JP2013508788A

JP2013508788A - 抗歪み表面を有する光学フィルム

Info

Publication number: JP2013508788A
Application number: JP2012536904A
Authority: JP
Inventors: エイチ．バーバーアンソニー
Original assignee: 3M Innovative Properties Co
Current assignee: 3M Innovative Properties Co
Priority date: 2009-10-27
Filing date: 2010-10-22
Publication date: 2013-03-07
Anticipated expiration: 2030-10-22
Also published as: KR101848939B1; KR20120101401A; JP5908842B2; WO2011056475A3; US20130201660A1; JP2015180949A; WO2011056475A2; EP2493689A2; CN102596571B; CN102596571A

Abstract

光学フィルム積層体は第１主要表面及び第２主要表面を有する第１光学フィルム（２２０）を含む。第２主要表面（１６０）は、複数の微細構造（２４１）を有する艶消表面である。光学フィルム積層体は第３主要表面及び第４主要表面を有する第２光学フィルム（２３０）を含む。第２光学フィルムの第３主要表面は、第１光学フィルムの艶消表面に隣接する。第１光学フィルムの艶消表面と第２光学フィルムの第３主要表面との間の摩擦係数は約１未満である。艶消表面により提供される約１未満の摩擦係数は、光学フィルム積層体の歪み性能を向上させる。

Description

（関連出願の相互参照）
本出願は係属中の米国特許出願公開第２００９／００２９０５４号、２００９年６月２日に出願され、シリアル番号６１／１８３１５４号を有する、米国仮特許出願「ＬｉｇｈｔＲｅｄｉｒｅｃｔｉｎｇＦｉｌｍａｎｄＤｉｓｐｌａｙＳｙｓｔｅｍＩｎｃｏｒｐｏｒａｔｉｎｇＳａｍｅ」（代理人整理番号第６５４２５ＵＳ００２号）、２００９年８月２５日に出願され、シリアル番号６１／２３６７７２号を有する、米国仮特許出願「ＬｉｇｈｔＲｅｄｉｒｅｃｔｉｎｇＦｉｌｍａｎｄＤｉｓｐｌａｙＳｙｓｔｅｍＩｎｃｏｒｐｏｒａｔｉｎｇＳａｍｅ」（代理人整理番号第６５６２２ＵＳ００２号）に関連し、これらは全て、本明細書において参照によりその全体が組み込まれる。

（発明の分野）
本発明は一般的に光学フィルムに関連する。本発明は、こうした光学フィルムを組み込んだディスプレイシステムなどの光学システムに更に適用可能である。

液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）システムなどのディスプレイシステムは、例えばコンピュータのモニター、携帯情報端末（ＰＤＡ）、携帯電話、携帯音楽プレイヤー、及び薄型液晶テレビなどの様々な用途及び市販の装置において使用されている。多くのＬＣＤは、液晶パネル、及び液晶パネルに光照射するためのバックライトとしばしば呼ばれる広範囲光源を有している。バックライトは通常、１つ以上のランプ、並びに例えば光導体、ミラーフィルム、光路偏光フィルム、位相差フィルム、偏光フィルム及びディフューザーフィルムなどの多数の光管理フィルムを有している。

可視の及び／又は光学的な欠陥がより少なく、より明るく、より小型で、より低電力のディスプレイを達成するために、光学フィルム及び光学システムを改善するための継続的な必要性が存在する。本発明は、これら及びその他の要求を満たし、先行技術に勝る他の利点を提供する。

一実施形態は、第１主要表面及び第２主要表面を有する第１光学フィルムであって、第２主要表面は複数の微細構造を含む艶消表面を含む、第１光学フィルムと、第３主要表面及び第４主要表面を有する第２光学フィルムであって、第２光学フィルムの第３主要表面は第１光学フィルムの艶消表面と隣接する第２光学フィルムとを含み、第１光学フィルムと第２光学フィルムとの間の摩擦係数は約１未満である、光学フィルム積層体を含む。

別の実施形態は、第１主要表面及び第２主要表面を備える偏光層を含む。プリズム層は、第１主要表面上に配置される。艶消層は第２主要表面上に配置され、艶消層は傾斜分布を有する複数の微細構造を含み、傾斜分布のＨＷＨＭは約６〜約度以下（not greater than about 6 to about degrees）であり、艶消層は平滑な表面に隣接する際に、光学フィルムと平滑な表面との間に約１未満の摩擦係数を提供する。

別の実施形態は、第１主要表面及び第２主要表面を備える偏光層を有する光学フィルムを含む。プリズム層が第１主要表面上に配置され、艶消層が第２主要表面上に配置され、艶消層が複数の微細構造を含み、艶消層と平滑な表面との間の摩擦係数が約１未満である。

更なる実施形態は、光学フィルム積層体を対象とする。第１光学フィルムは第１主要表面及び第２主要表面を有し、第２主要表面は複数の微細構造を含む。第２光学フィルムは第３主要表面及び第４主要表面を有し、第２光学フィルムの第３主要表面は第１光学フィルムの第２主要表面の方に向けられ、光学フィルム積層体の歪みは、複数の微細構造を有さない同一の光学フィルム積層体よりも少ない。

更に別の実施形態は、光源及びディフューザーを含むバックライトを対象とする。第１光学フィルムは、第１主要表面、第２主要表面及び複数の縁部を有する基層と、第１基層の第１主要表面上に配置される第１プリズム層と、第１基層の第２主要表面上に配置される第１艶消層であって、艶消層は微細構造を含む、艶消層とを含む。第２光学フィルムは、第１主要表面及び第２主要表面を有する第２基層と、第２基層の第１主要表面上に配置される第２プリズム層とを含み、第２光学フィルムのプリズム層は第１艶消層の方に向けられ、第２基層の第２主要表面はディフューザーの方に向けられ、第１光学フィルムは縁部において拘束され、第１光学フィルムと第２光学フィルムとの間の摩擦係数は１未満である。

艶消表面を有する光学フィルムを含む、光学フィルム積層体の概略側面図。微細構造化上面及び艶消下面を有する上部光学フィルム、並びに下部光学フィルムを含む、光学フィルム積層体の概略側面図。交差したプリズムフィルムを含み、上部フィルムが艶消表面を有している光学フィルム積層体。上部にプリズム層を、下部に艶消表面を有する光学フィルム。微細構造を生成するために、微細複製され得るパターンを有する工具を作製するために使用され得る切削工具システム４００の概略側面図。本発明の実施形態による微細構造を作製するために使用され得るカッター。本発明の実施形態による微細構造を作製するために使用され得るカッター。本発明の実施形態による微細構造を作製するために使用され得るカッター。本発明の実施形態による微細構造を作製するために使用され得るカッター。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真。本発明の実施形態により艶消表面を作製するように構成されたシステム。本発明の実施形態により艶消表面を作製するように構成されたシステム。図９Ａ〜９Ｂに表されるプロセスを使用して作製された微細構造化表面の顕微鏡写真。図９Ａ〜９Ｂに表されるプロセスを使用して作製された微細構造化表面の顕微鏡写真。微細構造の側面図。光学フィルムの側面図。光学フィルムの側面図。算出された光学ヘーズ対表面フラクション「ｆ」のグラフ。算出された光学透明性対表面フラクション「ｆ」のグラフ。微細構造化表面のＡＦＭ表面プロファイル。互いに垂直な方向に沿った図１６の微細構造化表面の断面プロファイル。互いに垂直な方向に沿った図１６の微細構造化表面の断面プロファイル。図１６の微細構造化表面の％傾斜分布のグラフ。図１６の微細構造化表面の高さ分布のグラフ。図１６の微細構造化表面の％傾斜大きさ分布のグラフ。図１６の微細構造化表面の％累積傾斜大きさ分布のグラフ。様々な微細構造化表面の％累積傾斜分布のグラフ。有効透過率を測定するための光学システムの概略側面図。視覚的歪み試験のための、試験設定の概略側面図。歪みムラスコアを決定するために使用される試験構成の、側面図及び平面図。歪みムラスコアを決定するために使用される試験構成の、側面図及び平面図。視覚的歪みスコア対ＣＯＦのグラフ。歪み「ムラスコア」対ＣＯＦのグラフ。様々な光学フィルムに対する歪み「ムラスコア」の統計的プロット。様々な光学フィルムに対する歪み「ムラスコア」の統計的プロット。様々な光学フィルムに対する歪み「ムラスコア」の統計的プロット。様々な光学フィルムに対する歪み「ムラスコア」の統計的プロット。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表１に掲載される選択された試料に関する、微細複製艶消表面の表面特徴化。表４の選択された試料に関する表面ロールプロセスを使用して作製される艶消表面の表面特徴化。表４の選択された試料に関する表面ロールプロセスを使用して作製される艶消表面の表面特徴化。表４の選択された試料に関する表面ロールプロセスを使用して作製される艶消表面の表面特徴化。表４の選択された試料に関する表面ロールプロセスを使用して作製される艶消表面の表面特徴化。表４の選択された試料に関する表面ロールプロセスを使用して作製される艶消表面の表面特徴化。表４の選択された試料に関する表面ロールプロセスを使用して作製される艶消表面の表面特徴化。ディスプレイシステムの概略図。

光学フィルムは、例えば、光を偏光する及び／又は光路を変更することによって、光源から放出された光を調節する一方で、同時に物理的欠陥及び／又は光学的欠陥を遮蔽及び／又は排除するために使用される。例えば、物理的欠陥としては歪み及び傷が挙げられ、光学的欠陥としては例えば、湿潤、モアレ及び色ムラが挙げられる。より薄いディスプレイが一般的に望ましいが、特に薄いフィルムが光学フィルム積層体へと構成される際に、フィルム及び／又はフィルム積層体は歪みの影響を受けやすい。隣接する薄いフィルムの間の艶消表面は、フィルム間の摩擦係数（ＣＯＦ）を低減し、歪みを低減することが見出されている。本明細書において記載される艶消表面はまた、輝度を維持するために十分に低い光学ヘーズ、及び欠陥遮蔽を提供するために十分に低い光学的透明性を提供する。本明細書において記載される艶消表面は、偏光層、プリズム層、ディフューザー及び／又は他の光学的構造若しくは層と共に使用され得る。

図１は、艶消表面１２１を有する光学フィルム１２０を含む、光学フィルム積層体１００の概略側面図である。光学フィルム積層体１００の光学フィルム１１０、１２０は、艶消表面１２１が積層体１００の２つの光学フィルム１１０と１２０との間にあるように構成される。艶消表面１２１は、以下でより完全に記載される複数の微細構造１６０を含む。光学フィルム１１０は、第１主要表面１１１及び第１主要表面１１１と反対側の第２主要表面１１２を含む。光学フィルム１２０は、艶消表面である第１主要表面１２１及び第１主要表面１２１と反対側の第２主要表面１２２を含む。光学フィルム積層体１００内において、艶消表面１２１は、光学フィルム１１０の第２主要表面１１２と隣接する。艶消表面１２１の微細構造１６０は、本明細書において記載される摩擦係数（ＣＯＦ）、抗歪み特性、傾斜分布、傾斜の大きさ、ヘーズ及び／又は透明性特性を達成するように構成され得る。図１において、光学フィルム１２０のみが艶消表面１２１を有するものとして示されるが、いくつかの実施においては、光学フィルム１１０が同様に艶消下面を含み得る。光学フィルム１１０、１２０は、多層フィルムであり得る。

図２Ａは、光路変更フィルム２２０を含む光学フィルム積層体２００の概略側面図である。光路変更フィルム２２０は、微細構造１６０を含む艶消表面である第１主要表面２２１及び反対側の第２主要表面２２２を含む。第２主要表面２２２は、例えば、図２Ａに示される線形プリズムなどの、複数の光方向付け微細構造２６０を含む。光学フィルム積層体は、図１に関連して記載される光学フィルム１１０を含む。光学積み重ね体２００は、艶消表面、すなわち、光路変更フィルム２２０の第１主要表面２２１が、光学フィルム積層体２００の光学フィルム１１０の第２主要表面１１２と隣接するように構成されるように、構成される。艶消表面２２１の微細構造１６０は、本明細書において記載される摩擦係数（ＣＯＦ）、抗歪み特性、傾斜分布、傾斜の大きさ、ヘーズ及び／又は透明性特性を達成するように構成され得る。いくつかの用途において、光学フィルム２２０、１１０は、多層構造として作製され得る。例えば、光学フィルム２２０は、基層上に配置されるプリズム層及び／又は艶消層として作製され得る。層の１つ以上、例えば、基層は多層を含み得る。

いくつかの用途において、光学積層体内に２つの光路変更フィルムを含むことが有益である。各光路変更フィルムが線形プリズムを含み、フィルムは、一方のフィルムのプリズムの方向が、別のフィルムの線形プリズムの方向に対して角度を有するように構成されていてもよい。このような配列体が図２Ｂに示されている。図２Ｂは、交差するプリズムフィルム２３０、２４０を例示する。フィルム２３０の線形プリズム２７０の方向が、フィルム２４０の線形プリズム２８０の方向に対して９０°又は他の角度を有してもよい。フィルム２３０は、第１主要表面２３１及び反対側の第２主要表面２３２を含み、第２主要表面２３２は図２Ｂに例示される線形プリズム２７０などの微細構造を含む。フィルム２３０の下部主要表面２３１はまた、表面２４１と同様の微細構造を含む艶消表面を含み得る。

光路変更フィルム２４０は、図２Ａに例示されるフィルム２２０と同様である。フィルム２４０は第１主要表面２４１を含む。表面２４１は微細構造１６０を含む。反対側の第２主要表面２４２は、図２Ｂの線形プリズム２８０として表される微細構造を含む。艶消表面である第１主要表面２４１は、これが光学フィルム積層体２０１の光学フィルム２３０の第２主要表面２３２に隣接するように構成される。艶消表面２４１の微細構造１６０は、本明細書において記載される摩擦係数（ＣＯＦ）、抗歪み特性、傾斜分布、傾斜の大きさ、ヘーズ及び／又は透明性特性を達成するように構成され得る。いくつかの用途において、光学フィルム２３０、２４０は、多層構造として作製され得る。例えば、光学フィルム２３０、２３０のいずれか又は両方が、基層上に配置されるプリズム層及び／又は艶消層として作製され得る。層の１つ以上、例えば、基層は多層を含み得る。

光学積層体２０１が液晶ディスプレイのバックライトに含まれる場合のようないくつかの場合では、線形微細構造２８０及び／又は２７０によってモアレが生じ得る。いくつかの場合では、これら２つの光路変更フィルム、特に上側の光路変更フィルムによって色ムラが生じ得る。色ムラは、光路変更フィルムの屈折率分散によるものである。一次色ムラは光路変更フィルムの視野角限界付近において通常視認され、より高次の色ムラはより大きな角度において通常視認される。主要表面２４１及び２３１が充分に低い光学ヘーズ値及び透明性を有するような特定の場合では、光学積層体はディスプレイの輝度を大幅に低減させることなくモアレ及び色ムラを効果的に遮蔽又は防止することができる。このような場合では、主要表面２４１、２３１はそれぞれ、約５％以下、又は４．５約％以下、又は約４％以下、又は約３．５％以下、又は約３％以下、又は約２．５％以下、又は約２％以下、又は約％１．５以下、又は約１％以下の光学ヘーズ値を有し、更に主要表面２４１、２３１はそれぞれ、約８５％以下、又は約８０％以下、又は約７５％以下、又は約７０％以下、又は約６５％以下、又は約％６０以下の光学的透明性を有する。

光学積層体２０１がディスプレイシステムにおいて輝度を高める目的で使用されるようないくつかの場合では、光学積層体の平均有効透過率（ＥＴＡ）は約２．４以上、又は約２．４５以上、又は約２．５以上、又は約２．５５以上、又は約２．６以上、又は約２．６５以上、又は約２．７以上、又は約２．７５以上、又は約２．８以上である。いくつかの場合において表面２３１及び２４１は両方とも艶消表面であり、光学積層体２０１の平均有効透過率は、平滑な下部主要表面を有すること以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する光学積層体と比較して、約１％、又は約０．７５％、又は約０．５％、又は約０．２５％以下、又は約０．１％以下だけ小さい。いくつかの場合において、下部主要表面２３１及び２４１の両方が艶消表面を含み、光学積層体２０１の平均有効透過率は、平滑な下部主要表面を有すること以外は同じ構造を有する光学積層体と比較して低くない。いくつかの場合において、下部主要表面２４１及び２３１の両方が艶消表面を含み、光学積層体２０１の平均有効透過率は、平滑な下部主要表面を有すること以外は同じ構造を有する光学積層体と比較して、少なくとも約０．１％、又は約０．２％、又は約０．３％だけ高い。実施例として、光学積層体２０１と同様の光学積層体が作製され、表面２４１、２３１が微細構造を備える艶消表面を含み、光学積層体は、約２．７７３の平均有効透過率を有した。各主要表面２３１、２４１はそれぞれ、約１．５％の光学ヘーズ及び約８３％の光学的透明性を有した。直線プリズムは約１．６５の屈折率を有していた。比較として、平滑な主要表面を有する以外は同じ構造を有する光学積層体は、約２．７６３の平均有効透過率を有した。したがって、構造化された下部主要表面２３１、２４１によって平均有効透過率が約０．３６％増大することにより更なるゲインが提供された。

別の例として、艶消下部主要表面２４１、２３１を備える光学積層体２０１と同様であり、約２．５５６の平均有効透過率を有する光学積層体が作製された。各主要表面２４１、２３１はそれぞれ、約１．２９％の光学ヘーズ及び約８６．４％の光学的透明性を有した。直線プリズムは約２４マイクロメートルのピッチ、約９０°の頂角、及び約１．５６７の屈折率を有していた。比較として、平滑な底部主要表面を有する以外は同じ構造を有する同様の光学積層体は、約２．５５２の平均有効透過率を有した。したがって、構造化された下部主要表面２３１、２４１によって平均有効透過率が約０．１６％増大することにより更なるゲインが提供された。

更に別の例として、艶消下部主要表面２４１、２３１を備える光学積層体２０１と同様であり、約２．４１５の平均有効透過率を有する光学積層体が作製された。各底部主要表面２４１、２３１はそれぞれ、約１．３２％の光学ヘーズ及び約８４．８％の光学的透明性を有した。直線プリズムは約２４マイクロメートルのピッチ、約９０°の頂角、及び約１．５６７の屈折率を有していた。比較として、平滑な底部主要表面を有する以外は同じ構造を有する同様の光学積層体は、約２．４０４の平均有効透過率を有した。したがって、構造化された下部主要表面２４１、２３１によって平均有効透過率が約０．４６％増大することにより更なるゲインが提供された。

図３は、光学フィルム３００の概略側面図である。代表的な光学フィルム３００は３層３３０、３７０及び３４０を含む。一般的に、光学フィルム３００は１つ以上の層を有し得る。例えば、いくつかの場合において、光学フィルムは、それぞれ第１主要表面３１０及び第２主用表面３２０を含む、単一の層を有し得る。別の実施例において、いくつかの場合において、光学フィルムが多くの層を含み得る。例えばこうした場合では基層３７０が多層を有し得る。

光学フィルム３００の合計厚さは、最低約４０マイクロメートル、又は３５マイクロメートルまで、又は更に３０マイクロメートルまでの範囲であってもよく、プリズム層３３０の厚さは、最低１２マイクロメートル又は８マイクロメートルまでの範囲であり、基層３７０の厚さは、最低３０マイクロメートル又は２５マイクロメートル又は２０マイクロメートルまでであり、艶消層の厚さは、最低５マイクロメートル、又は３マイクロメートル、又は約２マイクロメートル未満までである。

フィルム３００は、ｙ方向に沿って延びる複数の微細構造３５０を含む第１表面３１０を含む。フィルム３００は更に、第１主要表面３１０と反対側にあり、複数の微細構造３６０を含む第２主要表面３２０を有している。

フィルム３００はまた、各第１主要表面３１０と第２主要表面３２０との間に配置され、第１主要表面３７２及び反対側の第２主要表面３７４を含む、基層３７０を含む。フィルム３００はまた、基層３７０の第１主要表面３７２上に配置され、フィルムの第１主要表面３１０を含むプリズム層３３０と、基層３７０の第２主要表面上に配置され、フィルム３００の第２主要表面３２０を含む艶消層３４０とを含む。艶消層３４０は主要表面３２０の反対側に主要表面３４２を有している。

微細構造３５０は、主に、所望の方向に沿って（例えば、正のｚ方向に沿って）光学フィルム３００の主要表面３２０に入射する光の光路を変更するように設計され得る。代表的な光学フィルム３００では、微細構造３５０はプリズム状線形構造である。一般的に、微細構造３５０は、入射光のある部分を回折させ、入射光の異なる部分を再利用することによって光路を変更することが可能なものであればいずれの種類の微細構造であってよい。例えば、微細構造３５０の断面形状は湾曲かつ／又は区分的に線形部分とするか、これを含んだものとすることができる。例えば、いくつかの場合では、微細構造３５０を、ｙ方向に沿って延びる線形円筒形レンズとすることができる。

各線形プリズム状微細構造３５０は、頂角１５２及び共通の基準平面３７２から測定した高さ１５４を含む。光路変更フィルムの光学的結合又は湿潤を低減し、かつ／又は耐久性を高めることが望ましい場合のようないくつかの場合では、プリズム状微細構造１５０の高さがｙ方向に沿って変化してもよい。例えば、プリズム状の線形微細構造１５１のプリズムの高さをｙ方向に沿って変化させる。こうした場合では、プリズム状微細構造１５１は、ｙ方向に沿って変化する局所的高さ、最大高さ１５５、及び平均高さを有する。特定の場合では、線形微細構造１５３のようなプリズム状の線形微細構造は、ｙ方向に沿って一定の高さを有する。こうした場合では、微細構造は、最大高さ及び平均高さに等しい一定の局所的高さを有する。

光学的結合及び湿潤を低減させることが望ましい場合のような特定の場合では、線形微細構造の一部のものがより短く、一部のものがより大きな高さを有する。例えば、線形微細構造１５３の高さ１５６は線形微細構造１５７の高さ１５８よりも小さい。

頂角すなわち二面角１５２は、特定の用途において望ましい任意の値を有しうる。例えば特定の場合では、頂角１５２は、約７０°〜約１１０°、又は約８０°〜約１００°、又は約８５°〜約９５°の範囲であってよい。特定の場合では、微細構造１５０は、例えば９０°などの、約８８°又は８９°〜約９２°又は約９１°の範囲であり得る等しい頂角を有する。

プリズム層３３０は、特定の用途において望ましい任意の屈折率を有し得る。例えば特定の場合では、プリズム層の屈折率は、約１．４〜約１．８、又は約１．５〜約１．８、又は約１．５〜約１．７の範囲である。いくつかの場合では、プリズム層の屈折率は約１．５以上、又は約１．５５以上、又は約１．６以上、又は約１．６５以上、又は約１．７以上である。

基層３７０は、誘電体、半導体、又は金属などの用途に好適な任意の材料であるか、又はこれを含み得る。例えば、基層３７０はガラス、並びにポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、及びアクリル樹脂などのポリマーを含むか、あるいはこれらで作製され得る。基層３７０は剛性又は可撓性であり得る。基層３７０は、特定の用途において望ましい任意の厚さ及び／又は屈折率を有してよい。例えば、いくつかの場合において、基層３７０はＰＥＴであり、約２３マイクロメートル又は約５０マイクロメートル又は約１７５マイクロメートルの厚さを有し得る。

基層３７０は、反射性偏光子などの偏光層を含み得る。ディスプレイ光源は典型的には液晶（ＬＣ）マトリックスに向けられる前に偏光される非偏光を生成する。吸収性偏光子は、一方の偏光状態のみを伝達し、他方の偏光状態の光を吸収することによって、ＬＣマトリックスに向けられた光を偏光する。反射性偏光子はしかしながら、そうでなければ吸収される光を反射するために使用され得、よってこの光は再利用され得る。反射性偏光子により反射された光の少なくともいくらかは、偏光解消され、その後反射性偏光子に偏光状態で戻される場合もあり、それは反射性偏光子及び下方吸収性偏光子を通ってＬＣ層まで伝達する。この方法において、反射性偏光子は、ＬＣマトリックスに到達する、光源により放出される光の割合を増加させるために使用され得る。

任意の好適なタイプの反射性偏光子、例えば、多層光学フィルム（ＭＯＦ）反射性偏光子；連続／分散相偏光子又はコレステリック反射性偏光子のような、拡散反射性偏光フィルム（ＤＲＰＦ）が使用されてよい。

ＭＯＦ、コレステリック及び連続／分散相反射性偏光子は全て直交偏光状態で光を透過しながら１つの偏光状態の光を選択的に反射するために、フィルム、通常では高分子フィルム内で変動する屈折率プロファイルに依存する。ＭＯＦ反射性偏光子のＭＯＦのいくつかの例は、本明細書において参照として組み込まれる米国特許第５，８８２，７７４号に記載される。ＭＯＦ反射性偏光子の市販の例としては、Ｖｉｋｕｉｔｉ（商標）ＤＢＥＦ−ＩＩ及びＤＢＥＦ−Ｄ４００、ＢＥＦ−ＲＰ、多層反射性偏光子が挙げられ、これらは拡散性表面を含み、３ＭＣｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，Ｍｉｎｎ）から入手可能である。

米国特許第５，８８２，７７４号に記載される再利用反射性偏光子は多層光学偏光フィルムであり、フィルムを構成する交互の層は、フィルムと垂直な方向に沿って実質的に整合した屈折率を有し、それによってｐ偏光に関するフィルム内の任意の所与の境界面の反射率が、入射角の関数として実質的に一定である。

いくつかの場合において、例えば、光路変更フィルム３００が液晶ディスプレイ内で使用されるとき、光学フィルム３００のプリズム層３３０は、ディスプレイの輝度を増加又は改善するように機能し得る。こうした場合では、フィルム３００は、１よりも大きな有効透過率又は相対ゲインを有する。本明細書で用いるところの有効透過率とは、フィルムが所定位置にないディスプレイの輝度に対する、フィルムがディスプレイシステムの定位置に配されたディスプレイシステムの輝度の比のことである。平均有効透過率（ＥＴＡ）の測定は、図２３に関連して以下に記載される。フィルム３００が、輝度を増加させるために輝度向上フィルムとしてディスプレイシステム内で使用され、線形プリズムが約１．６超の屈折率を有する場合、フィルムのＥＴＡは約１．５以上、又は約１．５５以上、又は約１．６以上、又は約１．６５以上、又は約１．７以上、又は約１．７５以上、又は約１．８以上、又は約１．８５以上である。フィルムが反射性偏光子として、及び輝度向上のために使用される際、フィルムのＥＴＡは２以上、２．２以上、又は２．５以上である。

層３４０は、艶消表面を提供する微細構造３６０を含む。艶消層３４０は、光学フィルム積層体内の光学フィルム３００と隣接する層との間の摩擦係数（ＣＯＦ）を減少させる。薄層間のＣＯＦの低減は、例えば、温度及び／又は湿度の変動による膨張及び／又は収縮の間に、２つの隣接する層が結合することなく互いに移動することを可能にする。本明細書において開示される実施形態による艶消層は、隣接する層の間のＣＯＦを約１未満、又は約０．８未満、又は約０．６未満に低減し、一方でまた所望のヘーズ、透明性及び／又はＥＴＡ特性を提供することにより、向上した歪み特性を提供するように設計され得る。本明細書において記載される艶消表面が、平滑な表面上で試験されると、ＣＯＦは、２つの平滑な表面間におけるＣＯＦと比較した際に低減する。

艶消層３４０の微細構造３６０は、望ましくない物理的欠陥（例えば傷など）及び／又は光学的欠陥（例えばディスプレイ又は照明システム内のランプからの不要に明るい、すなわち「ホット」スポットなど）を隠してもよく、その際、光路変更フィルムが光路を変更し、輝度を高める性能に与える悪影響は全くないかあるいはごくわずかである。このような場合では、第２の主要表面３２０は、約５％以下、又は約４．５％以下、又は約４％以下、又は約３．５％以下、又は約３％以下、又は約２．５％以下、又は約２％以下、又は約％１．５以下、又は約１％以下の光学ヘーズ値、及び約８５％以下、又は約８０％以下、又は約７５％以下、又は約７０％以下、又は約６５％以下、又は約％６０以下の光学的透明性を有する。

本明細書で用いるところの光学ヘーズ値とは、垂直方向から４°よりも大きく逸れた透過光の、全透過光に対する比として定義される。本明細書で開示するヘーズ値は、ＡＳＴＭＤ１００３に述べられる方法に従って、Ｈａｚｅ−ＧａｒｄＰｌｕｓヘーズ計（ＢＹＫ−Ｇａｒｄｉｎｅｒ（ＳｉｌｖｅｒＳｐｒｉｎｇｓ，Ｍｄ．）より入手可能）を使用して測定されたものである。本明細書で用いるところの光学的透明性とは、Ｔ_１が垂直方向から１．６〜２°だけ逸れた透過光、Ｔ_２が垂直方向から０〜０．７°の間の透過光であるものとして、（Ｔ_１−Ｔ_２）／（Ｔ_１＋Ｔ_２）の比のことを指す。本明細書に開示される透明性値は、ＢＹＫ−ＧａｒｄｉｎｅｒのＨａｚｅ−ＧａｒｄＰｌｕｓヘーズ計を使用して測定された。

微細構造３６０は、特定の用途において望ましい任意の種類の微細構造であってよい。例えば、微細構造３６０は、規則的なパターン、不規則なパターン、ランダムパターン、又はランダムに見える疑似乱数パターンを形成し得る。

微細構造３６０は、任意の好適な作製方法を使用して作製され得る。例えば、微細構造３６０を有する艶消層３４０は、基層３７０上に物質をコーティングすることによって形成され得る。コーティング物質は、微細構造を形成する粒子を含み得る。コーティング方法としては、ダイコーティング、ディップコーティング、ロールコーティング、押出コーティング、押出複製及び／又は他のコーティングプロセスが挙げられる。

微細構造３６０は、工具から微細複製によって製造することが可能であり、こうした工具は彫刻又はダイヤモンド旋削の使用などの任意の利用可能な製造方法によって作製することができる。例示的なダイヤモンド旋削システム及び方法は、例えばそれらの開示内容をその全容にわたって本明細書に組み込まれる、国際特許出願公開第ＷＯ００／４８０３７号、並びに米国特許第７，３５０，４４２号及び同第７，３２８，６３８号に述べられるような高速工具サーボ装置（ＦＳＴ）を含み、かつこれを利用したものであってよい。

艶消表面のＣＯＦは、艶消表面を形成する構造の形状に依存することがあり、かつガラス転移温度Ｔｇに依存することがある。１未満のＣＯＦを達成するため、艶消表面を形成するために選択される材料は、約１００℃未満、又は約９０℃未満、又は約８０℃未満又は約７０℃未満のＴｇを有し得る。

艶消表面は、本明細書において記載され、本明細書において参照として組み込まれる米国特許出願公開第２００９／００２９０５４号に更に記載される表面ローラープロセスを使用して形成され得る。上記の通り、艶消表面のＣＯＦは、艶消表面を形成する構造の形状、及び転移温度Ｔｇに依存する。下塗樹脂への界面活性剤添加剤は、コーティングの表面化学を修正し、また表面ローラープロセスを使用して作製されるフィルムのＣＯＦに寄与する。

図４は、微細構造３６０を生成するために、微細複製され得るパターンを有する工具を作製するために使用され得る切削工具システム４００の概略側面図である。切削工具システム４００はねじ切り旋削回転プロセスを用いたものであり、駆動装置４３０によって中心軸４２０を中心として回転しかつ／又は中心軸４２０に沿って移動し得るロール４１０、及びロール材料を切削するためのカッター４４０を有している。カッターは、サーボ４５０上に取り付けされ、ドライバー４６０によってｘ方向に沿ってロール内へ及び／又はロールに沿って移動され得る。一般的にカッター４４０は、ロール及び中心軸４２０に対して垂直に取り付けられ、ロールが中心軸を中心として回転する際にロール４１０の彫刻可能な材料の内部へと送り込まれる。次いでカッターは中心軸に平行に送られてねじ切りが形成される。カッター４４０を、高周波でかつ少ない変位で同時に作動させて、マイクロ複製された際にマイクロ構造３６０を生じる機構をロール内に生成し得る。

サーボ４５０は高速工具サーボ装置（ＦＴＳ）であり、しばしばＰＺＴスタックと呼ばれる、カッター４４０の位置を速やかに調節する固体圧電（ＰＺＴ）素子を有している。ＦＴＳ４５０は、カッター４４０のｘ、ｙ、及びｚ方向、又は軸外方向への高精度かつ高速の運動を可能とするものである。サーボ４５０は、静止位置に対して制御された運動を生じさせることが可能な任意の高品質変位サーボであってよい。ある場合には、サーボ４５０は、０〜約２０マイクロメートルの範囲の変位を、約０．１マイクロメートル又はそれより良好な分解能にて確実にかつ反復して提供し得る。

駆動装置４６０は、カッター４４０をｘ方向に沿って中心軸４２０と平行に動かすことができる。特定の場合では、駆動装置１０６０の変位分解能は約０．１ミクロンよりも高く、又は約０．０１マイクロメートルよりも高い。駆動装置４３０によって生ずる回転運動が駆動装置４６０によって生ずる並進運動と同期することによって、得られる微細構造３６０の形状が正確に制御される。

ロール４１０の彫刻可能な材料は、カッター４４０によって彫刻可能な任意の材料であってよい。例示的なロール材料としては、銅などの金属、各種ポリマー及び各種ガラス材料が挙げられる。

カッター４４０は任意の種類のカッターでよく、特定の用途において望ましい任意の形状を有しうる。例えば図５Ａは、半径「Ｒ」の円弧状の切削先端部５１５を有するカッター５１０の概略側面図である。特定の場合では、切削先端部５１５の半径Ｒは少なくとも約１００マイクロメートル、又は少なくとも約１５０マイクロメートル、又は少なくとも約２００マイクロメートル、又は少なくとも約３００マイクロメートル、又は少なくとも約４００マイクロメートル、又は少なくとも約５００マイクロメートル、又は少なくとも約１０００マイクロメートル、又は少なくとも約１５００マイクロメートル、又は少なくとも約２０００マイクロメートル、又は少なくとも約２５００マイクロメートル、又は少なくとも約３０００マイクロメートルである。

別の例として、図５Ｂは、頂角βを有するＶ字状切削先端部５２５を有するカッター５２０の概略側面図である。特定の場合では、切削先端部５２５の頂角βは少なくとも約１００°、又は少なくとも約１１０°、又は少なくとも約１２０°、又は少なくとも約１３０°、又は少なくとも約１４０°、又は少なくとも約１５０°、又は少なくとも約１６０°、又は少なくとも約１７０°である。更に他の例として、図５Ｃは、区分直線からなる切削先端部５３５を有するカッター５３０の概略側面図であり、図５Ｄは、湾曲した切削先端部５４５を有するカッター５４０の概略側面図である。

再び図４を参照すると、ロールの材料を切削する際の中心軸４２０に沿ったロール４１０の回転及びｘ方向に沿ったカッター４４０の運動によって、中心軸に沿ってピッチＰ_１を有するねじ切り経路が形成される。カッターがロール表面に垂直な方向に沿って動いてロール材料を切削するにしたがって、カッターによって切削される材料の幅はカッターが移動又は出し入れされる際に変化する。例えば図５Ａを参照すると、カッターによる最大の貫通深さは、カッターにより切削される最大幅Ｐ_２に対応している。

光学フィルム３００のプリズム層３３０は、図４に関連して記載されたプロセスと同様のプロセスを使用して作製され得る。艶消層３４０及びプリズム層３３０をそれぞれ作製するために、別個の工具、すなわち艶消工具及びプリズム工具が生成され得る。工具の製造の後、基材として基層３７０を使用して、光学フィルムを形成するために、艶消工具及びプリズム工具が使用され得る。第１パスにおいて、基層３７０の主要表面３７４が、艶消層３４０を形成するために艶消工具を使用して形成され得る。第２パスにおいて、基層３７０の反対側の主要表面３４２がプリズム工具を使用して形成され得る。

図６〜８は、図４に関連して記載されるプロセスを使用して作製され得る艶消表面パターンの顕微鏡写真である。図６Ａ〜６Ｃは、３つの異なる倍率で示した試料の平面走査電子顕微鏡写真（ＳＥＭ）である。図６Ａ〜６Ｃの試料は、カッター５２０と同様のカッターを使用して作製され、切削先端部５２５の頂角は約１７６°であった。試料は幾何学的に対称であった。共焦点顕微鏡法により、微細構造の平均高さは約２．６７マイクロメートルと測定された。

図７Ａ〜７Ｃは、３つの異なる倍率で示した試料の平面ＳＥＭである。試料は、切削先端部５１５の半径が約４８０マイクロメートルであるカッター５１０と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に対称であった。共焦点顕微鏡法により、微細構造の平均高さは約２．５６マイクロメートルと測定された。

図８Ａ〜８Ｃは、３つの異なる倍率で示した試料の平面ＳＥＭである。試料は、切削先端部５１５の半径が約３３００マイクロメートルであるカッター５１０と同様のカッターを用いて作製した。試料は幾何学的に非対称であった。共焦点顕微鏡法により、微細構造の平均高さは約１．４６マイクロメートルと測定された。

艶消層３４０を形成するための別のプロセスは、パターン付き工具を含まなかった。１つのこのようなプロセスの例は、本明細書において先に参照として組み込まれている同一譲受人の米国特許出願公開第２００９／００２９０５４号に記載される。このプロセスにおいて、基材にコーティングされる材料は、コーティング可能な材料を第１の又は初期粘度から第２粘度へと変えるように処理される。一度、コーティング材料の粘度が第２粘度になると、その後、材料はその上に艶消仕上げを付与するために表面圧力に供される。その艶消仕上げに加え、コーティング可能な材料は任意により、更に硬質化、硬化又は固化され得る。

図９Ａは、艶消層３４０を作製することができるシステムの図である。コーティングされていない基材９２２、例えば基層３７０が、コーティングされていない状態で第１ステーション９２４に運搬されるが、これは少なくとも一表面が下塗されていることがある。基材は、バックアップロール９２６及びアイドルロール９３２によって第１ステーション９２４に移動される。ステーション９２４において、コーティング可能な材料が、コーティングされた基材９３０を生成するために、コーティング機構９２８によって、コーティングされていない基材９２２上に堆積される。図９Ａに示される実施形態において、基材９２２は、連続的又は非切断材料として示される。他の実施形態において、基材は、非連続的形状、又は別個の断片（例えば、特定の用途に適合するように事前に切断された、又は事前に作製された）で提供され得る。

コーティング機構９２６による堆積のときに、コーティング可能な材料は第２粘度よりも低い初期粘度を有し得る。あるいは、コーティング可能な材料は、第２粘度よりも高い初期粘度を有し得る。

本発明の一実施形態において、コーティング可能な材料は、基材に最初に適用されるときに、基材９２２の主要表面上に材料の液体様又はゲル様フィルムを形成するために、典型的には液体又はゲル様であり、流動可能であるか又は延ばすことが可能である。コーティング可能な材料は、少なくとも一種の硬化性成分を含み得る。

いくつかの実施形態において、コーティング可能な材料は、少なくとも一種の溶媒を含み、コーティング可能な材料は、基材９２２に直接適用される。他の実施形態において、コーティング可能な材料は溶媒を含まなくてもよく（例えば、１００％固体）、コーティング可能な材料は、ローラーに適用され、その後基材９２２に移送されてもよい。

第２ステーション９３４は、コーティング可能な材料の粘度を変えるための手段を提供する。示される実施形態において、第２ステーション９３４は、コーティング可能な材料の粘度を増加させる。コーティング可能な材料が少なくとも一種の溶媒を含む実施形態において、コーティング可能な材料は、オーブン、加熱要素などの熱源に曝露されてもよく、コーティング可能な材料は、溶媒を除去し及び／又はコーティング可能な材料内の少なくとも一種の成分を部分的に硬化させるために十分な高温に供される。第２ステーション９３４内にある間、コーティング可能な材料の粘度は第２又はより高い粘度まで上げられ、コーティング可能な材料は、本明細書において記載される更なる処理に耐えるように十分に硬質化、乾燥及び／又は硬化させられる。第２ステーション９３４の正確な温度は、部分的には、コーティング可能な材料の組成、コーティング材料の、これが第２ステーション９３４を出る際の所望の粘度、及びコーティングされた基材がステーション９３４内に留まる時間量に依存する。

あるいは、ステーション９３４において、コーティング可能な材料の粘度は、例えばコーティング可能な材料を軟化させるために熱を適用することにより、初期粘度より低減させてもよく、又は例えば、コーティング可能な材料を冷却することにより及び／若しくはコーティング可能な材料の部分的な硬化により初期粘度より増加させてもよい。いくつかの実施において、コーティング可能な材料は、許容可能な第２粘度を得るために、加熱又は冷却のいずれも必要としないことがある。いくつかのコーティング可能な材料において、本明細書において記載の更なる処理を可能にするためにコーティング可能な材料を硬質化又は軟化させるために、コーティング可能な材料９３０を周囲条件下で空気に曝露することで十番な場合がある。

基材９３０は、第２ステーション９３４から第３ステーション９３６まで運搬され、基材９３０上のコーティング可能な材料が、１つ以上の表面ローラー９３８に直接接触する。図９Ａに示される実施形態において、表面ローラーは３つのローラー９３８ａ、９３８ｂ、９３８ｃを含む。より多い又はより少ない表面ローラーが使用され得る。コーティング９３０は、表面ローラー９３８の周囲において、基材９３０上に艶消仕上げを生成するために十分な張力に維持される。

艶消表面は、表面ローラーの表面上のパターンをコーティング可能な材料上に刻むことによって形成されるのではない。むしろ、艶消表面は、コーティング可能な材料と、表面ローラーの通常の表面との相互作用によって形成されるものと考えられる。このプロセスは図９Ｂに例示される。コーティング可能な材料９８０は、コーティング可能な材料の一部が表面ローラー９３８の表面に粘着するために十分な粘着性を有する。プロセスのこの時点において、コーティング可能な材料９８０は、第２ステーション９３４の条件に供されており、それによってコーティング可能な材料９８０は粘着性でありかつ流動に抵抗し、表面ローラー９３８に対して押圧される際に表面ローラー９３８の表面に過剰に移行するか変形することがない。しかしながら、コーティング可能な材料の最外層は、表面ローラー９３８に接着し、その後、そこから解放されて基材９３０上に、拡大してより詳細に見ることができる艶消表面９８２を生成する。

いずれの理論にも制限されることを意図しないが、いくつかの実施形態において少量のコーティング可能な材料が、最初に表面ローラー９３８に接着し得る。コーティング可能な材料が表面ローラーによって受け取られるのとほぼ同じ速度で、コーティング可能な材料が表面ローラー９３８から連続的に解放されると、定常状態が典型的に達成される。換言すれば、コーティングされた基材９３０の入る区分はコーティング可能な材料を含み、これは、コーティングされた基材の上流区分からの同じコーティング可能な材料で予め湿潤した表面ローラーと接触する。コーティング可能な材料の区分が表面ローラーに接触する際、これが既にローラー上に堆積したコーティング可能な材料のいくらかを受け取る。コーティングされた基材の同じ区分が表面ロールを離れると、コーティングされた基材上のコーティング可能な材料の表面層の一部が分離し、コーティング可能な材料のいくらかが表面ローラー上に留まるが、基材上に留まるコーティング可能な材料の正味量は、平均して、表面ロールに入るコーティング可能な材料の量と等しい。

コーティングされた基材９３０は、表面ローラー９３８によって艶消表面仕上げが表面に付与された状態で第３ステーション９３６を出る。任意の第４ステーション９４０は、コーティング可能な材料を更に硬質化又は硬化させるために使用され得る。第４ステーション９４０は、コーティング可能な材料がこのような処理を必要としない場合があるという点において任意である。

艶消表面の形成の前又は後のいずれかにおいて、プリズムフィルムが、基層上に微細複製され得る。

図１０Ａ及び図１０Ｂは、図９に関連して記載される表面ローラープロセスを使用して作製される艶消表面の一部の顕微鏡写真の画像である。この特定のフィルムにおいて、艶消層は、基材上に約２マイクロメートルの厚さを有する。図１０Ａは５０倍で拡大したものであり、図１０Ｂは１２５倍で拡大した同じ表面である。

図１１は、例えば、以上に記載のプロセスを使用して形成され得る艶消層３４０（図３）の一部の概略側面図である。詳細には図１１は、主要表面３２０内の微細構造３６０及び対向する主要表面３４２を示している。微細構造３６０は、微細構造の表面全体にわたった傾斜分布を有している。例えば微細構造は、θが、位置１１１０において微細構造表面と直交する（α＝９０°）垂線１１２０と、同じ位置において微細構造表面と接する接線１５３０との間の角度であるものとして、位置１１１０において傾斜θを有する。傾斜θは、接線１１３０と艶消層の主要表面３４２との間の角度でもある。

艶消層３４０の光学ヘーズ値及び透明性を、例えばＴｒａｃｅＰｒｏ（ＬａｍｂｄａＲｅｓｅａｒｃｈＣｏｒｐ．（Ｌｉｔｔｌｅｔｏｎ，ＭＡ）から入手可能）などの市販のレイトレーシングプログラムと同様のプログラムを使用して計算した。計算を行うにあたり、各微細構造がσに等しい半値反幅（ＨＷＨＭ）を有するガウス傾斜分布を有するものと仮定した。更に、艶消層の屈折率が１．５に等しいものと仮定した。計算結果を図１４及び１５に示す。図１４は、「ｆ」を微細構造３６０によって覆われた主要表面３２０の面積の割合（％）であるものとして、９個の異なるσの値について表面の割合「ｆ」に対する計算された光学ヘーズ値を示したものである。図１５は、ｆに対する計算された光学的透明性を示したものである。微細構造３６０が、輝度を全く又はほとんど低下させることなく物理的及び／又は光学的欠陥を効果的に隠すときのような特定の場合では、複数の微細構造３６０が第２の主要表面３２０の少なくとも約７０％、又は少なくとも７５約％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約８５％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％を被覆する。微細構造がガウスすなわち正規傾斜分布を有する場合のような特定の場合では、分布のＨＷＨＭ（σ）は、約４．５°以下、又は約４°以下、又は約３．５°以下、又は約３°以下、又は約２．５°以下、又は約２°以下である。

上記に開示したような例示的な計算法においては、微細構造３６０はＨＷＨＭがσに等しいガウス傾斜分布を有するものと仮定した。一般的に微細構造は特定の用途において望ましい任意の分布を有しうる。例えば微細構造が球状部分であるような特定の場合では、微細構造は２つの限定角度の間の均一な分布を有しうる。他の例示的な傾斜分布としては、ローレンツ分布、放物線状分布、及びガウス分布などの異なる分布の組み合わせが挙げられる。例えば特定の場合では、微細構造はより小さいＨＷＨＭ（σ_１）を有する第１のガウス分布が、より大きなＨＷＨＭ（σ_２）を有する第２のガウス分布と加え合わされるか、又は合成された分布を有しうる。特定の場合では、微細構造は非対称的な傾斜分布を有しうる。特定の場合では、微細構造は対称的な分布を有しうる。

図１２は、基層３７０と同様の基材１２５０上に堆積された艶消層１２６０を含む、光学フィルム１２００の概略側面図である。艶消層１２６０は、基材１２５０に付属する第１の主要表面１２１０、第１の主要表面の反対側の第２の主要表面１２２０、及び結合剤１２４０中に分散された多数の粒子１２３０を有している。第２の主要表面１２２０は、多数の微細構造１２７０を有している。微細構造１２７０の相当の部分、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％は、粒子１２３０上に配置され、主として粒子１２３０に起因して形成されている。換言すれば、粒子１２３０は微細構造１２７０が形成される主要因となっている。こうした場合では、粒子１２３０は、約０．２５マイクロメートルよりも大きい、又は約０．５マイクロメートルよりも大きい、又は約０．７５マイクロメートルよりも大きい、又は約１マイクロメートルよりも大きい、又は約１．２５マイクロメートルよりも大きい、又は約１．５マイクロメートルよりも大きい、又は約１．７５マイクロメートルよりも大きい、又は約２マイクロメートルよりも大きい平均サイズを有する。

いくつかの場合では、艶消層３４０を艶消層１２６０と同様なものとし、第２の主要表面３２０に微細構造３６０の形成の主要因となる多数の粒子を含ませることができる。粒子１２３０は、ある用途で望ましいものとなり得る任意の種類の粒子であってよい。例えば、粒子１２３０はポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリスチレン（ＰＳ）、又は特定の用途において望ましい他の任意の材料で形成することができる。一般的に、粒子１２３０の屈折率は結合剤１２４０の屈折率とは異なっているが、これらは同じ屈折率を有してもよい。例えば、粒子１２３０は約１．３５、又は約１．４８、又は約１．４９、又は約１．５０の屈折率を有してよく、結合剤１２４０は約１．４８、又は約１．４９、又は約１．５０の屈折率を有してよい。

いくつかの場合では、艶消層３４０は粒子を含まない。いくつかの場合では、艶消層３４０は粒子を含むが、粒子は微細構造３６０の形成の主要因とはなっていない。例えば、図１３は、基材３７０と同様の基材１３５０上に配置された、艶消層３４０と同様の艶消層１３６０を有する光学フィルム１３００の概略側面図である。艶消層１３６０は、基材１３５０に付属する第１の主要表面１３１０、第１の主要表面の反対側の第２の主要表面１３２０、及び結合剤１３４０中に分散された多数の粒子１３３０を有している。第２の主要表面１３７０は、多数の微細構造１３７０を有している。艶消層１３６０は粒子１３３０を含んではいるが、粒子は微細構造１３７０の形成の主要因とはなっていない。

例えばいくつかの場合では、粒子は微細構造の平均のサイズよりも大幅に小さい。このような場合、微細構造は、例えば、構造化工具又は表面ローラーを微細複製することによって形成され得る。こうした場合では、粒子１３３０の平均サイズは、約０．５マイクロメートル未満、又は約０．４マイクロメートル未満、又は約０．３マイクロメートル未満、又は約０．２マイクロメートル未満、又は約０．１マイクロメートル未満である。こうした場合では、微細構造９７０の相当の割合、例えば少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％が、約０．５マイクロメートルよりも大きい、又は約０．７５マイクロメートルよりも大きい、又は約１マイクロメートルよりも大きい、又は約１．２５マイクロメートルよりも大きい、又は約１．５マイクロメートルよりも大きい、又は約１．７５マイクロメートルよりも大きい、又は約２マイクロメートルよりも大きい平均サイズを有する粒子上には配置されない。特定の場合では粒子１３３０の平均サイズは、微細構造１３３０の平均サイズよりも少なくとも約２倍、少なくとも約３倍、少なくとも約４倍、少なくとも約５倍、少なくとも約６倍、少なくとも約７倍、少なくとも約８倍、少なくとも約９倍、少なくとも約１０倍だけ小さい。

いくつかの場合では、艶消層１３６０が粒子１３３０を含む場合、艶消層１３６０は、粒子の平均サイズよりも少なくとも約０．５マイクロメートル、又は少なくとも約１マイクロメートル、又は少なくとも約１．５マイクロメートル、又は少なくとも約２マイクロメートル、又は少なくとも約２．５マイクロメートル、又は少なくとも約３マイクロメートルだけ大きい平均の厚さ「ｔ」を有する。特定の場合では、艶消層が多数の粒子を含む場合、艶消層の平均の厚さは、粒子の平均の厚さよりも、少なくとも約２倍、又は少なくとも約３倍、又は少なくとも約４倍、又は少なくとも約５倍、又は少なくとも約６倍、又は少なくとも約７倍、又は少なくとも約８倍、又は少なくとも約９倍、又は少なくとも約１０倍だけ大きい。

再び図３を参照すると、いくつかの場合において、光路変更フィルム３００は、層の屈折率を増加させるために、プリズム層３３０、基層３７０又は艶消層３４０などの層の少なくともいくつかに小さな粒子を有する。例えば、光路変更フィルム３００の１つ以上の層が、例えば米国特許第７，０７４，４６３号（Ｊｏｎｅｓら）及び米国特許出願公開第２００６／０２１０７２６号に述べられるシリカ又はジルコニアナノ粒子などの無機ナノ粒子を含んでもよい。特定の場合では、光路変更フィルム３００は約２マイクロメートル、又は約１．５マイクロメートル、又は約１マイクロメートル、又は約０．７５マイクロメートル、又は約０．５マイクロメートル、又は約０．２５マイクロメートル、又は約０．２マイクロメートル、又は約０．１５マイクロメートル、又は約０．１マイクロメートルよりも大きな平均サイズを有する一切の粒子を含まない。

多くの試料の表面が、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を使用して、約２００マイクロメートル×約２００マイクロメートルの面積にわたって特徴付けられた。図１６は、こうした試料の１つの例示的なＡＦＭ表面プロファイルであり、この試料を試料Ａとした。試料は、約９４．９％の光学的透過率、約１．７３％の光学ヘーズ値、及び約７９．５％の光学的透明性を有していた。図１７Ａ及び１７Ｂは、それぞれｘ及びｙ方向に沿った試料Ａの例示的な断面プロファイルである。図１８は、試料Ａについてｘ及びｙ方向に沿った傾斜の分布率（％）を示したものである。ｘ及びｙ方向にそれぞれ沿った傾斜Ｓ_ｘ及びＳ_ｙを以下の２つの式より計算した。

ただし、Ｈ（ｘ，ｙ）は表面プロファイルである。傾斜Ｓ_ｘ及びＳ_ｙは、傾斜のビンサイズを０．５°として計算した。図１８より明らかなように、試料Ａはｘ及びｙ方向の両方に沿って対称的な傾斜分布を有していた。試料Ａは、ｘ方向に沿ってより広い傾斜分布を有し、ｙ方向に沿ってより狭い傾斜分布を有していた。図１９は、試料Ａについて分析した表面にわたった高さの分布率（％）を示したものである。図１９から明らかなように、試料は約４．７マイクロメートルの試料のピーク高さに対してほぼ対称的な高さ分布を有していた。図２０は、試料Ａの傾斜の大きさ（％）を示したものであり、傾斜の大きさＳ_ｍは下式より計算した。

図２１は、試料Ａについて累積傾斜分布率（％）Ｓ_ｃ（θ）を示したものであり、Ｓ_ｃ（θ）は下式より計算した。

図２１より明らかなように、試料Ａの表面の約１００％が約３．５°未満の傾斜の大きさを有していた。更に、解析された表面の約５２％が約１度未満の傾斜の大きさを有し、解析された表面の約７２％が約１．５度未満の傾斜の大きさを有した。

Ｂ、Ｃ、Ｄとした試料Ａと似た３個の更なる試料について上記に概略を述べたようにして特性評価を行った。４個の試料Ａ〜Ｄはいずれも微細構造３６０と同様の微細構造を有し、切削工具システム４００と同様の切削工具システムを用い、カッター５２０と同様のカッターを用いてパターン形成されたロールを作製した後、このパターン形成された工具を微細複製して艶消層３４０と同様の艶消層を形成することによって作製した。試料Ｂは約９５．２％の光学的透過率、約３．２８％の光学ヘーズ値、及び約７８％の光学的透明性を有し、試料Ｃは約９４．９％の光学的透過率、約２．１２％の光学ヘーズ値、及び約８６．１％の光学的透明性を有し、試料Ｄは約９４．６％の光学的透過率、約１．７１％の光学ヘーズ値、及び約８４．８％の光学的透明性を有していた。更に、Ｒ１〜Ｒ６とした６個の比較用試料の特性評価を行った。試料Ｒ１〜Ｒ３は艶消層１２６０と同様のものであり、結合剤中に分散された多数の大きなビーズを含み、艶消面は主としてこのビーズによって形成されたものである。試料Ｒ１は約１７．８％の光学ヘーズ値及び約４８．５％の光学的透明性を有し、試料Ｒ２（大日本印刷株式会社より販売）は約３２．２％の光学ヘーズ値及び約６７．２％の光学的透明性を有し、試料Ｒ３は約４．７％の光学ヘーズ値及び約７３．３％の光学的透明性を有していた。試料Ｒ４はエンボス加工されたポリカーボネートフィルムであり（恵和株式会社（大阪）より販売）、約２３．２％の光学ヘーズ値及び約３９．５％の光学的透明性を有していた。

図２２は、試料Ａ〜Ｄ及びＲ１〜Ｒ４の累積傾斜分布率（％）Ｓ_ｃ（θ）である。試料Ａ〜Ｄはいずれも艶消層３４０と同様のものであり、構造化主要表面３２０と同様の構造化主要表面を有するものである。図２２から明らかなように、試料Ａ〜Ｄの全て、又は少なくとも一部の構造化主要表面の約７％、又は約６．５％、又は約６％、又は約５．５％、又は約５％、又は約４．５％、又は約４％、又は約３．５％、又は約３％以下が約３．５°よりも大きな傾斜の大きさを有していた。更に、試料Ａ〜Ｄの全て、又は少なくとも一部の構造化主要表面の約４％、又は約３．５％、又は約３％、又は約２．５％、又は約２％、又は約１．５％、又は約１％、又は約０．９％、又は約０．８％以下が約５°よりも大きな累積の傾斜の大きさを有していた。

再び図３を参照すると、液晶ディスプレイにおけるような光学システムで使用される場合、光学フィルム３００はディスプレイの光学的及び／又は物理的欠陥を隠す、あるいはマスクし、ディスプレイの輝度を高めることが可能である。特定の場合では、光路変更フィルム３００の平均有効透過率は、平滑な第２の主要表面３２０を有する以外は光路変更フィルム３００と同じ構造を有する光路変更フィルムと比較して、約２％以下、又は約１．５％以下、又は約１％以下、又は約０．７５％以下、又は約０．５％以下だけ小さい。特定の場合では、光路変更フィルム３００の平均有効透過率は、平滑な第２の主要表面を有する以外は同じ構造を有する光路変更フィルムと比較して、約０．２％、又は約０．３％、又は約０．４％、又は約０．５％、又は約１％、又は約１．５％、又は約２％以上大きい。一例として、光路変更フィルム３００と同様の光路変更フィルムを作製した。直線プリズム３５０は、約２４マイクロメートルのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．６５の屈折率を有していた。第２の主要表面３２０は、約１．５％の光学ヘーズ値及び約８３％の光学的透明性を有していた。光路変更フィルムは約１．８０３の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主要表面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光路変更フィルムは約１．８１３の平均有効透過率を有していた。

別の例として、光路変更フィルム３００と同様の光路変更フィルムを作製した。微細構造３６０を、カッター先端部５１５の半径が約３３００マイクロメートルであるカッター５１０と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム３５０は、約２４マイクロメートルのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。第２の主要表面３２０は、約１．７１％の光学ヘーズ値及び約８４．８％の光学的透明性を有していた。光路変更フィルムは約１．６３３の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主要表面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光路変更フィルムは約１．６２６の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第２の主要表面３２０によって平均有効透過率が約０．４３％増大することにより更なるゲインが与えられた。

別の例として、光路変更フィルム３００と同様の光路変更フィルムを作製した。微細構造３６０を、カッター先端部５１５の半径が約４４００マイクロメートルであるカッター５１０と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム３５０は、約２４マイクロメートルのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。第２の主要表面３２０は、約１．４９％の光学ヘーズ値及び約８２．７％の光学的透明性を有していた。光路変更フィルムは約１．５８３の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主要表面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光路変更フィルムは約１．５７８の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第２の主要表面３２０によって平均有効透過率が約０．３２％増大することにより更なるゲインが与えられた。

更に別の例として、光路変更フィルム３００と同様の光路変更フィルムを作製した。微細構造３６０を、カッター先端部５１５の半径が約３３００マイクロメートルであるカッター５１０と同様のカッターによって切削した工具から複製することによって形成した。直線プリズム１５０は、約２４マイクロメートルのピッチ、約９０°の頂角１５２、及び約１．５６７の屈折率を有していた。第２の主要表面１２０は、約１．３５％の光学ヘーズ値及び約８５．７％の光学的透明性を有していた。光路変更フィルムは約１．６３１の平均有効透過率を有していた。比較として、平滑な第２の主要表面を有する以外は同じ構造（材料組成を含む）を有する同様の光路変更フィルムは約１．５９３の平均有効透過率を有していた。したがって、構造化された第２の主要表面３２０によって平均有効透過率が約２．３８％増大することにより更なるゲインが与えられた。

有効透過率（ＥＴ）は、図２３に概略側面図で示すような光学システム２３００を使用して測定することができる。光学システム２３００は光軸２３５０を中心として配置され、放射又は出射面２３１２、直線光吸収性偏光子２３２０、及び光検出器２３３０を通るランベルト光２３１５を放射する中空のランベルト光箱を有している。光箱２３１０は、光ファイバー２３７０によって光箱の内部２３８０と接続された安定化された広帯域光源２３６０によって光照射される。光学システムによってＥＴを測定しようとする試験試料は、光箱と吸収直線偏光子との間２３４０に置かれる。

光路変更フィルム３００のＥＴは、光路変更フィルムを、直線プリズム３５０が光検出器に面し、微細構造３６０が光箱に面するようにして位置２３４０に配置することによって測定することができる。次に、スペクトル重み付けされた軸方向輝度Ｉ_１（光軸２３５０に沿った輝度）を、直線吸収性偏光子を通じ、光検出器によって測定する。次に、光路変更フィルムを取り外し、光路変更フィルムが位置２４０に配置されていない状態でスペクトル重み付けされた輝度Ｉ_２を測定する。ＥＴは、Ｉ_１／Ｉ_２の比である。ＥＴ０は、直線プリズム３５０が直線吸収性偏光子２２０の偏光軸に対して平行な方向に沿って延びている場合の有効透過率であり、ＥＴ９０は、直線プリズム３５０が直線吸収性偏光子の偏光軸に対して垂直な方向に沿って延びている場合の有効透過率である。平均有効透過率（ＥＴＡ）は、ＥＴ０とＥＴ９０との平均である。

本明細書で開示する有効透過率の値は、光検出器２３３０としてＳｐｅｃｔｒａＳｃａｎ（商標）ＰＲ−６５０Ｓｐｅｃｔｒａ熱量計（ＰｈｏｔｏＲｅｓｅａｒｃｈ，Ｉｎｃ（Ｃｈａｔｓｗｏｒｔｈ，ＣＡ）より販売）を使用して測定したものである。光箱２３１０は、全反射率が約８５％であるテフロン製キューブを用いた。

５１．４ｍｍ×７６．６ｍｍの寸法を有する光学フィルム試料１Ａ〜３２Ａが作製され、ＣＯＦに関して試験された。試料はまた、２つのフィルムの光学積層体に構成され、６５℃／９５％相対湿度で７２時間にわたる環境試験の後に、歪みを視覚的に評価された。平均ムラ指数が測定され、以下の表１に示されるように、これらの試料のいくつかに関してムラスコアが決定された。

ＣＯＦ値はＩＭＡＳＳ２０００（Ｉｍａｓｓ，Ｉｎｃ．（Ａｃｃｏｒｄ，Ｍａｓｓ．）から入手可能）を使用して測定され、以下の試験パラメータ：速度２．５ｍｍ／秒、持続時間１０秒、スレッド質量（sled mass）２００ｇを使用した。視覚的歪み試験のための試験設定２４００の側面図が図２４に例示される。光学フィルム積層体は、プレキシグラスプレート２４０２内に機械加工されたウェル２４０１内に配置されたディフューザーフィルム２４１０を含む。厚さＴ２を有する下部フィルム２４２０がディフューザーフィルム２４１０上に配置された。表１で「下部フィルムの種類」と標識される縦列によって示されるように、様々な種類のフィルムが下部フィルム２４２０として使用された。厚さＴ１を有する上部フィルム２４３０は、リムテープ２４４０によって縁部に拘束された。ガラスカバー２４５０が、上部フィルム２４３０の上に配置された。表１で「上部フィルムの種類」と標識される縦列によって示されるように、様々な種類の基材が上部フィルム２４３０に使用された。試験される上部フィルム２４３０は、微細複製された艶消表面（表１でＭＩＣＲＯと表される）又は非艶消表面（表１でＮＯＮＥと表される）又はビード艶消仕上げ（表１においてＢＥＡＤと表される）を含んだ。艶消表面２４３１は、下部フィルムの方に向けられている。艶消表面２４３１が存在する場合、艶消表面材料のＴｇが表１に示される。各試料に関して、ＣＯＦが測定され、歪みが視覚的に評価された。視覚的歪み評価は、環境試験後の歪みの外観を、重度の歪みから最小限の歪みに及ぶ様々な歪みの度合いを呈する標準的なフィルム積層体と比較することを含んだ。試験試料は、試験試料の標準フィルム積層体との比較に基づき、重度の歪み、中等度の歪み、又は最小限の歪みを有するものとして評価された。

表１に示されるように、視覚的評価に加えて、試料フィルム積層体種類のいくつかに関してムラスコアが決定された。ムラスコアを決定するために、試験構成２５００の側面図が図２５Ａに例示される。試験下の光学フィルム積層体が、艶消表面２５１１を備える上部ポリカーボネートプレート２５０１と、艶消表面２５１２を備える下部ポリカーボネートプレート２５０２との間に配置された。下部フィルム２５４０が、下部プレート２５０２上に配置された。上部フィルム２５３０と上部プレート２５０１との間に４０マイクロメートルの間隙２５５０を維持するために、スペーサー２５２０が使用された。上部フィルム２５３９の艶消表面２５３１が、下部フィルム２５４０に向けられた。ポリカーボネートプレート２５０１、２５０２及びスペーサー２５２０は、図２５Ｂの試験構成の平面図によって例示されるように、４つの角部で、クリップ２５６０により圧迫された。

以下のプロセスを使用してムラスコアが測定された：環境試験の後の２時間の安定化期間の後、試験光学フィルム積層体の写真画像が２０°の極角及び、１、４５、９０、１３５、１８０、２２５、２７０、３１５°の方位角で、室内光の下で取られた。写真画像は、ｍ行及びｎ列のマトリックスとして構成された、多数の領域に分割された。平均輝度は各領域において

として計算された。各列に沿って、各領域と隣接する次の領域との輝度の差は、

（ｊ＝２〜ｎ）として計算された。各行に関する輝度の差の平均は、

（ｊ＝２〜ｎ）として計算され、輝度の差の平均の平均は、合計行平均

（ｉ＝１〜ｍ）として計算された。

合計列平均ＢＤは、列に沿った隣接する領域の間の輝度の差、各列における平均輝度の差、及び合計列平均ＢＤによって同様に計算される。合計行平均ＢＤ及び合計列平均ＢＤを合計してムラ指数（ＭＩ）を生じる。歪みの視覚的認識に関連するムラスコアは、以下のようにＭＩに基づいて計算される。

ムラスコア＝（（ＭＩ−１０．６１）／（２９．４２−１０．６１））×９＋１

図２６は、表１の試料の種類に関する、ＣＯＦと視覚的歪みスコアとの間の関係を例示する。最小限の視覚的歪みを呈する試料の種類は、０．５８９の平均ＣＯＦを有した。中等度の視覚的歪みを呈する試料の種類は、０．６８９の平均ＣＯＦを有した。重度の歪みを呈する試料の種類は、１．４７９の平均ＣＯＦを有した。図２７は、表１の試料に関する、ＣＯＦと平均ムラスコアとの間の関係を例示する。これらの試料に関し、重度の歪みは、２．５超又は２．２超のムラスコアに関連した。

表２及び表３は試料に関する結果を提供し、ここでは６５℃／９５％の相対湿度における７２時間にわたる環境試験の後にムラスコアが決定された。表２に掲載される光学フィルム積層体試料１Ｂ〜２０Ｂは、２種類の微細複製されたパターンを有する微細複製された艶消表面を備える、様々な種類の上部及び下部フィルムを使用した。試料１Ｂ〜５Ｂは艶消パターン１で作製され、試料６Ｂ〜１０Ｂは、艶消パターン３で作製された。試料１Ｂ〜１０Ｂは、上部フィルム（ＢＥＦＲＰ３）の上面に１７ピッチ線形プリズムを使用した。試料１１Ｂ〜１５Ｂは、上部フィルム（ＢＥＦＲＰ３）の上面に１７マイクロメートルピッチ線形プリズムを使用する第１組の対照試料である。試料１５Ｂ〜２０Ｂは、上部フィルム（ＢＥＦＲＰ３）の上面上に２４マイクロメートルピッチ線形プリズムを使用する第２組の対照試料である。

図２８Ａは、表２に掲載される試験グループ１Ｂ〜５Ｂ及び６Ｂ〜１０Ｂ、並びに対照グループ１１Ｂ〜１５Ｂ及び１６Ｂ〜２０Ｂに関するムラスコアの統計プロットである。図２８Ａから理解されるように、艶消表面を有する試験試料は、対照試料の歪みスコアと比較した際に、改善された（より低い）歪みスコア及びより低い歪み可視性を示す。図２８Ｂは、表２に掲載される、試験グループ１Ｂ〜５Ｂ及び６Ｂ〜１０Ｂ、並びに対照グループ１１Ｂ〜１５Ｂ及び１６Ｂ〜２０Ｂに関するＥＴＡを示す。図２８Ｂに例示されるように、艶消表面の追加は、ＥＴＡを実質的に低減させないか、又はＥＴＡを最小限で低減させる。

表３に掲載される光学フィルム積層体試料１Ｃ〜２０Ｃは、低いヘーズ、中等度のヘーズ及び高いヘーズ微細複製パターンを有する微細複製艶消表面を有する、様々な種類の上部フィルム及び下部フィルムを使用した。試料１Ｃ〜５Ｃは、低いヘーズ艶消パターンで作製され、試料６Ｃ〜１０Ｃは中等度のヘーズ艶消パターンで作製され、試料１１Ｃ〜１５Ｃは、高いヘーズ艶消パターンで作製された。試料１６Ｃ〜２０Ｃは対照試料であり、対照試料における全ての下部フィルム及び上部フィルムは、フィルム（ＴＢＥＦ３）の上面上に２４ピッチ線形プリズムを使用した。

図２９Ａは、表３に掲載される試験グループ１Ｃ〜５Ｃ、６Ｃ〜１０Ｃ、１１Ｃ〜１５Ｃ及び対照グループ１６Ｃ〜２０Ｃのムラスコアの統計的プロットである。図２８Ｂから理解され得るように、艶消表面を有する試験試料は、対照試料の歪みスコアと比較した際に、改善された（より低い）歪みスコア及びより低い歪み可視性を示す。

図２９Ｂは、表３に掲載される試験グループ１Ｃ〜５Ｃ及び６Ｃ〜１０Ｃ、１１Ｃ〜１５Ｃ、並びに対照グループ１６Ｃ〜２０Ｃに関するＥＴＡを示す。図２９Ｂに例示されるように、ＴＢＥＦ上への艶消表面の追加は、ＥＴＡを実質的に低減させないか、又はＥＴＡを最小限で低減させる。

表面特徴化は、共焦点走査レーザー顕微鏡検査を使用して行われ、微細複製によって形成された様々な艶消表面に関する表面プロファイルを得た。試験された試料の種類は、試料の種類１Ａ、１Ｂ、１Ｃ、１２Ａ、１２Ｂ、１２Ｃ、１８Ａ，２６Ａ（２つの試料）、２７Ａ、２７Ｂに対応した。試験された艶消表面は約５５〜７５°の範囲の推定Ｔｇ、４４マイクロメートル〜７０マイクロメートルの厚さを有した。表４及び図３０Ａ〜３０Ｈに例示される微細複製表面形状は、１未満の測定されたＣＯＦを有し、上記の改善された歪み性能を生じる微細複製表面形状と比較可能である。図３０Ａ〜３０Ｈはグラフにより以下の表面特徴を例示する、図３０Ａ−勾配規模分布、図３０Ｂ−高さ分布、図３０Ｃ−累積勾配規模分布（Ｆｃｃ）の補足、図３０Ｄ−累積勾配規模分布の補足（リスケール）（Ｒｃｃ）、図３０Ｅ−Ｘ傾斜分布、図３０Ｆ−ｙ傾斜分布、図３０Ｇ−Ｘ−湾曲分布、図３０Ｈ−Ｙ湾曲分布。

上記の微細複製パターンと比較可能なフィルム表面形状を生成するために、上記の表面ローラープロセスがまた使用され得る。図３１Ａ〜３１Ｈは、表面ロールプロセスによって生成される典型的なフィルムの表面特徴を要約する。図３１Ａ〜３１Ｆは以下の表面特徴をグラフにより例示する：図３１Ａ−勾配規模分布、図３１Ｂ−高さ分布、図３１Ｃ−累積勾配規模分布（Ｆｃｃ）の補足、図３１Ｄ−累積勾配規模分布の補足（リスケール）（Ｒｃｃ）、図３１Ｅ−Ｘ傾斜分布、図３１Ｆ−ｙ傾斜分布。

プロセスは、約５％以下、又は約４．５％以下、又は約４％以下、又は約３．５％以下、又は約３％以下、又は約２．５％以下、又は約２％以下、又は約％１．５以下、又は約１％以下の光学ヘーズ値、及び約８５％以下、又は約８０％以下、又は約７５％以下、又は約７０％以下、又は約６５％以下、又は約％６０以下の光学的透明性を有するフィルムを生成するために使用され得る。更に、表面プロセスを使用する艶消表面の追加は、ＥＴＡを実質的に低減させないか、又はＥＴＡを最小限で低減させる（例えば、表面ロールプロセスを使用して形成される艶消表面のない同一の光学フィルムと比較した場合に約２％未満、又は約３％未満、又は約５％未満のＥＴＡの減少）。

表面ロールプロセスを使用して形成される艶消のＣＯＦは、基材をコーティングし、艶消表面を形成するために使用される樹脂に追加される表面活性化学物質に依存する。表４は、艶消表面を有する及び有さない、並びに表面化学物質添加物を有する及び有さないフィルムに関するＣＯＦデータを表す。

ＡｘｏｎＨＣ配合物が表５に提供される：

容器に５７５．９ｇのペンタエリスリトールトリ−及びテトラ−アクリレート（例えば、Ｓａｒｔｏｍｅｒから入手可能なＳＲ４４４）、９０．３ｇのポリエチレングリコールジアクリレート（例えば、Ｓａｒｔｏｍｅｒから入手可能なＳＲ３４４）及び５００ｇのイソプロパノールが充填される。その後、１−メトキシ−２−プロパノール中のＡ−１７４変性シリカオルガノゾル８９４．５ｇが追加され、すすぎは５６３．８ｇのイソプロパノールで行った。別個の容器において、２７．３ｇの１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン（例えば、Ｃｉｂａから入手可能なＩｒｇａｃｕｒｅ１８４など）が、１８０ｇのエチルアセテートと混合された。このプレミックス溶液が上記の混合物に追加され、すすぎは６００ｇのエチルアセテートで行った。この混合物は、均一な混合物を得るために十分に混合された。

上記の混合物が、コーティングの前にイソプロパノール及びエチルアセテートで更に希釈された。

３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシランは、Ｍｏｍｅｎｔｉｖｅｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅｍａｔｅｒｉａｌｓ，Ｉｎｃ．（Ｆｒｉｅｎｄｌｙ，ＷｅｓｔＶｉｒｇｉｎｉａ）から、ＳｉｌｑｕｅｓｔＡ１７４として入手可能であった。Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４、光開始剤、１−ヒドロキシ−シクロヘキシ−フェニ−ケトンがＣｉｂａＳｐｅｃｉａｌＣｈｅｍｉｃａｌｓ（Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ）から得られた。ペンタエリスリトールアクリレート（ＳＲ４４４）及びポリエチレングリコール（４００）ジアクリレート（ＳＲ３４４）が、ＳａｒｔｏｍｅｒＣｏｍｐａｎｙ（Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ）から得られた。全てＢｒｅｎｎｔａｇ（ＢｒｅｎｎｔａｇＧｒｅａｔＬａｋｅｓ，Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ４４４，Ｂｕｔｌｅｒ，ＷＩ５３００７）からの溶媒（ＭＥＫ、トルエン、ＩＰＡ、エチルアセテート）が、接着を促進するために一面が事前処理されているＤｕｐｏｎｔＭｅｌｉｎｅｘ（登録商標）６１８（超透明ポリエステルフィルム）上にコーティングされた。広範なディスプレイ用途のための、超高透明性を有する高度に固有のフィルムである。ＳｉＮａｐｓは、Ｎａｌｃｏ２３２７水溶液、Ａ−１７４及び１−メトキシ−２−プロパノール（例えば、ＤｏｗａｎｏｌＰＭ）を使用して調製される。ＨＦＰＯ−ＰＥＧは、２００８年１月１６日に出願された、代理人整理番号第６３８３４ＵＳ００２号として指定される、同一譲受人による米国特許出願に記載され、これは本明細書において参照として組み込まれる。

ＳｉＮａｐｓ（SiNapps）は以下のプロセスを使用して作製される：１２リットルのフラスコに３０００ｇのコロイドシリカ水溶液（例えば、Ｎａｌｃｏ（Ｎａｐｉｅｒｖｉｌｌｅ，ＩＬ）から入手可能なＮａｌｃｏ２３２７など）が充填され、撹拌が開始される。３５９１ｇの１−メトキシ−２−プロパノール（例えば、ＤｏｗＣｈｅｍｉｃａｌ（Ｍｉｄｌａｎｄ，ＭＩ）から入手可能なＤｏｗａｎｏｌＰＭなど）が追加された。別個の容器で、１８９．１ｇの３−メタクリルオキシプロピルトリメトキシシラン（例えば、ＭｏｍｅｎｔｉｖｅＰｅｒｆｏｒｍａｎｃｅＭａｔｅｒｉａｌｓ（Ｗｉｌｔｏｎ，ＣＴ）から入手可能なＳｉｌｑｕｅｓｔＡ−１７４など）が、４５５ｇの１−メトキシ−２−プロパノールと混合された。このプレミックス溶液はフラスコに追加され、すすぎは４５５ｇの１−メトキシ−２−プロパノールで行った。次に、この混合物は８０℃まで約１６時間加熱された。混合物は３５℃まで冷却された。混合物は、捕集フラスコで真空蒸留（３０〜３５トール（３．９９〜４．６７ｋＰａ）、３５〜４０℃）するよう設定された。追加的な１８１３．５ｇの１−メトキシ−２−プロパノールが、蒸留の途中で反応フラスコに追加された。合計６７８４ｇの留出物が回収された。風袋を計量したアルミニウム皿内の少量の試料を１０５℃の炉内で６０分間乾燥させることによって、混合物の％固体を試験した。混合物は、５２．８％固体であることが見出された。追加的な２５０ｇの１−メトキシ−２−プロパノールが追加され、混合物が撹拌された。％固体が試験され、４８．２％であることが見出された。粒子屑を取り除くため、チーズクロスを通じて濾過することにより混合物が回収された。合計２８４１ｇの製品溶液が得られた。

使用されるＨＦＰＯウレタンアクリレートは、本明細書において参照として組み込まれる米国特許出願公開第２００６／０２１６５２４号の調製６と同様の手順で作製され、調製６で使用する０．１５モル分率ＨＦＰＯアミドールの代わりに０．１０モル分率のＨＦＰＯアミドール（ＨＦＰＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）を使用し、調製６で使用する０．９０モル分率ペンタエリスリトールトリアクリレートの代わりに０．９５モル分率のペンタエリスリトールトリアクリレートを使用し、ＨＦＰＯアミドール（ＨＦＰＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｈ２ＯＨ）をＤｅｓｍｏｄｕｒＮ１００に約１時間の期間にわたって添加し、５０％固体のメチルエチルケトンの代わりに、３０％固体のメチルエチルケトンで反応を行った。

表４の試料及び他の試料に関する追加的な情報が表６に提供される。

試料Ｐ０８１１００９−０１及びＰ０８１１００９−０２の比較は、表面化学添加物の不在下において、艶消表面の追加がＣＯＦを低下させることを例示している。試料Ｐ０８１１００９−０１及びＰ０８１１００９−０２は、表面活性化学添加物を含まない。試料Ｐ０８１１００９−０２は艶消表面を有し、一方でＰ０８１１００９−０１は艶消表面を有さない。Ｐ０８１１００９−０２のＣＯＦは、艶消表面のためにＰ０８１１００９−０１のＣＯＦよりも低い。

基材をコーティングするために使用される樹脂の表面化学添加物もまた、艶消表面の不在下においてもＣＯＦを低減させる。表面化学添加物が使用される場合、艶消表面は、艶消表面無しで同一の処理を行ったフィルムよりも低いＣＯＦを生成しないことがある。艶消表面の形成と比較し、非艶消（光沢）フィルムの形成の間、表面化学物質が表面に拡散し、ＣＯＦに影響するためにより多くの時間を有するため、この現象は生じる。例えば、試料Ｐ０７１４０９−１１は艶消表面を有さず、艶消表面を含む比較可能な試料（Ｐ０７１４０９−１２）のＣＯＦ（０．５８６）よりも低いＣＯＦ（０．５４７）を有する。艶消表面を有する試料フィルム（Ｐ０７１４０９−６）内の表面活性化学添加物の量の減少は、ＣＯＦ（０．６８１）を更に増加させる。

試料Ｐ０７０７０９−１４及びＰ０７１４０９−０６は、同量の界面活性剤を含むが、ＨＦＰＯ−ＵＡを含有する構造化コーティングは、ＨＦＰＯ−ＰＥＧを含有する構造化コーティングと比較してより高いＣＯＦを有する。

試料Ｐ１０２４０７−２０、Ｐ１０２５０７−３７、Ｐ０１２９０９−３１及びＰ１０２６０７−７９は、より高いガラス転移温度の樹脂を使用することによってもまた、コーティングのＣＯＦ低減させることができることを示す。３７％シリカナノ粒子を含有する９０６ＨＣは、ＳＲ４４４樹脂単独（１０３）よりも高いＴｇを有し、ナノ粒子を有さない樹脂と比較して更に低いＣＯＦを有する。試料Ｐ０１２９０９−３１、Ｐ０１２９０９−３４、Ｐ０１２９０９−３７及びＰ０１２９０９−４０は、低いＴｇ樹脂に表面活性剤（Ｔｅｇｏｒａｄ２２５０）を追加することによりまたＣＯＦが低減されることを示す。更なる界面活性剤の追加はＣＯＦを更に低減させる。材料が以下に掲載される。

６０１０／３５５樹脂ブレンドが、ＩＰＡ内２０％固体で作製され、ＰＨｏｔｏｍｅｒ６０１０とＳＲ３５５の比率は６０：４０であった。Ｄａｒｏｃｕｒｅ４２６５光開始剤が、溶液に対する固体の重量比率２％で追加された。ＳＲ９０４１材料が溶液中、ＭＥＫ内３０％固体で作製された。ＣＮ９００８材料が溶液中、ＭＥＫ内３０％固体で作製された。８０対２０の比率の９０６ＨＣ及びＳＲ９００３が、ＩＰＡ中３０％固体でコーティングされた。

使用されたＨＦＰＯウレタンアクリレートは、本明細書において参照として組み込まれる米国特許出願公開第２００６／０２１６５２４号の調製６のものと同様の手順によって作製され、以下のＨＦＰＯＵＡは次を参照とする：
ＭＥＫ内３０％固体で作製される４１−４２０５−６３２９−２Ｒ−５６３２９は配合
ＤＥＳＮ１００／０．１０ＨＦＰＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＨ／０．９５ＰＥＴ３Ａを有する。

使用されるＨＦＰＯウレタンアクリレートは、米国特許出願公開第２００６０２１６５２４号の調製６と同様の手順で作製され、調製６で使用する０．１５モル分率ＨＦＰＯアミドールの代わりに０．１０モル分率のＨＦＰＯアミドール（ＨＦＰＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＯＨ）を使用し、調製６で使用する０．９０モル分率ペンタエリスリトールトリアクリレートの代わりに０．９５モル分率のペンタエリスリトールトリアクリレートを使用し、ＨＦＰＯアミドール（ＨＦＰＯＣ（Ｏ）ＮＨＣＨ２Ｈ２ＯＨ）をＤｅｓｍｏｄｕｒＮ１００に約１時間の期間にわたって添加し、５０％固体のメチルエチルケトンの代わりに、３０％固体のメチルエチルケトンで反応を行った。

ＴｅｇｏＣｈｅｍｉｅＳｅｒｖｉｃｅＧｍｂＨ・Ｇｏｌｄｓｃｈｍｉｄｔｓｔｒａｓｓｅ１００・Ｄ−４５１２７Ｅｓｓｅｎ・Ｔｅｌ．：＋４９（０）２０１／１７３−２２２２・Ｆａｘ：＋４９（０）２０１／１７３−１９３９（ｗｗｗ．ｔｅｇｏ．ｄｅ）からの、完全に架橋可能な、Ｔｅｇｏｒａｄ２２５０シリコーンポリエーテルアクリレート。

本明細書において参照として組み込まれる、米国特許第５６７７０５０号（１０段）により、９０６ＨＣは以下のように調製された。以下の材料が１０リットルの円形ボトルフラスコに充填された：１１９５グラム（ｇ）Ｎａｌｃｏ２３２７、１１８ｇＮＮＤＭＡ、６０ｇＺ６０３０、及び７６１ｇＰＥＴＡ。フラスコがその後、ＢｕｃｃｈｉＲ１５２ロータリーエバポレーター上に配置されて、水槽温度が５５℃に設定された。５０％脱イオン水／５０％不凍液の冷却された混合物が、冷却コイルを通じて再循環された。蒸留速度が５滴／分未満に低下するまで（およそ２時間）、２５トール（３．３３ｋＰａ）の減圧状態で揮発生成分が除去された。生じる材料（１４６４ｇ）は、１％未満の水を含有し、５４．２％ＰＥＴＡ、８．４％ＮＮＤＭＡ及び３８．８％アクリレートシリカを含む、透明な液体であった。ＳＲ９００３、プロポキシレートネオペンチルグリコールジアクリレート、ＣＮ９００８、三官能性脂肪族ポリエステルエタンアクリレートオリゴマー及びＳＲ−３５５ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが、ＳａｒｔｏｍｅｒＣｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．（ＥｘｔｏｎＰＡ）から入手可能である。

ＰＨＯＴＯＭＥＲ６０１０は、Ｃｏｇｎｉｓｗｗｗ．ｃｏｇｎｉｓ．ｃｏｍから入手可能な脂肪族ウレタンアクリレートオリゴマーである。ＳＲ９０４１−ＳＲ９０４１［ペンタアクリレートエステル］が、ＳａｒｔｏｍｅｒＣｏｍｐａｎｙ，Ｉｎｃ．（５０２ＴｈｏｍａｓＪｏｎｅｓＷａｙ．Ｅｘｔｏｎ，ＰＡ１９３４１）から入手可能である。

Ｄａｒｏｃｕｒｅ１１７３［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−１−プロパノン］及びＤａｒａｃｕｒｅ４２６５［５０重量％ジフェニル（２、４、６−トリメチルベンゾイル）−ホスフィンオキシド、５０重量％Ｄａｒｏｃｕｒ１１７３］が、ＣｉｂａＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ（Ｐ．Ｏ．Ｂｏｘ２００５，５４０ＷｈｉｔｅＰｌａｉｎｓＲｏａｄ，Ｔａｒｒｙｔｏｗｎ，ＮＹ１０５９１−９００５）から入手可能である。

本明細書において記載される光学フィルム積層体は、ディスプレイシステム又はラップトップコンピューター、携帯電話及び小型音楽プレイヤーに見出される小さなディスプレイ並びに他の装置で使用されるバックライトのための光管理フィルムとして使用され得る。いくつかの用途において、ディフューザー、偏光子及び１つ以上の輝度向上フィルムを含む光管理光学フィルム積層体が、光源とＬＣＤマトリックスとの間に配置される。

図３２は、観察者２８９９への情報を表示するための、ディスプレイシステム２８００の一実施例の概略的側面図である。ディスプレイシステム２８００は、バックライト２８５０によって照明される液晶パネル２８４０を含む。バックライト２８５０は、側方反射体（図示されない）の中に収容されるランプ２８０２から、光導体縁部を通じて光を受容する光導体２８１０、及び後方反射体２８１１に入射する光を観察者２８９９の方に反射する後方反射体２８１１を含む。

光学積層体２８０１は、ディフューザー２８１５及びｔｗｐ光路変更フィルム２８２０及び２８３０を含む。いくつかの場合において、２つの光路偏光フィルムの線形プリズムは、角度を有するように配置される（例えば、互いに対して実質的に垂直）。光学フィルム２８２０は、基層２８２２上に配置された輝度向上プリズム層２８２１を含む。

光学フィルム２８３０は、反射性偏光子層２８３２上に配置された艶消層２８３１及びプリズム層２８３３を含む。艶消層２８３１は、光学積層体中のフィルム２８２０のプリズム層２８２１と隣接する。いくつかの構成において、フィルム２８３０及びフィルム２８２０の両方、並びに／又はディスプレイシステム内の他の光学フィルムは艶消層を含む。反射性偏光子層２８３２は、第１の偏光状態を有する光を実質的に反射させ、第２の偏光状態を有する光を実質的に透過させるものであり、ここで、これら２つの偏光状態は互い垂直である。例えば、可視光領域で反射性偏光子によってほぼ反射される偏光状態における反射性偏光子層の平均反射率は、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％である。別の例として、反射性偏光子２８３２によって実質的に透過される偏光状態に対する、可視域における反射性偏光子層２８３２の平均透過率は、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％、又は少なくとも約９７％、又は少なくとも約９８％、又は少なくとも約９９％である。いくつかの場合では、反射性偏光子層２８３２は第１の直線偏光状態（例えばｘ方向に沿った）を有する光を実質的に反射し、第２の直線偏光状態（例えばｙ方向に沿った）を有する光を実質的に透過する。

任意の好適なタイプの反射性偏光子、例えば、多層光学フィルム（ＭＯＦ）反射性偏光子；連続／分散相偏光子又はコレステリック反射性偏光子のような、拡散反射性偏光フィルム（ＤＲＯＦ）が使用されてよい。ＭＯＦ、コレステリック及び連続／分散相反射性偏光子は全て直交偏光状態で光を透過しながら１つの偏光状態の光を選択的に反射するために、フィルム、通常では高分子フィルム内で変動する屈折率プロファイルに依存する。

ＭＯＦ反射性偏光子は異なるポリマー材料の交互の層で形成され得、交互の層の組の１層は複屈折材料で形成され、異なる材料の屈折率が１つの直線偏光状態に偏光された光に対して整合し、直交する直線偏光状態の光に対しては整合していない。このような場合、整合した偏光状態にある入射光は反射性偏光子をほぼ透過し、不整合の偏光状態にある入射光は反射性偏光子によってほぼ反射される。ある場合には、ＭＯＦ反射性偏光層は、無機誘電層のスタックを含んでもよい。

好適な反射性偏光子は、共に２００９年１０月２４日に出願され、本明細書において参照として組み込まれる、同一譲受人による米国特許出願、表題「ＩｍｍｅｒｓｅｄＲｅｆｌｅｃｔｉｖｅＰｏｌａｒｉｚｅｒｗｉｔｈＡｎｇｕｌａｒＣｏｎｆｉｎｅｍｅｎｔｉｎＳｅｌｅｃｔｅｄＰｌａｎｅｓｏｆＩｎｃｉｄｅｎｃｅ」（代理人整理番号第６５９００ＵＳ００２号）及び同第６１／２５４６９１号（代理人整理番号第６５８０９ＵＳ００２号）に記載される。好適な反射性偏光子の別の例は、先に組み込まれた米国特許第５，８８２，７７４号及び本明細書において参照としてその全体を組み込まれる米国特許公開第２００８／０６４１３３号に記載される。いくつかの場合において、反射性偏光層は、光学干渉により光を反射又は透過する多層光学フィルムであり得る。

本発明に関連して有用なＤＲＰＦの例には、参照によって本明細書に組み込まれる共同所有の米国特許第５，８２５，５４３号に記載されている連続／分散相反射型偏光子、そして例えば、同様に参照によって本明細書に組み込まれる共同所有の米国特許第５，８６７，３１６号に記載されている拡散反射性多層偏光子が挙げられる。他の好適な種類のＤＲＰＦが、米国特許第５，７５１，３８８号に記載されている。

本発明に関連して有用なコレステリック偏光子のいくつかの例には、例えば米国特許第５，７９３，４５６号、及び米国特許出願公開第２００２／０１５９０１９号に記載のものが含まれる。コレステリック偏光子はしばしば、コレステリック偏光子を透過した光が直線偏光に変換されるように、出力側に４分の１波長抑制層と共に提供される。

光学フィルム積層体２８０１内の光管理フィルムの１つ以上が、バックライト２８５０内で他のフィルムに対して拘束され得る。例えば、いくつかの実施において、光学フィルム２８３０は、光学フィルム２８３０の縁部において拘束されてもよく、一方で光学フィルム２８２０及び２８１５は縁部で拘束されない。これらの実施において艶消表面２８３１は、本明細書において記載される摩擦係数（ＣＯＦ）、抗歪み特性、傾斜分布、傾斜の大きさ、ヘーズ及び／又は透明性特性を達成するように構成され得る。

光学的ディフューザー２８１５は、ランプ２８０２を隠す、あるいは遮蔽し、光導体２８１１によって放射された光を均質化するという主たる機能を有する。光学的ディフューザー２８１５は、高い光学ヘーズ値及び／又は高い光学的拡散反射率を有する。例えば、ある場合には、光学的ディフューザー２８１５の光学ヘーズは、約４０％以上、又は約５０％以上、又は約６０％以上、又は約７０％以上、又は約８０％以上、又は約８５％以上、又は約９０％以上、又は約９５％以上である。別の例として、光学的ディフューザー２８１５の光学的拡散反射率は、約３０％以上、又は約４０％以上、又は約５０％以上、又は約６０％以上である。

光学的ディフューザー２８１５は、ある用途で望ましくかつ／又は利用可能となり得る任意の光学的ディフューザー拡散体であっても、それを含むものであってもよい。例えば、光学的ディフューザー２８１５は、表面拡散体、体積拡散体、又はこれらの組み合わせであっても、それらを含むものであってもよい。例えば、光学的ディフューザー２８１５は、第１の屈折率ｎ_１を有する複数の粒子であって、それとは異なる屈折率ｎ_２を有する結合剤又はホスト媒質中に分散されたものを含んでもよく、ここで、これら２つの屈折率の差は、少なくとも約０．０１、又は少なくとも約０．０２、又は少なくとも約０．０３、又は少なくとも約０．０４、又は少なくとも約０．０５である。

後方反射体２８１１は、負のＺ方向に沿って観測者２８９９から遠ざかる方向に光導体によって放射される光を受光し、受光した光を観測者の方向に反射する。ランプ２８０２が光導体２８１０のエッジに沿って配置されたディスプレイシステム２８００のようなディスプレイシステムは、一般的にエッジライト型又はバックライト型ディスプレイ又は光学システムと呼ばれる。特定の場合では、後方反射体２８１１は部分的に反射性かつ部分的に透過性であってよい。ある場合には、後方反射体２８１１は構造化されていてもよく、例えば構造化面を有することができる。

後方反射体２８１１は、特定の用途において望ましく、かつ／又は実用的であり得る任意の種類の反射体であってよい。例えば、後方反射体は、鏡面性反射体、半鏡面性若しくは半拡散性反射体、又は拡散性反射体であり得る。例えば、反射体はアルミニウム処理したフィルム又は多層ポリマー反射性フィルム、例えば、高鏡面性反射体（ＥＳＲ）フィルム（３ＭＣｏｍｐａｎｙ（Ｓｔ．Ｐａｕｌ，ＭＮ）から入手可能）であり得る。別の例としては、後方反射体２８１１は、白色の外観を有する拡散反射体とすることができる。

項目１は、第１主要表面及び第２主要表面を有する第１光学フィルムであって、第２主要表面は複数の微細構造を含む艶消表面を含む、第１光学フィルムと、第３主要表面及び第４主要表面を有する第２光学フィルムであって、第２光学フィルムの第３主要表面は第１光学フィルムの艶消表面と隣接する第２光学フィルムとを含み、第１光学フィルムと第２光学フィルムとの間の摩擦係数は約１未満である、光学フィルム積層体である。

項目２は、摩擦係数が約０．８未満である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３は、摩擦係数が約０．６未満である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目４は、第１光学フィルムの厚さが、約３０〜４０マイクロメートル未満である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目５は、微細構造化表面のＴｇが、約７０℃、又は約５０℃、又は約３０°である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目６は、ＣＯＦが製造中の表面化学物質により影響される、項目１の光学フィルム積層体である。

項目７は、第１主要表面が、第１主要表面の第１方向に沿って延びる微細構造を含む、項目１の光学フィルム積層体である。

項目８は、第１主要表面の第１方向に沿って延びる微細構造が、第２主要表面の微細構造の最大高さとは異なる最大高さを有する、項目７の光学フィルム積層体である。

項目９は、第１主要表面の第１方向に沿って延びる微細構造が線形プリズムを含む、項目７の光学フィルム積層体である。

項目１０は、第１主要表面の第１方向に沿って延びる微細構造の高さが、第１方向に沿って変動する、項目７の光学フィルム積層体である。

項目１１は、第１光学フィルムの平均有効透過率が約１．８０〜１．８５未満である、項目１に記載の光学フィルム積層体である。

項目１２は、第２光学フィルムの第３主要表面が第１方向に沿って延びる微細構造を含む、項目１の光学フィルム積層体である。

項目１３は、第１光学フィルムの第１主要表面が、第１方向に沿って延びる微細構造を含み、第２光学フィルムの第３主要表面が、第１方向とは異なる第２方向に沿って延びる微細構造を含む、項目１の光学フィルム積層体である。

項目１４は、光学フィルム積層体の平均有効透過率が、複数の微細構造を有さない同じ構造を有する光学フィルム積層体と比較して約１％、２％、３％、４％、５％、６％、７％又は８％以上である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目１５は、第１光学フィルムが基層及び基層上に配置された艶消層を含み、艶消層は艶消表面を含む、項目１の光学フィルム積層体である。

項目１６は、艶消層が約５０℃〜１００℃の範囲のＴｇを含む、請求項１５の光学フィルム積層体である。

項目１７は、基層がＰＥＴを含む、項目１５の光学フィルム積層体である。

項目１８は、基層が偏光層を含む、項目１５の光学フィルム積層体である。

項目１９は、偏光フィルムが多層反射性偏光子を含む、項目１８の光学フィルム積層体である。

項目２０は、実質的に反射する偏光状態に関する、偏光層の平均反射率が、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％である、項目１８の光学フィルム積層体である。

項目２１は、実質的に透過する偏光状態に関する、偏光層の平均透過率が、少なくとも約５０％、又は少なくとも約６０％、又は少なくとも約７０％、又は少なくとも約８０％、又は少なくとも約９０％、又は少なくとも約９５％、又は少なくとも約９７％、又は少なくとも約９８％、又は少なくとも約９９％である、項目１８の光学フィルム積層体である。

項目２２は、基層が約１．４〜約１．８以上の屈折率を有する、項目１５に記載の光学フィルム積層体である。

項目２３は、艶消層が約１．４〜１．６以上の屈折率を有する、項目１５の光学フィルム積層体である。

項目２４は、艶消層が粒子を含み、艶消層の平均厚さが粒子の平均サイズの少なくとも２倍大きい、項目１５の光学積層体である。

項目２５は、艶消層が粒子を含み、艶消層の平均厚さが粒子の平均サイズの少なくとも２マイクロメートル大きい、項目１５の光学積層体である。

項目２６は、微細構造が第２主要表面の少なくとも７５％、８０％、８５％、９０％又は９５％を被覆する、項目１の光学フィルム積層体である。

項目２７は、第１光学フィルムの光学ヘーズが、１％、２％、３％、４％又は５％以下である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目２８は、第１光学フィルムの光学的透明性が約７０％以下又は約８０％超である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目２９は、微細構造が傾斜分布を有し、傾斜分布のＨＷＨＭが約６〜約４度以下である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３０は、第２主要表面が第２主要表面にわたる傾斜分布を有し、傾斜分布が約３２．４〜約４度以下のＨＷＨＭを有する、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３１は、約１〜約７％以下の微細構造が約３．５〜約５度超の傾斜の大きさを有する、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３２は、第３主要表面が微細構造を含む、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３３は、第３主要表面の微細構造が線形プリズムを含む、項目３２の光学フィルム積層体である。

項目３４は、第２光学フィルムが第４主要表面上に微細構造を含む艶消表面を含む、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３５は、艶消表面が約１％又は約２．５％以下の光学ヘーズを有する、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３６は、艶消表面が７０％以下又は約８０％以下の光学的透明性を有する、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３７は、微細構造の実質的な割合が、０．５マイクロメートルを超える平均サイズを有する粒子上に配置されていない、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３８は、第１光学フィルムが、０．５〜約０．１マイクロメートルを超える平均サイズを有する粒子を含まない、項目１の光学フィルム積層体である。

項目３９は、微細構造の平均高さが約１〜約３マイクロメートル以下である、項目１の光学フィルム積層体である。

項目４０は、光学フィルム積層体が呈する歪の量が、微細構造を有さないことを除いて、同じ光学フィルム積層体が呈する歪みの量よりも低い、項目１の光学フィルム積層体である。

項目４１は、第１主要表面及び第２主要表面を有する偏光層と、第１主要表面上に配置されるプリズム層と、第２主要表面上に配置される艶消層とを含み、艶消層は傾斜分布を有する複数の微細構造を含む、光学フィルムであって、傾斜分布のＨＷＨＭは約６〜約度以下（not greater than about 6 to about degrees）であり、艶消層は平滑な表面に隣接する際に、光学フィルムと平滑な表面との間に約１未満の摩擦係数を提供する、光学フィルム。

項目４２は、摩擦係数が約０．８未満である、項目４１の光学フィルムである。

項目４３は、摩擦係数が約０．７未満である、項目４１の光学フィルムである。

項目４４は、摩擦係数が約０．６未満である、項目４１の光学フィルムである。

項目４５は、光学フィルムの厚さが約３０マイクロメートル未満である、項目４１の光学フィルム積層体である。

項目４６は、プリズム層のプリズムが、微細構造の最大高さと異なる最大高さを有する、項目４１の光学フィルムである。

項目４７は、プリズム層のプリズムが、第１主要表面の第１方向に沿って延びる線形プリズムを含む、項目４１の光学フィルムである。

項目４８は、第１主要表面の第１方向に沿って延びる線形プリズムの高さが、第１方向に沿って変動する、項目４７の光学フィルムである。

項目４９は、光学フィルムの平均有効透過率は約１．５〜約２．５以上である、項目４１の光学フィルムである。

項目５０は、光学フィルムの平均有効透過率が、艶消層を有さない同じ構成を有する光学フィルムと比較して約１％、２％、３％、４％、５％、６％、７％、８％以上である、項目４１の光学フィルムである。

項目５１は、艶消層が約１００℃未満、又は約９０℃未満、又は約８０℃未満、又は約７０℃未満のＴｇを含む、項目４１に記載の光学フィルムである。

項目５２は、艶消層が約１．４〜約１．６以上の屈折率を有する、項目４１の光学フィルムである。

項目５３は、艶消層が粒子を含み、艶消部分の平均厚さが粒子の平均サイズの少なくとも２倍大きい、項目４１の光学積層体である。

項目５４は、艶消層が粒子を含み、艶消部分の平均厚さが粒子の平均サイズより少なくとも２マイクロメートル大きい、項目４１の光学積層体である。

項目５５は、微細構造が艶消層の少なくとも７５％、８０％、８５％、９０％、９５％を被覆する、項目４１の光学フィルムである。

項目５６は、艶消層が艶消層にわたって傾斜分布を有し、ＨＷＨＭを有する傾斜分布が約２．５〜約４度以下である、項目４１の光学フィルムである。

項目５７は、微細構造の約１〜約７％以下が約３．５〜約５度超の傾斜の大きさを有する、項目４１の光学フィルムである。

項目５８は、艶消層が約１％〜２．５％以下の光学ヘーズを有する、項目４１の光学フィルムである。

項目５９は、艶消層が約７０％〜約８０％以下の光学的透明性を有する、項目４１の光学フィルムである。

項目６０は、微細構造の実質的な割合が、０．５マイクロメートルを超える平均サイズを有する粒子上に配置されていない、項目４１の光学フィルム積層体である。

項目６１は、微細構造の平均高さが、約１マイクロメートル〜約３マイクロメートル以下である、項目４１の光学フィルムである。

項目６２は、第１主要表面及び第２主要表面を有する偏光層と、第１主要表面上に配置されるプリズム層と、第２主要表面上に配置される艶消層とを含み、艶消層が複数の微細構造を含み、艶消層と平滑な表面との間の摩擦係数が約１未満である、光学フィルムである。

項目６３は、摩擦係数が約０．８未満である、項目６２の光学フィルムである。

項目６４は、摩擦係数が約０．６未満である、項目６２の光学フィルムである。

項目６５は、微細構造が傾斜分布を有し、傾斜分布のＨＷＨＭが約６〜約４度以下である、項目６２の光学フィルム積層体である。

項目６６は、艶消層のＣＯＦが作製中に表面化学物質によって影響される、項目６２の光学フィルムである。

項目６７は、艶消層が約１００℃未満、又は約９０℃未満、又は約８０℃未満又は約７０℃未満又は５０℃未満又は３０℃未満のＴｇを含む、項目６２の光学フィルムである。

項目６８は、艶消層のＣＯＦが１未満であり、Ｔｇが３０℃未満である、項目６２の光学フィルムである。

項目６９は、第１主要表面及び第２主要表面を有する第１光学フィルムと、複数の微細構造を含む第２主要表面と、第３主要表面及び第４主要表面を有する第２光学フィルムとを含み、第２光学フィルムの第３主要表面は第１光学フィルムの第２主要表面の方に向けられ、光学フィルム積層体の歪みは、複数の微細構造を有さない（with out）同一の光学フィルム積層体よりも少ない、光学フィルム積層体である。

項目７０は、
光源と、
ディフューザーと、
第１光学フィルムであって、この第１光学フィルムは
第１主要表面、第２主要表面及び複数の縁部を有する、第１基層、
第１基層の第１主要表面上に配置される第１プリズム層、並びに
第１基層の第２主要表面上に配置される第１艶消層であって、この艶消層は微細構造を含む、艶消層を含む、第１光学フィルムと、
第２光学フィルムであって、この第２光学フィルムは、
第１主要表面及び第２主要表面を有する第２基層、及び
第２基層の第１主要表面上に配置される第２プリズム層であって、第２光学フィルムのプリズム層は第１艶消層の方に向けられ、第２基層の第２主要表面はディフューザーの方に向けられた第２プリズム層を含む、第２光学フィルムとを含み、第１光学フィルムは縁部において拘束され、第１光学フィルムと第２光学フィルムとの間の摩擦係数は１未満である、バックライトである。

本明細書で使用するとき、「垂直の」、「水平の」、「上方の」、「下方の」、「左」、「右」、「上側」及び「下側」、「時計回り」及び「反時計回り」などの用語、並びに他の類似の用語は、諸図に示される相対的位置を指す。広くは、物理的実施形態は異なる配向を有することができ、その場合、用語は、装置の実際の配向に修正された相対位置を意味することを意図している。例えば図３の画像が図の向きと比較して反転されたとしても、第１の主要表面３１０は依然、上側の主要表面とみなされる。

上記に引用した全ての特許、特許出願及び他の公開を、それらがあたかも完全に再現されたものとして本明細書に援用するものである。本発明の様々な態様の説明を容易にするために本発明の特定の実施例を上記に詳細に説明したが、本発明は、それら実施例の詳細に限定されるものではないことを理解すべきである。むしろ、その意図は、添付の「特許請求の範囲」で定義される本発明の範囲に包含される全ての修正物、等価物、及び代替物を網羅することである。

Claims

第１主要表面及び第２主要表面を有する第１光学フィルムであって、前記第２主要表面は複数の微細構造を含む艶消表面を含む、第１光学フィルムと、
第３主要表面及び第４主要表面を有する第２光学フィルムであって、前記第２光学フィルムの前記第３主要表面は前記第１光学フィルムの前記艶消表面と隣接する第２光学フィルムとを含み、前記第１光学フィルムと前記第２光学フィルムとの間の摩擦係数は約１未満である、光学フィルム積層体。
前記第１光学フィルムの厚さは、約３０マイクロメートル未満である、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記第１光学フィルムの前記第１主要表面は、第１方向に沿って延びる微細構造を含み、
前記第２光学フィルムの前記第３主要表面は、前記第１方向とは異なる第２方向に沿って延びる微細構造を含む、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記光学フィルム積層体の平均有効透過率は、前記複数の微細構造を有さない同一の構成を有する光学フィルム積層体と比較して約５％以上である、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記微細構造が傾斜分布を有し、前記傾斜分布のＨＷＨＭが約６〜約４度以下である、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記第３主要表面が線形プリズムを含む、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記艶消表面が約２．５％以下の光学ヘーズを有する、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記艶消表面が約７０％以下の光学的透明性を有する、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記微細構造の実質的な割合が、約０．５マイクロメートルを超える平均サイズを有する粒子上に配置されていない、請求項１に記載の光学フィルム積層体。
前記光学フィルム積層体が呈する歪みの量が、前記微細構造を有さないことを除いて同じ光学フィルム積層体が呈する歪みの量よりも低い、請求項１に記載の光学フィルム積層体。