1000℃と1200℃の間、さらに一層好ましくは1100℃と1200℃の間の温度(例えば、1050℃、1075℃、1100℃、1125℃、1150℃、1175℃または1190℃)で実施される。キャリアガスは、例えば、He,Ar,N2,またはこれらの組合せとすることができる。
シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品を、
(i)CCl4濃度が体積で1%より高いような、キャリアガス内のCCl4、及び
(ii)混合気内のCOとCl2の総濃度が体積で10%より高く、CO:Cl2の比が0.25と5の間であるような、キャリアガス内のCOとCl2の混合気、
で処理する工程、
を含み、
CCl4による処理はCO/Cl2混合気による処理の前、または後に、実施される。CCl4による処理は600℃と850℃の間の温度で実施されることが好ましく、CO/Cl2混合気による処理は、900℃と1200℃の間の温度(例えば、950℃、975℃、1000℃、1025℃、1050℃、1075℃、1100℃、1125℃、1150℃、1175℃、1190℃)で実施されることが好ましい。CCl4による処理は少なくとも2分間行われることが好ましく、CO/Cl2混合気による処理は少なくとも5分間行われることが好ましい。
石英ガラスマッフルを備えたチューブ炉に2gのシリカスートを入れた。He内2.36%のCCl4流を確立し、炉温を10℃/分で950℃まで上げた。シリカスート試料の下流でガス生成物の赤外線スペクトルを60秒毎にとった。結果は、
400℃未満:反応は無く、スートからの水の脱離のみ;
400℃〜600℃:スートの乾燥/ドーピング;
H2O+CCl4→2HCl+COCl2 (乾燥);
2H2O+CCl4→4HCl+CO2 (乾燥);
SiO2+CCl4→COCl2+SiOxCly (ドーピング);
600℃〜850℃:CCl4のラジカル分解;
CCl4→:CCl2+2・Cl→C2Cl4+Cl2 (分解及び再結合);
850℃以上:SiO2のエッチング、炭化;
SiO2+CCl4→SiCl4+CO2 (エッチング);
CCl4→C+4・Cl (炭化);
を示す。
Claims (10)
- シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法において、前記方法が、
前記シリカ系スートまたは前記シリカ系スートでつくられた物品を以下の化合物、
(i)キャリアガス内のCOとCl2の混合気であって、前記混合気内のCOとCl2の総濃度が体積で10%より高く、CO:Cl2の比が0.25と5の間であるような、COとCl2の混合気、及び
(ii)CCl4濃度が体積で1%より高いような、キャリアガス内のCCl4、
の内の少なくとも一方で処理する工程、
を含むことを特徴とするシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。 - CO:Cl2の比が0.5と2の間であることを特徴とする請求項1に記載のシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。
- 前記COとCl2の混合気による処理が900℃と1200℃の間で実施されることを特徴とする請求項1または2に記載のシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。
- 前記CCl4による処理が600℃と850℃の間で実施されることを特徴とする請求項1に記載のシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。
- 前記COとCl2の混合気による処理が少なくとも100分間実施されることを特徴とする請求項2または3に記載のシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。
- 前記CCl4による処理時間が少なくとも20分であることを特徴とする請求項4に記載のシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。
- シリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法において、前記方法が、
前記シリカ系スートまたは前記シリカ系スートでつくられた物品を、
(i)CCl4濃度が体積で1%より高いような、キャリアガス内のCCl4、及び
(ii)COとCl2の混合気であって、前記混合気内のCOとCl2の総濃度が体積で10%より高く、CO:Cl2の比が0.25と5の間であるような、COとCl2の混合気、
によって処理する工程、
を含み、
前記CCl4による処理が前記COとCl2の混合気による処理の前または後に実施される、
ことを特徴とするシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。 - (i)前記CCl4による処理が600℃と850℃の間の温度で少なくとも2分間実施され、(ii)前記COとCl2の混合気による処理が900℃と1200℃の間の温度で少なくとも5分間実施されることを特徴とする請求項9に記載のシリカ系スートまたはシリカ系スートでつくられた物品をクリーニングする方法。
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