KR20120101401A

KR20120101401A - 휨 방지 표면을 갖는 광학 필름

Info

Publication number: KR20120101401A
Application number: KR1020127013288A
Authority: KR
Inventors: 앤서니 에이치 바비어
Original assignee: 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니
Priority date: 2009-10-27
Filing date: 2010-10-22
Publication date: 2012-09-13
Also published as: WO2011056475A3; WO2011056475A2; JP2013508788A; JP5908842B2; US20130201660A1; CN102596571A; KR101848939B1; EP2493689A2; JP2015180949A; CN102596571B

Abstract

광학 필름 적층물이 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제1 광학 필름(220)을 포함한다. 제2 주 표면(160)은 복수의 미세구조물(241)을 포함하는 무광택 표면이다. 광학 필름 적층물은 제3 주 표면 및 제4 주 표면을 가지는 제2 광학 필름(230)을 포함한다. 제2 광학 필름의 제3 주 표면은 제1 광학 필름의 무광택 표면에 인접해 있다. 제1 광학 필름의 무광택 표면과 제2 광학 필름의 제3 주 표면 사이의 마찰 계수는 약 1 미만이다. 무광택 표면에 의해 제공되는 약 1 미만의 마찰 계수는 광학 필름 적층물의 휨 성능을 향상시킨다.

Description

휨 방지 표면을 갖는 광학 필름{OPTICAL FILM WITH ANTI-WARP SURFACE}

관련 출원

본 출원은 계류 중인 미국 특허 공개 제2009/0029054호, 2009년 6월 2일자로 출원된, 발명의 명칭이 "광 방향 전환 필름 및 이를 포함한 디스플레이 시스템(Light Redirecting Film and Display System Incorporating Same)"인 미국 가특허 출원 제61/183154호(대리인 사건 번호 65425US002), 및 2009년 8월 25일자로 출원된, 발명의 명칭이 "광 방향 전환 필름 및 이를 포함한 디스플레이 시스템(Light Redirecting Film and Display System Incorporating Same)"인 미국 가특허 출원 제61/236772호(대리인 사건 번호 65622US002) - 이들 모두는 참조 문헌으로서 그 전체 내용이 본 명세서에 포함됨 - 에 관한 것이다.

본 발명은 일반적으로 광학 필름에 관한 것이다. 본 발명은 또한 이러한 광학 필름을 포함하는 디스플레이 시스템과 같은 광학 시스템에 적용가능하다.

액정 디스플레이(LCD) 시스템과 같은 디스플레이 시스템은 각종의 응용 및 구매가능한 장치 - 예를 들어, 컴퓨터 모니터, PDA(personal digital assistant), 휴대폰, 소형 음악 플레이어, 및 박형 LCD 텔레비전 - 에서 사용된다. 대부분의 LCD는 액정 패널 및 액정 패널을 조명하는 대면적 광원 - 종종 백라이트라고 함 - 을 포함한다. 백라이트는 전형적으로 하나 이상의 램프 및 다수의 광 관리 필름 - 도광체, 미러 필름, 광 방향 전환 필름, 지연기 필름, 편광 필름, 및 확산기 필름 등 - 을 포함한다.

보다 적은 가시 결함 및/또는 광학 결함을 갖는 보다 밝고, 보다 콤팩트하며, 보다 저전력인 디스플레이를 달성하기 위해 광학 필름 및 광학 시스템을 계속하여 향상시킬 필요가 있다. 본 발명은 이들 및 다른 필요성을 충족시키고 종래 기술에 비해 다른 이점을 제공한다.

일 실시 형태는 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제1 광학 필름 - 제2 주 표면은 복수의 미세구조물을 포함하는 무광택 표면을 포함함 -, 및 제3 주 표면 및 제4 주 표면을 가지는 제2 광학 필름 - 제2 광학 필름의 제3 주 표면은 제1 광학 필름의 무광택 표면에 인접해 있음 -을 포함하고, 제1 광학 필름과 제2 광학 필름 사이의 마찰 계수가 약 1 미만인 광학 필름 적층물을 포함한다.

다른 실시 형태는 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 편광기 층을 포함한다. 프리즘 층은 제1 주 표면 상에 배치되어 있다. 무광택 층은 제2 주 표면 상에 배치되어 있고, 무광택 층은 기울기 분포를 가지는 복수의 미세구조물을 포함하며, 기울기 분포의 HWHM은 약 6 내지 약 ??도 이상이고, 무광택 층은, 평탄한 표면에 인접해 있을 때, 약 1 미만의 광학 필름과 평탄한 표면 사이의 마찰 계수를 제공한다.

다른 실시 형태는 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 갖는 편광기 층을 가지는 광학 필름을 포함한다. 제1 주 표면 및 무광택 층 상에 배치된 프리즘 층은 제2 주 표면 상에 배치되어 있고, 무광택 층은 복수의 미세구조물을 가지며, 무광택 층과 평탄한 표면 사이의 마찰 계수는 약 1 미만이다.

추가의 실시 형태는 광학 필름 적층물에 관한 것이다. 제1 광학 필름은 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지며, 제2 주 표면은 복수의 미세구조물을 포함한다. 제2 광학 필름은 제3 주 표면 및 제4 주 표면을 가지며, 제2 광학 필름의 제3 주 표면은 제1 광학 필름의 제2 주 표면 쪽에 배향되어 있고, 광학 필름 적층물은 복수의 미세구조물을 갖지 않는 동일한 광학 필름 적층물보다 덜 휘어진다.

또 다른 실시 형태는 광원 및 확산기를 포함하는 백라이트에 관한 것이다. 제1 광학 필름은 제1 주 표면, 제2 주 표면 및 복수의 에지를 가지는 제1 기층, 제1 기층의 제1 주 표면 상에 배치된 제1 프리즘 층, 제1 기층의 제2 주 표면 상에 배치된 제1 무광택 층 - 무광택 층은 미세구조물을 포함함 - 을 포함한다. 제2 광학 필름은 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제2 기층, 및 제2 기층의 제1 주 표면 상에 배치된 제2 프리즘 층 - 제2 광학 필름의 프리즘 층은 제1 무광택 층 쪽에 배향되어 있고 제2 기층의 제2 주 표면은 확산기 쪽에 배향되어 있음 - 을 포함하고, 제1 광학 필름은 에지에서 구속되어 있고, 제1 광학 필름과 제2 광학 필름 사이의 마찰 계수는 1 미만이다.

<도 1>
도 1은 무광택 표면을 갖는 광학 필름을 포함하는 광학 필름 적층물의 개략 측면도.
<도 2a>
도 2a는 미세구조화된 상부 표면 및 무광택 하부 표면을 가지는 상부 광학 필름과 하부 광학 필름을 포함하는 광학 필름 적층물의 개략 측면도.
<도 2b>
도 2b는 교차된 프리즘 필름을 포함하는 광학 필름 적층물 - 상부 필름은 무광택 표면을 가짐 - 을 나타낸 도면.
<도 3>
도 3은 상부 상의 프리즘 층 및 하부 상의 무광택 표면을 가지는 광학 필름을 나타낸 도면.
<도 4>
도 4는 미세구조물을 생성하기 위해 미세복제될 수 있는 패턴을 갖는 도구를 제조하는 데 사용될 수 있는 절단 도구 시스템(400)의 개략 측면도.
<도 5a 내지 도 5d>
도 5a 내지 도 5d는 본 발명의 실시 형태에 따른, 미세구조물을 제조하는 데 사용될 수 있는 절단기를 나타낸 도면.
<도 6 내지 도 8>
도 6 내지 도 8은 도 4와 관련하여 기술된 공정을 사용하여 제조될 수 있는 무광택 표면 패턴의 현미경 사진을 나타낸 도면.
<도 9a 및 도 9b>
도 9a 및 도 9b는 본 발명의 실시 형태에 따른, 무광택 표면을 제조하도록 구성된 시스템을 나타낸 도면.
<도 10a 및 도 10b>
도 10a 및 도 10b는 도 9a 및 도 9b에 도시된 공정을 사용하여 제조된 미세구조화된 표면의 현미경 사진을 나타낸 도면.
<도 11>
도 11은 미세구조물의 측면도.
<도 12 및 도 13>
도 12 및 도 13은 광학 필름의 측면도.
<도 14>
도 14는 계산된 광학 탁도 대 표면 분율 "f"의 그래프.
<도 15>
도 15는 계산된 광학 탁도 대 표면 분율 "f"의 그래프.
<도 16>
도 16은 미세구조화된 표면의 AFM 표면 프로파일을 나타낸 도면.
<도 17a 및 도 17b>
도 17a 및 도 17b는 2개의 상호 직교 방향을 따라 도 16의 미세구조화된 표면의 단면 프로파일을 나타낸 도면.
<도 18>
도 18은 도 16의 미세구조화된 표면에 대한 퍼센트 기울기 분포의 그래프.
<도 19>
도 19는 도 16의 미세구조화된 표면에 대한 높이 분포의 그래프.
<도 20>
도 20은 도 16의 미세구조화된 표면에 대한 퍼센트 기울기 크기 분포의 그래프.
<도 21>
도 21은 도 16의 미세구조화된 표면에 대한 퍼센트 누적 기울기 분포의 그래프.
<도 22>
도 22는 다양한 미세구조화된 표면에 대한 퍼센트 누적 기울기 분포의 그래프.
<도 23>
도 23은 유효 투과율을 측정하는 광학 시스템의 개략 측면도.
<도 24>
도 24는 시각적 휨 테스트를 위한 테스트 장치의 개략 측면도.
<도 25a 및 도 25b>
도 25a 및 도 25b는, 각각, 휨 불균일 점수(warp Mura score)를 결정하는 데 사용되는 테스트 구성의 측면도 및 평면도.
<도 26>
도 26은 시각적 휨 점수 대 COF의 그래프.
<도 27>
도 27은 휨 "불균일 점수" 대 COF의 그래프.
<도 28 및 도 29>
도 28 및 도 29는 다양한 광학 필름에 대한 휨 "불균일 점수"의 통계 도표.
<도 30>
도 30은 표 1에 열거되어 있는 선택된 샘플에 대한 미세복제된 무광택 표면의 표면 특성을 나타낸 도면.
<도 31>
도 31은 표 4로부터의 선택된 샘플에 대한 면측 롤(face-side roll) 공정을 사용하여 제조된 무광택 표면의 표면 특성을 나타낸 도면.
<도 32>
도 32는 디스플레이 시스템의 개략 측면도.

광학 필름은 광원으로부터 방출된 광을, 광을 편광시키는 것 등에 의해, 조절하는 데 및/또는 물리적 결함 및/또는 광학 결함을 마스킹 및/또는 제거함과 동시에 광을 방향 전환하는 데 사용된다. 물리적 결함은 휨 및 긁힘을 포함할 수 있고, 광학 결함은, 예를 들어, 웨트아웃(wetout), 모아레 및 색상 불균일을 포함할 수 있다. 보다 얇은 디스플레이가 일반적으로 바람직하지만, 특히 얇은 필름이 광학 필름 적층물 내에 배열될 때, 필름 및/또는 필름 적층물이 휨을 받기 쉽다. 인접한 얇은 필름 사이의 무광택 표면은 필름들 사이의 마찰 계수(COF)를 감소시키고 휨을 감소시키는 것으로 밝혀졌다. 본 명세서에 기술된 무광택 표면은 또한 휘도를 유지하기에 충분히 낮은 광학 탁도, 및 결함 마스킹을 제공하기에 충분히 낮은 광학 투명도를 제공한다. 본 명세서에 기술된 무광택 표면은 편광 층, 프리즘 층, 확산기 및/또는 다른 광학 구조물 또는 층과 관련하여 사용될 수 있다.

도 1은 무광택 표면(121)을 갖는 광학 필름(120)을 포함하는 광학 필름 적층물(100)의 개략 측면도이다. 광학 필름 적층물(100) 내의 광학 필름(110, 120)은 무광택 표면(121)이 적층물(110) 내의 2개의 광학 필름(110, 120) 사이에 있도록 배열되어 있다. 무광택 표면(121)은 이하에서 더 상세히 기술되는 복수의 미세구조물(160)을 포함한다. 광학 필름(110)은 제1 주 표면(111), 및 제1 주 표면(111)의 반대쪽에 있는 제2 주 표면(112)을 포함한다. 광학 필름(120)은 무광택 표면인 제1 주 표면(121), 및 제1 주 표면(121)의 반대쪽에 있는 제2 주 표면(122)을 포함한다. 무광택 표면(121)은 광학 필름 적층물(100) 내의 광학 필름(110)의 제2 주 표면(112)에 인접해 있다. 무광택 표면(121)의 미세구조물(160)은 본 명세서에 기술된 마찰 계수(COF), 휨 방지 특성, 기울기 분포, 기울기 크기, 탁도 및/또는 투명도 특성을 달성하도록 구성될 수 있다. 무광택 표면(121)을 갖는 광학 필름(120)만이 도 1에 도시되어 있지만, 일부 구현예에서, 광학 필름(110)은 무광택 하부 표면도 포함할 수 있다. 광학 필름(110, 120)은 다층 필름일 수 있다.

도 2a는 광 방향 전환 필름(220)을 포함하는 광학 필름 적층물(200)의 개략 측면도이다. 광 방향 전환 필름(220)은 미세구조물(160)을 포함하는 무광택 표면인 제1 주 표면(221), 및 반대쪽에 있는 제2 주 표면(222)을 포함한다. 제2 주 표면(222)은 도 2a에 도시된 선형 프리즘과 같은 복수의 광 방향 전환 미세구조물(260)을 포함한다. 광학 필름 적층물은 도 1과 관련하여 기술된 것과 같은 광학 필름(110)을 포함한다. 광학 적층물(200)은 무광택 표면 - 즉, 광 방향 전환 필름(220)의 제1 주 표면(221) - 이 광학 필름 적층물(200) 내의 광학 필름(110)의 제2 주 표면(112)에 인접하여 배열되도록 배열되어 있다. 무광택 표면(221)의 미세구조물(160)은 본 명세서에 기술된 마찰 계수(COF), 휨 방지 특성, 기울기 분포, 기울기 크기, 탁도 및/또는 투명도 특성을 달성하도록 구성될 수 있다. 일부 응용에서, 광학 필름(220, 110)은 다층 구조물로서 제조될 수 있다. 예를 들어, 광학 필름(220)은 프리즘 층 및/또는 기층 상에 배치된 무광택 층으로서 제조될 수 있다. 층들 중 하나 이상의 층(예컨대, 기층)은 다수의 층을 포함할 수 있다.

일부 응용에서, 광학 적층물에 2개의 광 방향 전환 필름을 포함하는 것이 유익하다. 각각의 광 방향 전환 필름은 선형 프리즘을 포함할 수 있고, 이들 필름은 필름들 중 하나의 필름의 프리즘의 방향이 필름들 중 다른 필름의 선형 프리즘의 방향에 대해 어떤 각도로 있도록 배열되어 있다. 이러한 배열은 도 2b에 도시된다. 도 2b는 교차된 프리즘 필름(230, 240)을 나타낸 것이다. 필름(230)의 선형 프리즘(270)의 방향은 필름(240)의 선형 프리즘(280)의 방향에 대해 90도 또는 다른 각도로 있을 수 있다. 필름(230)은 제1 주 표면(231) 및 미세구조물 - 도 2b에 예시된 선형 프리즘(270) 등 - 을 포함하는 반대쪽에 있는 제2 주 표면(232)을 포함한다. 필름(230)의 하부 주 표면(231)은 또한 표면(241)과 유사한 미세구조물을 포함하는 무광택 표면을 포함할 수 있다.

광 방향 전환 필름(240)은 도 2a에 예시된 필름(220)과 유사하다. 필름(240)은 제1 주 표면(241)을 포함한다. 표면(241)은 미세구조물(160)을 포함한다. 반대쪽에 있는 제2 주 표면(242)은 도 2b에서 선형 프리즘(280)으로 도시된 미세구조물을 포함한다. 무광택 표면인 제1 주 표면(241)은 광학 필름 적층물(201) 내의 광학 필름(230)의 제2 주 표면(232)에 인접해 있도록 배열되어 있다. 무광택 표면(241)의 미세구조물(160)은 본 명세서에 기술된 마찰 계수(COF), 휨 방지 특성, 기울기 분포, 기울기 크기, 탁도 및/또는 투명도 특성을 달성하도록 구성될 수 있다. 일부 응용에서, 광학 필름(230, 240)은 다층 구조물로서 제조될 수 있다. 예를 들어, 광학 필름(230, 230) 중 하나 또는 둘다는 프리즘 층 및/또는 기층 상에 배치된 무광택 층으로서 제조될 수 있다. 층들 중 하나 이상의 층(예컨대, 기층)은 다수의 층을 포함할 수 있다.

광학 적층물(201)이 액정 디스플레이의 백라이트에 포함되어 있는 때와 같은 어떤 경우에, 선형 미세구조물(280 및/또는 270)은 모아레를 야기할 수 있다. 어떤 경우에, 2개의 광 방향 전환 필름, 상세하게는 상부 광 방향 전환 필름이 색상 불균일을 야기할 수 있다. 색상 불균일은 광 방향 전환 필름의 굴절률 분산으로 인한 것이다. 1차 색상 불균일은 전형적으로 광 방향 전환 필름의 시야각 한계 가까이에서 보이는 반면, 고차 색상 불균일은 전형적으로 더 큰 각도에서 보인다. 주 표면(241, 231)이 충분히 낮은 광학 탁도 및 투명도를 가질 때와 같은 어떤 경우에, 광학 적층물이, 디스플레이 밝기를 그다지 감소시키는 일 없이, 사실상 모아레 및 색상 불균일을 마스킹하거나 제거할 수 있다. 이러한 경우에, 주 표면(241, 231) 각각은 약 5% 이하, 또는 약 4.5% 이하, 또는 약 4% 이하, 또는 약 3.5% 이하, 또는 약 3% 이하, 또는 약 2.5% 이하, 또는 약 2% 이하, 또는 약 1.5% 이하, 또는 약 1% 이하인 광학 탁도를 가지며, 주 표면(241, 231) 각각은 약 85% 이하, 또는 약 80% 이하, 또는 약 75% 이하, 또는 약 70% 이하, 또는 약 65% 이하, 또는 약 60% 이하인 광학 투명도를 가진다.

광학 적층물(201)이 디스플레이 시스템에서 밝기를 증가시키기 위해 사용되는 때와 같은 어떤 경우에, 광학 적층물의 평균 유효 투과율(ETA)은 약 2.4 이상, 또는 약 2.45 이상, 또는 약 2.5 이상, 또는 약 2.55 이상, 또는 약 2.6 이상, 또는 약 2.65 이상, 또는 약 2.7 이상, 또는 약 2.75 이상, 또는 약 2.8 이상이다. 어떤 경우에, 이들 표면(231, 241) 둘다는 무광택 표면이고, 광학 적층물(201)의 평균 유효 투과율은 평탄한 하부 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조(물질 조성을 포함함)를 가지는 광학 적층물과 비교하여 약 1%, 또는 약 0.75%, 또는 약 0.5%, 또는 약 0.25%, 또는 약 0.1% 이하만큼 더 작다. 어떤 경우에, 이들 하부 주 표면(231, 241) 둘다는 무광택 표면을 포함하고, 광학 적층물(201)의 평균 유효 투과율이 평탄한 하부 주 표면을 가지는 것을 제외하고는 동일한 구조를 가지는 광학 적층물과 비교하여 더 작지 않다. 어떤 경우에, 이들 하부 주 표면(241, 231) 둘다는 무광택 표면을 포함하고, 광학 적층물(201)의 평균 유효 투과율은 평탄한 하부 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조를 가지는 광학 적층물과 비교하여 적어도 약 0.1%, 또는 약 0.2%, 또는 약 0.3%만큼 더 크다. 일례로서, 미세구조물을 갖는 무광택 표면을 포함하는 표면(241, 231)을 갖는 광학 적층물(201)과 유사한 광학 적층물이 제조되었고, 광학 적층물은 약 2.773의 평균 유효 투과율을 가졌다. 각자의 주 표면(231, 241) 각각은 약 1.5%의 광학 탁도 및 약 83%의 광학 투명도를 가졌다. 선형 프리즘은 약 1.65의 굴절률을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조를 가지는 유사한 광학 적층물이 약 2.763의 평균 유효 투과율을 가졌다. 따라서, 구조화된 하부 주 표면(231, 241)은 평균 유효 투과율을 약 0.36%만큼 증가시킴으로써 부가의 이득을 제공하였다.

다른 일례로서, 무광택 하부 주 표면(241, 231)을 갖는 광학 적층물(201)과 유사하고 약 2.556의 평균 유효 투과율을 가진 광학 적층물이 제조되었다. 각자의 주 표면(241, 231) 각각은 약 1.29%의 광학 탁도 및 약 86.4%의 광학 투명도를 가졌다. 선형 프리즘은 약 24 마이크로미터의 피치, 약 90도의 정각, 및 약 1.567의 굴절률을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 하부 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조를 가지는 유사한 광학 적층물이 약 2.552의 평균 유효 투과율을 가졌다. 따라서, 구조화된 하부 주 표면(241, 231)은 평균 유효 투과율을 약 0.16%만큼 증가시킴으로써 부가의 이득을 제공하였다.

또 다른 일례로서, 무광택 하부 주 표면(241, 231)을 갖는 광학 적층물(201)과 유사하고 약 2.415의 평균 유효 투과율을 가진 광학 적층물이 제조되었다. 각자의 하부 주 표면(241, 231) 각각은 약 1.32%의 광학 탁도 및 약 84.8%의 광학 투명도를 가졌다. 선형 프리즘은 약 24 마이크로미터의 피치, 약 90도의 정각, 및 약 1.567의 굴절률을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 하부 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조를 가지는 유사한 광학 적층물이 약 2.404의 평균 유효 투과율을 가졌다. 따라서, 구조화된 하부 주 표면(241, 231)은 평균 유효 투과율을 약 0.46%만큼 증가시킴으로써 부가의 이득을 제공하였다.

도 3은 광학 필름(300)의 개략 측면도이다. 예시적인 광학 필름(300)은 3개의 층(330, 370, 340)을 포함하고 있다. 일반적으로, 광학 필름(300)은 하나 이상의 층을 가질 수 있다. 예를 들어, 어떤 경우에, 광학 필름은 각자의 제1 및 제2 주 표면(310, 320)을 포함하는 단일층을 가질 수 있다. 다른 일례로서, 어떤 경우에, 광학 필름은 다수의 층을 가질 수 있다. 예를 들어, 이러한 경우에, 기층(370)은 다수의 층을 가질 수 있다.

광학 필름(300)의 총 두께는 약 40 마이크로미터, 또는 35 마이크로미터 또는 심지어 30 마이크로미터까지의 범위에 있을 수 있고, 프리즘 층(330)의 두께는 12 마이크로미터 또는 8 마이크로미터까지의 범위에 있을 수 있으며, 기층(370)의 두께는 30 마이크로미터 또는 25 마이크로미터 또는 20 마이크로미터까지의 범위에 있을 수 있고, 무광택 층의 두께는 5 마이크로미터 또는 3 마이크로미터 또는 약 2 마이크로미터 미만까지의 범위에 있을 수 있다.

필름(300)은 y-방향을 따라 뻗어 있는 복수의 미세구조물(350)을 포함하는 제1 주 표면(310)을 포함하고 있다. 필름(300)은 또한 제1 주 표면(310)의 반대쪽에 있고 복수의 미세구조물(360)을 포함하는 제2 주 표면(320)을 포함하고 있다.

필름(300)은 또한 각자의 제1 주 표면(310)과 제2 주 표면(320) 사이에 배치되고 제1 주 표면(372) 및 반대쪽에 있는 제2 주 표면(374)을 포함하는 기판층(370)을 포함하고 있다. 필름(300)은 또한 기층(370)의 제1 주 표면(372) 상에 배치되고 필름의 제1 주 표면(310)을 포함하는 프리즘 층(330), 및 기층(370)의 제2 주 표면(374) 상에 배치되고 필름(300)의 제2 주 표면(320)을 포함하는 무광택 층(340)을 포함하고 있다. 무광택 층(340)은 주 표면(320)과 대향하는 주 표면(342)을 가진다.

미세구조물(350)은 주로 광학 필름의 주 표면(320)에 입사하는 광을, 원하는 방향을 따라 - 예컨대, 플러스 z-방향을 따라 -, 방향 전환시키도록 설계될 수 있다. 예시적인 광학 필름(300)에서, 미세구조물(350)은 프리즘 모양의 선형 구조물이다. 일반적으로, 미세구조물(350)은, 예를 들어, 입사광의 일부분을 굴절시키고 입사광의 다른 일부분을 재순환시킴으로써 광을 방향 전환시킬 수 있는 임의의 유형의 미세구조물일 수 있다. 예를 들어, 미세구조물(350)의 단면 프로파일이 곡선 및/또는 구분적으로 선형인 부분이거나 이를 포함할 수 있다. 예를 들어, 어떤 경우에, 미세구조물(350)은 y-방향을 따라 뻗어 있는 선형 원통형 렌즈일 수 있다.

각각의 프리즘 모양의 선형 미세구조물(350)은 정각(apex angle)(152) 및 공통 기준 평면으로부터 측정된 높이(154)를 포함하고 있다. 광 결합 또는 웨트-아웃(wet-out)을 감소시키고 및/또는 광 방향 전환 필름의 내구성을 향상시키는 것이 바람직할 때와 같은 어떤 경우에, 프리즘 모양의 미세구조물(150)의 높이가 y-방향을 따라 변할 수 있다. 예를 들어, 프리즘 모양의 선형 미세구조물(151)의 프리즘 높이는 y-방향을 따라 변한다. 이러한 경우에, 프리즘 모양의 미세구조물(151)은 y-방향을 따라 변하는 국소 높이, 최대 높이(155), 및 평균 높이를 가진다. 어떤 경우에, 선형 미세구조물(153)과 같은 프리즘 모양의 선형 미세구조물은 y-방향을 따라 일정한 높이를 가진다. 이러한 경우에, 미세구조물은 최대 높이 및 평균 높이와 같은 일정한 국소 높이를 가진다.

광 결합 또는 웨트-아웃을 감소시키는 것이 바람직할 때와 같은 어떤 경우에, 선형 미세구조물의 일부는 보다 짧고 선형 미세구조물의 일부는 보다 크다. 예를 들어, 선형 미세구조물(153)의 높이(156)는 선형 미세구조물(157)의 높이(158)보다 더 작다.

정각 또는 이면각(dihedral angle)(152)은 응용에 바람직할 수 있는 임의의 값을 가질 수 있다. 예를 들어, 어떤 경우에, 정각(152)은 약 70도 내지 약 110도, 또는 약 80도 내지 약 100도, 또는 약 85도 내지 약 95도의 범위에 있을 수 있다. 어떤 경우에, 미세구조물(150)은, 예를 들어, 약 88 또는 89도 내지 약 92 또는 91도의 범위에 있을 수 있는 똑같은 정각 - 90도 등 - 을 가진다.

프리즘 층(330)은 응용에 바람직할 수 있는 임의의 굴절률을 가질 수 있다. 예를 들어, 어떤 경우에, 프리즘 층의 굴절률은 약 1.4 내지 약 1.8, 또는 약 1.5 내지 약 1.8, 또는 약 1.5 내지 약 1.7의 범위에 있다. 어떤 경우에, 프리즘 층의 굴절률은 약 1.5 이상, 또는 약 1.55 이상, 또는 약 1.6 이상, 또는 약 1.65 이상, 또는 약 1.7 이상이다.

기층(370)은 유전체, 반도체, 또는 금속과 같은, 응용에 적당할 수 있는 임의의 물질일 수 있거나 이를 포함할 수 있다. 예를 들어, 기층(370)은 유리 및 중합체[폴리에틸렌 테레프탈레이트(PET), 폴리카보네이트 및 아크릴 등]를 포함할 수 있거나 이들로 이루어져 있을 수 있다. 기층(370)은 경성이거나 연성일 수 있다. 기층(370)은 응용에 바람직할 수 있는 임의의 두께 및/또는 굴절률을 가질 수 있다. 예를 들어, 어떤 경우에, 기층(370)은 PET일 수 있고 약 23 마이크로미터 또는 약 50 마이크로미터 또는 약 175 마이크로미터의 두께를 가질 수 있다.

기층(370)은 반사 편광기와 같은 편광 층을 포함할 수 있다. 디스플레이 광원은 전형적으로 비편광된 광을 생성하고, 이 비편광된 광은 액정(LC) 매트릭스로 보내지기 전에 편광된다. 흡수 편광기는 단지 하나의 편광 상태를 투과시키고 다른 편광 상태의 광을 흡수함으로써 LC 매트릭스로 보내지는 광을 편광시킨다. 그렇지만, 반사 편광기는 그렇지 않았으면 흡수될 광을 반사시키는 데 사용될 수 있고, 따라서 이 광이 재순환될 수 있다. 반사 편광기에 의해 반사된 광의 적어도 일부가 편광 소멸될 수 있고, 그 후에 반사 편광기를 통해 LC 층으로 투과되는 편광 상태로 반사 편광기로 되돌아갈 수 있다. 이러한 방식으로, 반사 편광기는 LC 매트릭스에 도달하는 광원에 의해 방출된 광의 비율을 증가시키는 데 사용될 수 있다.

임의의 적합한 유형의 반사 편광기, 예컨대 다층 광학 필름(multilayer optical film; MOF) 반사 편광기; 확산 반사 편광 필름(diffusely reflective polarizing film; DRPF), 예컨대 연속/분산 상 편광기 또는 콜레스테릭(cholesteric) 반사 편광기가 사용될 수 있다.

MOF, 콜레스테릭 및 연속/분산 상 반사 편광기는 모두 광을 직교 편광 상태로 투과시키면서 하나의 편광 상태의 광을 선택적으로 반사시키기 위한 필름, 보통 중합체 필름 내의 굴절률 프로파일의 변경에 의존한다. MOF 반사 편광기의 어떤 일례가 미국 특허 제5,882,774호(참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)에 기술되어 있다. MOF 반사 편광기의 구매가능한 일례로는, 3M Company(미국 미네소타주 세인트폴 소재)로부터 입수가능한, 확산 표면을 포함하는 Vikuiti™ DBEF-II 및 DBEF-D440 다층 반사 편광기를 포함한다.

미국 특허 제5,882,774호에 기술된 재순환 반사 편광기는 필름을 구성하는 교번하는 층이 필름에 수직인 방향을 따라 실질적으로 정합하는 굴절률을 가지는 다층 광학 편광 필름이며, 따라서 p-편광된 광에 대한 필름 내의 임의의 주어진 표면의 반사율이 실질적으로 입사각의 함수로서 일정하다.

광 방향 전환 필름(300)이 액정 디스플레이 시스템에서 사용되는 때와 같은 어떤 경우에, 광학 필름(300)의 프리즘 층(330)은 디스플레이의 휘도를 증가 또는 향상시키는 역할을 할 수 있다. 이러한 경우에, 필름(300)은 1 초과의 유효 투과율 또는 상대 이득을 가진다. 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 유효 투과율은 이 필름을 디스플레이 시스템에서의 제 위치에 갖는 디스플레이 시스템의 휘도 대 이 필름을 제 위치에 갖지 않는 디스플레이의 휘도의 비이다. 평균 유효 투과율(ETA)의 측정에 대해서는 도 23과 관련하여 이하에서 기술한다. 필름(300)이 디스플레이 시스템에서 휘도를 증가시키는 휘도 향상 필름으로서 사용되고 선형 프리즘이 약 1.6 초과의 굴절률을 가지는 때, 필름의 ETA는 약 1.5 이상, 또는 약 1.55 이상, 또는 약 1.6 이상, 또는 약 1.65 이상, 또는 약 1.7 이상, 또는 약 1.75 이상, 또는 약 1.8 이상, 또는 약 1.85 이상이다. 필름이 반사 편광기로서 그리고 휘도 향상을 위해 사용될 때, 필름의 ETA는 2 이상, 또는 2.2 이상, 또는 2.5 이상이다.

층(340)은 무광택 표면을 제공하는 미세구조물(3660)을 포함한다. 무광택 층(340)은 광학 필름 적층물에서 광학 필름(300)과 인접한 층 사이의 마찰 계수(COF)를 감소시킨다. 얇은 층들 사이의 COF를 감소시키는 것은, 예를 들어, 온도 및/또는 습도의 변동으로 인한 층의 팽창 및/또는 수축 동안, 2개의 인접한 층이 접합 없이 서로에 대해 움직일 수 있게 해준다. 본 명세서에 개시된 실시 형태에 따른 무광택 층은 인접한 층들 사이의 COF를 약 1 미만 또는 약 0.8 미만 또는 약 0.6 미만으로 감소시키면서도 원하는 탁도, 투명도 및/또는 ETA 특성을 제공함으로써 향상된 휨 특성을 제공하도록 설계될 수 있다. 본 명세서에 기술된 무광택 표면이 평탄한 표면 상에서 테스트될 때, 2개의 평탄한 표면 사이에서의 COF와 비교하여 COF가 감소된다.

무광택 층(340) 내의 미세구조물(360)은, 광을 방향 전환시키고 휘도를 향상시키는 광 방향 전환 필름의 기능에 대한 역효과가 전혀 또는 거의 없는 상태로, 바람직하지 않은 물리적 결함(예를 들어, 긁힘등) 및/또는 광학 결함(예를 들어, 디스플레이 또는 조명 시스템 내의 램프로부터의 바람직하지 않게 밝은 또는 "핫" 스폿 등)을 감출 수 있다. 이러한 경우에, 제2 주 표면(320)은 약 5% 이하, 또는 약 4.5% 이하, 또는 약 4% 이하, 또는 약 3.5% 이하, 또는 약 3% 이하, 또는 약 2.5% 이하, 또는 약 2% 이하, 또는 약 1.5% 이하, 또는 약 1% 이하인 광학 탁도, 및 약 85% 이하, 또는 약 80% 이하, 또는 약 75% 이하, 또는 약 70% 이하, 또는 약 65% 이하, 또는 약 60% 이하인 광학 투명도를 가진다.

광학 탁도는, 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 총 투과 광에 대한 수직 방향으로부터 4도 초과만큼 벗어난 투과 광의 비로서 정의된다. 본 명세서에 개시된 탁도 값은 ASTM D1003에 기술된 절차에 따라 Haze-Gard Plus 탁도계(미국 메릴랜드주 실버 스프링 소재의 BYK-Gardiner로부터 입수가능함)를 사용하여 측정되었다. 광학 투명도는, 본 명세서에서 사용되는 바와 같이, 비 (T₁-T₂)/(T₁+T₂)를 말하고, 여기서 T₁은 수직 방향으로부터 1.6 내지 2도만큼 벗어나는 투과 광이고, T₂는 수직 방향으로부터 0 내지 0.7도 사이에 있는 투과 광이다. 본 명세서에 개시된 투명도 값은 비와이케이-가디너로부터의 헤이즈-가드 플러스 탁도 측정기를 사용하여 측정되었다.

미세구조물(360)은 응용에 바람직할 수 있는 임의의 유형의 미세구조물일 수 있다. 예를 들어, 미세구조물(360)은 규칙적인 패턴, 불규칙적인 패턴, 랜덤한 패턴, 또는 랜덤한 것처럼 보이는 의사-랜덤한 패턴을 형성할 수 있다.

미세구조물(360)은 임의의 적당한 제조 방법을 사용하여 제조될 수 있다. 예를 들어, 미세구조물(360)을 가지는 무광택 층(340)은 기층(370) 상에 물질을 코팅함으로써 형성될 수 있다. 코팅 물질은 미세구조물을 형성하는 입자를 포함할 수 있다. 코팅 방법은 다이 코팅, 침지 코팅, 롤 코팅, 압출 코팅, 압출 복제 및/또는 기타 코팅 공정을 포함한다.

미세구조물(360)은 도구로부터 미세복제를 사용하여 제조될 수 있고, 여기서 도구는 임의의 이용가능한 제조 방법을 사용하여 - 예컨대, 각인(engraving) 또는 다이어몬드 선삭(diamond turning)을 사용하여 - 제조될 수 있다. 예시적인 다이어몬드 선삭 시스템 및 방법은, 예를 들어, PCT 공개 출원 제WO 00/48037호, 및 미국 특허 제7,350,442호 및 제7,328,638호 - 이들의 개시 내용은 참조 문헌으로서 그 전체 내용이 본 명세서에 포함됨 - 에 기술된 것과 같은 FST(fast tool servo)를 포함하고 이용할 수 있다.

무광택 표면의 COF는 무광택 표면을 형성하는 구조물의 기하 형태에 의존적일 수 있고, 유리 전이 온도 Tg에 의존할 수 있다. 1 미만의 COF 값을 달성하기 위해, 무광택 표면을 형성하기 위해 선택된 물질은 약 100C 미만, 또는 약 90C 미만, 또는 약 80C 미만, 또는 약 70C 미만의 Tg를 가질 수 있다.

무광택 표면은 본 명세서에 기술되고 참조 문헌으로서 본 명세서에 포함된 2009/0029054에 추가로 기술된 것과 같은 면측 롤러(face-side roller) 공정을 사용하여 형성될 수 있다. 앞서 기술한 바와 같이, 무광택 표면의 COF는 무광택 표면을 형성하는 구조물의 기하 형태 및 전이 온도 Tg에 의존적이다. 기부 코팅 수지에 대한 계면 활성제 첨가제는 코팅의 표면 화학을 개질시키고 또한 면측 롤러 공정을 사용하여 제조된 필름에 대한 COF에 기여한다.

도 4는 미세구조물(360)을 생성하기 위해 미세복제될 수 있는 패턴을 갖는 도구를 제조하는 데 사용될 수 있는 절단 도구 시스템(400)의 개략 측면도이다. 절단 도구 시스템(400)은 나사 절단 선삭(thread cut lathe turning) 공정을 이용하고, 구동기(430)에 의해 중심축(420)을 중심으로 회전하고 및/또는 중심축(420)을 따라 움직일 수 있는 롤(410), 및 롤 물질을 절단하는 절단기(440)를 포함하고 있다. 절단기는 서보(450) 상에 탑재되고, 구동기(460)에 의해 x-방향을 따라 롤 내로 및/또는 롤을 따라 움직일 수 있다. 일반적으로, 절단기(440)는 롤 및 중심축(420)에 수직으로 탑재되고, 롤이 중심축을 중심으로 회전하는 동안 롤(410)의 각인가능 물질 내로 구동된다. 절단기는 이어서 나사 절단부(thread cut)를 생성하기 위해 중심축에 평행으로 구동된다. 이와 동시에 절단기(440)는 미세복제될 때 미세구조물(360)이 얻어지는 특징부를 롤에 생성하기 위해 고주파에서 낮은 변위로 작동될 수 있다.

서보(450)는 FTS(fast tool servo)이고, 절단기(440)의 위치를 빠르게 조정하는 고체 상태 압전 (PZT) 소자 - 종종 PZT 적층물이라고 함 - 를 포함한다. FTS(450)는 x-방향, y-방향 및/또는 z-방향에서 또는 비축 방향에서 절단기(440)의 아주 정밀한 고속 움직임을 가능하게 해준다. 서보(450)는 휴지 위치(rest position)에 대한 제어된 움직임을 생성할 수 있는 임의의 고품질 변위 서보일 수 있다. 어떤 경우에, 서보(450)는 약 0.1 마이크로미터 또는 더 나은 분해능으로 0 내지 약 20 마이크로미터 범위의 변위를 신뢰성있게 반복적으로 제공할 수 있다.

구동기(460)는 중심축(420)에 평행한 x-방향을 따라 절단기(440)를 움직일 수 있다. 어떤 경우에, 구동기(1060)의 변위 분해능은 약 0.1 마이크로미터보다 더 낫거나, 약 0.01 마이크로미터보다 더 낫다. 미세구조체(360)의 최종 형상을 정밀하게 제어하기 위하여 구동기(430)에 의해 발생되는 회전 운동은 구동기(460)에 의해 발생되는 병진 운동과 동기화된다.

롤(410)의 각인가능 물질은 절단기(440)에 의해 각인될 수 있는 임의의 물질일 수 있다. 예시적인 롤 물질은 구리와 같은 금속, 다양한 중합체, 및 다양한 유리 물질을 포함한다.

절단기(440)는 임의의 유형의 절단기일 수 있고, 응용에 바람직할 수 있는 임의의 형상을 가질 수 있다. 예를 들어, 도 5a는 반경 "R"을 갖는 아크-형상 절단 팁(515)을 가지는 절단기(510)의 개략 측면도이다. 어떤 경우에, 절단 팁(515)의 반경 R은 적어도 약 100 마이크로미터, 또는 적어도 약 150 마이크로미터, 또는 적어도 약 200 마이크로미터, 또는 적어도 약 300 마이크로미터, 또는 적어도 약 400 마이크로미터, 또는 적어도 약 500 마이크로미터, 또는 적어도 약 1000 마이크로미터, 또는 적어도 약 1500 마이크로미터, 또는 적어도 약 2000 마이크로미터, 또는 적어도 약 2500 마이크로미터, 또는 적어도 약 3000 마이크로미터이다.

다른 일례로서, 도 5b는 정각 β를 갖는 V자형 절단 팁(525)을 가지는 절단기(520)의 개략 측면도이다. 어떤 경우에, 절단 팁(525)의 정각 β는 적어도 약 100도, 또는 적어도 약 110도, 또는 적어도 약 120도, 또는 적어도 약 130도, 또는 적어도 약 140도, 또는 적어도 약 150도, 또는 적어도 약 160도, 또는 적어도 약 170도이다. 또 다른 일례로서, 도 5c는 구분적으로 선형인 절단 팁(535)을 가지는 절단기(530)의 개략 측면도이고, 도 5d는 곡선 절단 팁(545)을 가지는 절단기(540)의 개략 측면도이다.

다시 도 4를 참조하면, 롤 물질을 절단하는 동안 중심축(420)을 따른 롤(410)의 회전 및 x-방향을 따른 절단기(440)의 움직임은 중심축을 따라 피치 P₁을 가지는 나사 경로를 롤 주변에 정의한다. 절단기가 롤 물질을 절단하기 위해 롤 표면에 수직인 방향을 따라 움직일 때, 절단기가 왔다갔다 움직이거나 돌진함에 따라 절단기에 의해 절단된 물질의 폭이 변한다. 예를 들어, 도 5a를 참조하면, 절단기에 의한 최대 침투 깊이는 절단기에 의해 절단된 최대 폭 P₂에 대응한다.

광학 필름(300)의 프리즘 층(330)은 도 4와 관련하여 기술된 공정과 유사한 공정을 사용하여 제조될 수 있다. 무광택 층(340) 및 프리즘 층(330)을, 각각, 제조하기 위해 개별적인 도구 - 즉, 무광택 도구 및 프리즘 도구 - 가 생성될 수 있다. 도구의 제조 후에, 무광택 도구 및 프리즘 도구는 기층(370)을 기판으로 사용하여 광학 필름을 형성하는 데 사용될 수 있다. 제1 패스에서, 무광택 층(340)을 형성하는 무광택 도구를 사용하여 기층(370)의 주 표면(374)이 형성될 수 있다. 제2 패스에서, 기층(370)의 반대쪽에 있는 주 표면(342)이 프리즘 도구를 사용하여 형성될 수 있다.

도 6 내지 도 8은 도 4와 관련하여 기술된 공정을 사용하여 제조될 수 있는 무광택 표면 패턴의 현미경 사진이다. 도 6a 내지6c는 3개의 상이한 배율로 나타낸 샘플의 평면도 SEM(scanning electron micrograph)이다. 도 6a 내지 도 6c의 샘플은 절단기(520)와 유사한 절단기를 사용하여 제조되었고, 여기서 절단 팁(525)의 정각은 약 176도였다. 샘플은 기하학적으로 대칭이었다. 공초점 현미경 검사법을 사용하여, 미세구조물의 평균 높이가 약 2.67 마이크로미터인 것으로 측정되었다.

도 7a 내지 7c는 3개의 상이한 배율로 나타낸 샘플의 평면도 SEM이다. 샘플은 절단기(510)와 유사한 절단기를 사용하여 제조되었고, 여기서 절단 팁(515)의 반경은 약 480 마이크로미터였다. 샘플은 기하학적으로 대칭이었다. 공초점 현미경 검사법을 사용하여, 미세구조물의 평균 높이가 약 2.56 마이크로미터인 것으로 측정되었다.

도 8a 내지 8c는 3개의 상이한 배율로 나타낸 샘플의 평면도 SEM이다. 샘플은 절단기(510)와 유사한 절단기를 사용하여 제조되었고, 여기서 절단 팁(515)의 반경은 약 3300 마이크로미터였다. 샘플은 기하학적으로 비대칭이었다. 공초점 현미경 검사법을 사용하여, 미세구조물의 평균 높이가 약 1.46 마이크로미터인 것으로 측정되었다.

무광택 층(340)을 형성하는 대안의 공정은 패턴화된 도구를 필요로 하지 않는다. 한가지 이러한 공정의 일례는 공동 소유의 미국 특허 공개 제2009/0029054호(참조 문헌으로서 앞서 본 명세서에 포함되었음)에 기술되어 있다. 이 공정에서, 코팅가능 물질의 점도를 제1 또는 초기 점도로부터 제2 점도로 변경하기 위해 기판 상에 코팅된 물질이 처리된다. 코팅가능 물질의 점도가 제2 점도에 있으면, 물질은 이어서 그 위에 무광택 마감을 하기 위해 면측 압력(face-side pressure)을 받는다. 그의 무광택 마감에 의해, 코팅가능 물질은 선택적으로 추가로 경질화(harden), 경화(cure) 또는 고형화(solidify)될 수 있다.

도 9a는 무광택 층(340)을 제조할 수 있는 시스템의 도면이다. 비코팅된 기판(922) - 예컨대, 기층(370) - 은 비코팅된 상태로 제1 스테이션(924)으로 이송되지만, 적어도 하나의 표면 상에서 기판이 프라임(prime)되어 있을 수 있다. 기판은 백업 롤(back-up roll)(926) 및 아이들 롤(idle roll)(932)에 의해 제1 스테이션(924)으로 이동된다. 스테이션(924)에서, 코팅된 기판(930)을 생성하기 위해 코팅가능 물질이 코팅 메커니즘(928)에 의해 비코팅된 기판(922) 상에 증착된다. 도 9a에 도시된 실시 형태에서, 기판(922)은 연속적인 또는 절단되지 않은 물질로 도시되어 있다. 다른 실시 형태에서, 기판은 불연속적인 형태로 또는 개별적인 시편(예컨대, 특정의 응용에 적합하도록 사전 절단되거나 사전 제조되어 있음)으로 제공될 수 있다.

코팅 메커니즘(926)에 의한 증착 시에, 코팅가능 물질은 제2 점도보다 낮은 초기 점도를 가질 수 있다. 대안적으로, 코팅가능 물질은 제2 점도보다 높은 초기 점도를 가질 수 있다.

본 발명의 실시 형태에서, 코팅가능 물질은, 기판에 처음으로 도포될 때, 전형적으로 액체 또는 겔 상태이고, 기판(922)의 주 표면 상에 액체 또는 겔 상태의 물질 필름을 형성하기 위해 유동가능하거나 확산가능하다. 코팅가능 물질은 적어도 하나의 경화성 성분을 포함할 수 있다.

일부 실시 형태에서, 코팅가능 물질은 적어도 하나의 용매를 포함하고, 코팅가능 물질은 기판(922)에 직접 도포된다. 다른 실시 형태에서, 코팅가능 물질은 무용매(예컨대, 100% 고형물)일 수 있고, 코팅가능 물질은 롤러에 도포된 다음에 기판(922)으로 전사될 수 있다.

제2 스테이션(934)은 코팅가능 물질의 점도를 변화시키는 수단을 제공한다. 도시된 실시 형태에서, 제2 스테이션(934)은 코팅가능 물질의 점도를 증가시킨다. 코팅가능 물질이 적어도 하나의 용매를 포함하는 실시 형태에서, 코팅가능 물질은 오븐, 가열 요소 등과 같은 열원에 노출될 수 있으며, 여기서 코팅가능 물질은 용매를 제거하고 및/또는 코팅가능 물질 내의 적어도 하나의 성분을 부분적으로 경화시키기에 충분한 높은 온도를 거친다. 제2 스테이션(934)에 있는 동안, 본 명세서에 기술된 바와 같이, 코팅가능 물질이 추가의 처리를 견디도록 충분히 경질화, 건조 및/또는 경화되게 하기 위해 코팅가능 물질의 점도가 제2 또는 보다 높은 점도로 상승된다. 제2 스테이션(934)의 정확한 온도는 코팅가능 물질의 조성, 코팅가능 물질이 제2 스테이션(934)을 빠져나간 후의 코팅가능 물질의 원하는 점도, 및 코팅된 기판이 스테이션(934) 내에서 머무르는 시간의 양에 부분적으로 의존할 것이다.

대안적으로, 스테이션(934)에서, 코팅가능 물질의 점도는, 예컨대, 코팅가능 물질을 연화시키기 위해 열을 가하는 것에 의해, 초기 점도로부터 감소될 수 있거나, 예컨대, 코팅가능 물질을 냉각시키는 것에 의해 및/또는 코팅가능 물질의 부분적인 경화에 의해, 초기 점도로부터 증가될 수 있다. 일부 구현예에서, 코팅가능 물질은 타당한 제2 점도를 달성하기 위해 가열 또는 냉각을 필요로 하지 않을 수 있다. 어떤 코팅가능 물질의 경우, 본 명세서에 기술된 바와 같이, 코팅가능 물질을 경화 또는 연화시켜 추가의 처리를 가능하게 해주는 데는 코팅된 기판(930)을 주변 조건 하에서 공기에 노출시키는 것으로 충분할 수 있다.

기판(930)이 제2 스테이션(934)으로부터 제3 스테이션(936)으로 이송되고, 제3 스테이션에서 기판(930) 상의 코팅가능 물질이 하나 이상의 면측 롤러(938)와 직접 접촉한다. 도 9a에 도시된 실시 형태에서, 면측 롤러는 3개의 롤러(938a, 938b, 938c)를 포함한다. 더 많거나 더 적은 수의 면측 롤러가 사용될 수 있다. 코팅된 기판(930)은 기판(930) 상에 무광택 마감(matte finish)을 생성하기 위해 면측 롤러(938) 주위에서 충분한 장력으로 유지된다.

면측 롤러의 표면 상의 패턴을 코팅가능 물질에 각인하는 것에 의해 무광택 표면이 형성되지 않는다. 오히려, 코팅가능 물질과 면측 롤러의 눈에 띄지 않는 표면 사이의 상호작용에 의해 무광택 표면이 형성되는 것으로 생각된다. 이 공정은 도 9b에 나타내어져 있다. 코팅가능 물질(980)은 코팅가능 물질의 일부분이 면측 롤러(938)의 표면에 부착하도록 충분한 점착성을 가진다. 공정의 이 시점에서, 코팅가능 물질(980)은 코팅가능 물질(980)이 응집력이 있고 유동에 저항성이 있으며(resistant to flow), 면측 롤러(938)에 대해 압착될 때 면측 롤러(938)의 표면으로 과도하게 전사되거나 변형되지 않도록 제2 스테이션(934)에서의 조건을 거쳤다. 그렇지만, 코팅가능 물질의 가장 바깥쪽 층은 면측 롤러(938)에 부착한 다음에 그로부터 분리(release)되어, 확대하면 상세히 볼 수 있는 무광택 표면(982)을 기판(930) 상에 생성한다.

어떤 이론에도 구속되지 싶지 않지만, 일부 실시 형태에서, 소량의 코팅가능 물질이 처음에 면측 롤러(938)에 부착될 수 있다. 정상 상태 조건이 통상적으로 달성되는데, 그 이유는 코팅가능 물질이 면측 롤러에 의해 픽업되는 것과 거의 동일한 속도로 코팅가능 물질이 면측 롤러(938)로부터 계속하여 분리되기 때문이다. 환언하면, 코팅된 기판(930)의 들어오는 세그먼트는 코팅된 기판의 업스트림 세그먼트로부터의 동일한 코팅가능 물질로 사전-젖음되어 있는 면측 롤러와 접촉하는 코팅가능 물질을 포함하고 있다. 코팅가능 물질의 세그먼트가 면측 롤러와 접촉할 때, 이 세그먼트는 롤러 상에 이미 증착되어 있는 코팅가능 물질의 일부를 픽업한다. 코팅된 기판의 동일한 세그먼트가 면측 롤로부터 이탈될 때, 코팅가능 물질의 일부가 면측 롤러 상에 남아 있으면서 기판 상에 남아 있는 코팅가능 물질의 순량(net amount)이, 평균적으로, 면측 롤에 들어오는 코팅가능 물질의 양과 같도록, 코팅된 기판 상의 코팅가능 물질의 표면층의 일부분이 떨어져 나간다.

코팅된 기판(930)은 무광택 표면 마감이 면측 롤러(938)에 의해 표면에 부여된 상태로 제3 스테이션(936)을 빠져나간다. 선택적인 제4 스테이션(940)은 코팅가능 물질을 추가로 경질화 또는 경화시키는 데 사용될 수 있다. 제4 스테이션(940)은 코팅가능 물질이 이러한 처리를 필요로 하지 않을지도 모른다는 점에서 선택적이다.

무광택 표면의 형성 이전에 또는 그 이후에, 프리즘 필름이 기층 상에 미세복제될 수 있다.

도 10a 및 도 10b는 도 9와 관련하여 기술된 면측 롤러 공정을 사용하여 제조된 무광택 표면의 일부분의 현미경 사진 이미지이다. 이 특정의 필름에서, 기판 상부에 있는 무광택 층은 약 2 마이크로미터의 두께를 가진다. 도 10a는 50배의 배율에서이고, 도 10b는 125배의 배율에서의 동일한 표면이다.

도 11은, 예를 들어, 전술한 공정을 사용하여 형성될 수 있는 무광택 층(340)(도 3)의 일부분의 개략 측면도이다. 상세하게는, 도 11은 주 표면(342)과 마주하는 주 표면(320) 내의 미세구조물(360)을 나타낸 것이다. 미세구조물(360)은 미세구조물의 표면에 걸쳐 기울기 분포를 가진다. 예를 들어, 미세구조물은 위치(1110)에서 기울기 θ를 갖고, 여기서 θ는 위치(1110)에서 미세구조물 표면에 수직인(α=90 도인) 법선(1120)과 동일한 위치에서 미세구조물 표면에 접하는 접선(1530) 사이의 각도이다. 기울기 θ는 또한 접선(1130)과 무광택 층의 주 표면(342) 사이의 각도이다.

무광택 층(340)의 광학 탁도 및 투명도는, 예를 들어, TracePro(미국 메사추세츠주 리틀턴 소재의 Lambda Research Corp.로부터 입수가능함) 등의 구매가능한 광선 추적 프로그램과 유사한 프로그램을 사용하여 계산되었다. 계산을 수행함에 있어서, 각각의 미세구조물이 HWHM(half width at half maximum)이 σ인 가우시안 기울기 분포를 가지는 것으로 가정되었다. 또한, 무광택 층의 굴절률이 1.5인 것으로 가정되었다. 계산된 결과가 도 14 및 도 15에 나타내어져 있다. 도 14는 9개의 상이한 σ 값에 대해 계산된 광학 탁도 대 표면 분율 "f"이고, 여기서 f는 미세구조물(360)에 의해 덮여 있는 주 표면(320)의 퍼센트 영역이다. 도 15는 계산된 광학 투명도 대 f이다. 미세구조물(360)이, 휘도를 감소시키지 않거나 거의 감소시키지 않고, 물리적 및/또는 광학 결함을 효과적으로 감출 때와 같은 어떤 경우에, 복수의 미세구조물(360)은 제2 주 표면(320)의 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 75%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 85%, 또는 적어도 약 90%, 또는 적어도 약 95%를 덮고 있다. 미세구조물이 가우시안 또는 정규 기울기 분포를 가질 때와 같은 어떤 경우에, 분포의 HWHM σ는 약 4.5도 이하, 또는 약 4도 이하, 또는 약 3.5도 이하, 또는 약 3도 이하, 또는 약 2.5도 이하, 또는 약 2도 이하이다.

앞서 개시된 예시적인 계산에서, 미세구조물(360)이 HWHM이 σ인 가우시안 기울기 분포를 가지는 것으로 가정되었다. 일반적으로, 미세구조물은 응용에서 바람직할 수 있는 임의의 분포를 가질 수 있다. 예를 들어, 미세구조물이 구형 세그먼트(spherical segment)일 때와 같은 어떤 경우에, 미세구조물은 2개의 한계각 사이에서 균일한 분포를 가질 수 있다. 다른 예시적인 기울기 분포는 로렌쯔 분포, 포물선 분포, 및 상이한(가우시안 등) 분포의 조합을 포함한다. 예를 들어, 어떤 경우에, 미세구조물은 보다 큰 HWHM σ₂를 갖는 제2 가우시안 분포에 부가되거나 그와 결합된 보다 작은 HWHM σ₁을 갖는 제1 가우시안 분포를 가질 수 있다. 어떤 경우에, 미세구조물은 비대칭 기울기 분포를 가질 수 있다. 어떤 경우에, 미세구조물은 대칭 분포를 가질 수 있다.

도 12는 기층(370)과 유사한 기판(1250) 상에 배치된 무광택 층(1260)을 포함하는 광학 필름(1200)의 개략 측면도이다. 무광택 층(1260)은 기판(1250)에 부착된 제1 주 표면(1210), 제1 주 표면의 반대쪽에 있는 제2 주 표면(1220), 및 결합제(1240)에 분산된 복수의 입자(1230)를 포함하고 있다. 제2 주 표면(1220)은 복수의 미세구조물(1270)을 포함하고 있다. 미세구조물(1270)의 상당 부분 - 적어도 약 50%, 또는 적어도 약 60%, 또는 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 90% 등 - 은 입자(1230) 상에 배치되고 주로 입자(1230)로 인해 형성된다. 환언하면, 입자(1230)는 미세구조물(1270)의 형성의 주원인이다. 이러한 경우에, 입자(1230)는 약 0.25 마이크로미터 초과, 또는 약 0.5 마이크로미터 초과, 또는 약 0.75 마이크로미터 초과, 또는 약 1 마이크로미터 초과, 또는 약 1.25 마이크로미터 초과, 또는 1.5 마이크로미터 초과, 또는 약 1.75 마이크로미터 초과, 또는 약 2 마이크로미터 초과인 평균 입자 크기를 가진다.

어떤 경우에, 무광택 층(340)은 무광택 층(1260)과 유사할 수 있고, 제2 주 표면(320) 내의 미세구조물(360)의 형성의 주원인인 복수의 입자를 포함할 수 있다. 입자(1230)는 응용에 바람직할 수 있는 임의의 유형의 입자일 수 있다. 예를 들어, 입자(1230)는 폴리메틸 메타크릴레이트(PMMA), 폴리스티렌(PS), 또는 응용에 바람직할 수 있는 임의의 다른 물질로 이루어져 있을 수 있다. 일반적으로, 입자(1230)의 굴절률은 결합제(1240)의 굴절률과 상이하지만, 어떤 경우에, 이들이 동일한 굴절률을 가질 수 있다. 예를 들어, 입자(1230)는 약 1.35, 또는 약 1.48, 또는 약 1.49, 또는 약 1.50의 굴절률을 가질 수 있고, 결합제(1240)는 약 1.48, 또는 약 1.49, 또는 약 1.50의 굴절률을 가질 수 있다.

어떤 경우에, 무광택 층(340)은 입자를 포함하지 않는다. 어떤 경우에, 무광택 층(340)은 입자를 포함하지만, 입자가 미세구조물(360)의 형성의 주원인은 아니다. 예를 들어, 도 13은 기판(370)과 유사한 기판(1350) 상에 배치된 무광택 층(340)과 유사한 무광택 층(1360)을 포함하는 광학 필름(1300)의 개략 측면도이다. 무광택 층(1360)은 기판(1350)에 부착된 제1 주 표면(1310), 제1 주 표면의 반대쪽에 있는 제2 주 표면(1320), 및 결합제(1340)에 분산된 복수의 입자(1330)를 포함하고 있다. 제2 주 표면(1370)은 복수의 미세구조물(1370)을 포함하고 있다. 비록 무광택 층(1360)이 입자(1330)를 포함하지만, 입자가 미세구조물(1370)의 형성의 주원인은 아니다.

예를 들어, 어떤 경우에, 입자는 미세구조물의 평균 크기보다 훨씬 더 작다. 이러한 경우에, 미세구조물은, 예를 들어, 구조화된 도구 또는 면측 롤러를 미세복제함으로써 형성될 수 있다. 이러한 경우에, 입자(1330)의 평균 크기는 약 0.5 마이크로미터 미만, 또는 약 0.4 마이크로미터 미만, 또는 약 0.3 마이크로미터 미만, 또는 약 0.2 마이크로미터 미만, 또는 약 0.1 마이크로미터 미만이다. 이러한 경우에, 미세구조물(970)의 상당 부분 - 적어도 약 50%, 또는 적어도 약 60%, 또는 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 90% 등 -이 약 0.5 마이크로미터 초과, 또는 약 0.75 마이크로미터 초과, 또는 약 1 마이크로미터 초과, 또는 약 1.25 마이크로미터 초과, 또는 약 1.5 마이크로미터 초과, 또는 약 1.75 마이크로미터 초과, 또는 약 2 마이크로미터 초과인 평균 크기를 가지는 입자 상에 배치되어 있지 않다. 어떤 경우에, 입자(1330)의 평균 크기는 미세구조물(1330)의 평균 크기보다 적어도 약 2배, 또는 적어도 약 3배, 또는 적어도 약 4배, 또는 적어도 약 5배, 또는 적어도 약 6배, 또는 적어도 약 7배, 또는 적어도 약 8배, 또는 적어도 약 9배, 또는 적어도 약 10배만큼 더 작다.

어떤 경우에, 무광택 층(1360)이 입자(1330)를 포함하는 경우, 무광택 층(1360)은 입자의 평균 크기보다 적어도 약 0.5 마이크로미터, 또는 적어도 약 1 마이크로미터, 또는 적어도 약 1.5 마이크로미터, 또는 적어도 약 2 마이크로미터, 또는 적어도 약 2.5 마이크로미터, 또는 적어도 약 3 마이크로미터만큼 더 큰 평균 두께 "t"를 가진다. 어떤 경우에, 무광택 층이 복수의 입자를 포함하는 경우, 무광택 층의 평균 두께는 입자의 평균 두께보다 적어도 약 2배, 또는 적어도 약 3배, 또는 적어도 약 4배, 또는 적어도 약 5배, 또는 적어도 약 6배, 또는 적어도 약 7배, 또는 적어도 약 8배, 또는 적어도 약 9배, 또는 적어도 약 10배만큼 더 크다.

다시 도 3을 참조하면, 어떤 경우에, 광 방향 전환 필름(300)은, 층의 굴절률을 증가시키기 위해, 프리즘 층(330), 기층(370), 또는 무광택 층(340)과 같은 층들 중 적어도 일부에 작은 입자를 가진다. 예를 들어, 광 방향 전환 필름(300) 내의 하나 이상의 층은, 예를 들어, 미국 특허 제7,074,463호(Jones 등) 및 미국 특허 공개 제2006/0210726호에서 논의된 실리카 또는 지르코니아 나노입자와 같은 무기 나노입자를 포함할 수 있다. 어떤 경우에, 광 방향 전환 필름(300)은 약 2 마이크로미터, 또는 약 1.5 마이크로미터, 또는 약 1 마이크로미터, 또는 약 0.75 마이크로미터, 또는 약 0.5 마이크로미터, 또는 약 0.25 마이크로미터, 또는 약 0.2 마이크로미터, 또는 약 0.15 마이크로미터, 또는 약 0.1 마이크로미터 초과의 평균 크기를 가지는 임의의 입자를 포함하지 않는다.

다수의 샘플의 표면은 AFM(atomic force microscopy)을 사용하여 약 200 마이크로미터 x 약 200 마이크로미터의 영역에 걸쳐 특성 파악되었다. 도 16은 샘플 A라고 표시된 하나의 이러한 샘플의 예시적인 AFM 표면 프로파일이다. 이 샘플은 약 94.9%의 광 투과율, 약 1.73%의 광학 탁도, 및 약 79.5%의 광학 투명도를 가졌다. 도 17a 및 도 17b는, 각각, x-방향 및 y-방향을 따라 샘플 A의 예시적인 단면 프로파일이다. 도 18은 샘플 A에 대한 x-방향 및 y-방향을 따른 퍼센트 기울기 분포를 나타낸 것이다. 각자의 x-방향 및 y-방향을 따른 기울기 S_x 및 S_y가 이하의 2개의 수식으로부터 계산되었다:

(1)

(2)

여기서, H(x,y)는 표면 프로파일이다. 기울기 S_x 및 S_y는 0.5도의 기울기 빈 크기를 사용하여 계산되었다. 도 18으로부터 명백한 바와 같이, 샘플 A는 x-방향 및 y-방향 모두를 따라 대칭 기울기 분포를 가졌다. 샘플 A는 x-방향을 따라 보다 넓은 기울기 분포를 가졌고, y-방향을 따라 보다 좁은 기울기 분포를 가졌다. 도 19는 샘플 A에 대한 분석된 표면에 걸친 퍼센트 기울기 분포를 나타낸 것이다. 도 19로부터 명백한 바와 같이, 샘플은 약 4.7 마이크로미터인 샘플의 피크 높이에 대해 실질적으로 대칭인 높이 분포를 가졌다. 도 20은 샘플 A에 대한 퍼센트 기울기 크기를 나타낸 것이고, 기울기 크기 S_m은 이하의 수식으로부터 계산되었다:

(3)

도 21은 샘플 A에 대한 퍼센트 누적 기울기 분포 S_c(θ)를 나타낸 것이고, 여기서 S_c(θ)는 이하의 수식으로부터 계산되었다:

(4)

도 21로부터 명백한 바와 같이, 샘플 A의 표면의 약 100%가 약 3.5도 미만의 기울기 크기를 가졌다. 게다가, 분석된 표면의 약 52%는 약 1도 미만의 기울기 크기를 가졌고, 분석된 표면의 약 72%는 약 1.5도 미만의 기울기 크기를 가졌다.

샘플 A와 유사한 3가지 부가의 샘플(B, C 및 D로 표시되어 있음)이 이전에 개략적으로 기술된 바와 같이 특성 파악되었다. 4개의 샘플 A 내지 샘플 D 모두는 미세구조물(360)과 유사한 미세구조물을 가졌고, 절단 도구 시스템(400)과 유사한 절단 도구 시스템을 사용하여, 절단기(520)와 유사한 절단기를 사용해 패턴화된 롤을 제조하고 이어서 패턴화된 도구를 미세복제하여 무광택 층(340)과 유사한 무광택 층을 제조함으로써 제조되었다. 샘플 B는 약 95.2%의 광 투과율, 약 3.28%의 광학 탁도, 및 약 78%의 광학 투명도를 가졌고, 샘플 C는 약 94.9%의 광 투과율, 약 2.12%의 광학 탁도, 및 약 86.1%의 광학 투명도를 가졌으며, 샘플 D는 약 94.6%의 광 투과율, 약 1.71%의 광학 탁도, 및 약 84.8%의 광학 투명도를 가졌다. 그에 부가하여, 6개의 비교 샘플(R1 내지 R6로 표시되어 있음)이 특성 파악되었다. 샘플 R1 내지 샘플 R3은 무광택 층(1260)과 유사하였고, 결합제에 분산된 복수의 큰 비드를 포함하였으며, 여기서 무광택 표면은 주로 비드로 인해 형성되었다. 샘플 R1은 약 17.8%의 광학 탁도 및 약 48.5%의 광학 투명도를 가졌고, 샘플 R2(Dai Nippon Printing Co., Ltd.로부터 입수가능함)는 약 32.2%의 광학 탁도 및 약 67.2%의 광학 투명도를 가졌으며, 샘플 R3는 약 4.7%의 광학 탁도 및 약 73.3%의 광학 투명도를 가졌다. 샘플 R4는 엠보싱된 폴리카보네이트 필름(일본 오사카 소재의 Keiwa Inc.로부터 입수가능함)이었고, 약 23.2%의 광학 탁도 및 약 39.5%의 광학 투명도를 가졌다.

도 22는 샘플 A 내지 샘플 D와 샘플 R1 내지 샘플 R4에 대한 퍼센트 누적 기울기 분포 S_c(θ)이다. 샘플 A 내지 샘플 D 각각은 무광택 층(340)과 유사하였고, 구조화된 주 표면(320)과 유사한 구조화된 주 표면을 포함하였다. 도 22로부터 명백한 바와 같이, 샘플 A 내지 샘플 D의 전부 또는 적어도 일부의 구조화된 주 표면의 약 7%, 또는 약 6.5%, 또는 약 6%, 또는 약 5.5%, 또는 약 5%, 또는 약 4.5%, 또는 약 4%, 또는 약 3.5%, 또는 약 3% 이하가 약 3.5도 초과의 기울기 크기를 가졌다. 게다가, 샘플 A 내지 샘플 D의 전부 또는 적어도 일부의 구조화된 주 표면의 약 4%, 또는 약 3.5%, 또는 약 3%, 또는 약 2.5%, 또는 약 2%, 또는 약 1.5%, 또는 약 1%, 또는 약 0.9%, 또는 약 0.8% 이하가 약 5도 초과의 누적 기울기 크기를 가졌다.

다시 도 3을 참조하면, 액정 디스플레이와 같은 광학 시스템에서 사용될 때, 광학 필름(300)은 디스플레이의 광학 및/또는 물리적 결함을 감추거나 마스킹하고 디스플레이의 휘도를 향상시킬 수 있다. 어떤 경우에, 광 방향 전환 필름(300)의 평균 유효 투과율이 평탄한 제2 주 표면(320)을 갖는 것을 제외하고는 광 방향 전환 필름(300)과 동일한 구조를 가지는 광 방향 전환 필름과 비교하여 약 2% 이하만큼, 또는 약 1.5% 이하만큼, 또는 약 1% 이하만큼, 또는 약 0.75% 이하만큼, 또는 약 0.5% 이하만큼 더 작다. 어떤 경우에, 광 방향 전환 필름의 평균 유효 투과율이 평탄한 제2 주 표면을 갖는 것을 제외하고는 동일한 구조를 가지는 광 방향 전환 필름과 비교하여 약 0.2%, 또는 약 0.3%, 또는 약 0.4%, 또는 약 0.5%, 또는 1%, 또는 약 1.5%, 또는 약 2% 이상만큼 더 크다. 일례로서, 광 방향 전환 필름(300)과 유사한 광 방향 전환 필름이 제조되었다. 선형 프리즘(350)은 약 24 마이크로미터의 피치, 약 90도의 정각(152), 및 약 1.567의 굴절률을 가졌다. 제2 주 표면(320)은 약 1.5%의 광학 탁도 및 약 83%의 광학 투명도를 가졌다. 광 방향 전환 필름은 약 1.803의 평균 유효 투과율을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 제2 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조(물질 조성을 포함함)를 가지는 유사한 광 방향 전환 필름이 약 1.813의 평균 유효 투과율을 가졌다.

다른 일례로서, 광 방향 전환 필름(300)과 유사한 광 방향 전환 필름이 제조되었다. 절단기(510)와 유사한 절단기를 사용하여 절단된 도구로부터의 복제에 의해 미세구조물(360)이 제조되었으며, 여기서 절단 팁(515)의 반경은 약 3300 마이크로미터였다. 선형 프리즘(350)은 약 24 마이크로미터의 피치, 약 90도의 정각(152), 및 약 1.567의 굴절률을 가졌다. 제2 주 표면(320)은 약 1.71%의 광학 탁도 및 약 84.8%의 광학 투명도를 가졌다. 광 방향 전환 필름은 약 1.633의 평균 유효 투과율을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 제2 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조(물질 조성을 포함함)를 가지는 유사한 광 방향 전환 필름이 약 1.626의 평균 유효 투과율을 가졌다. 따라서, 구조화된 제2 주 표면(320)은 평균 유효 투과율을 약 0.43%만큼 증가시킴으로써 부가의 이득을 제공하였다.

다른 일례로서, 광 방향 전환 필름(300)과 유사한 광 방향 전환 필름이 제조되었다. 절단기(510)와 유사한 절단기를 사용하여 절단된 도구로부터의 복제에 의해 미세구조물(360)이 제조되었으며, 여기서 절단 팁(515)의 반경은 약 4400 마이크로미터였다. 선형 프리즘(350)은 약 24 마이크로미터의 피치, 약 90도의 정각(152), 및 약 1.567의 굴절률을 가졌다. 제2 주 표면(320)은 약 1.49%의 광학 탁도 및 약 82.7%의 광학 투명도를 가졌다. 광 방향 전환 필름은 약 1.583의 평균 유효 투과율을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 제2 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조(물질 조성을 포함함)를 가지는 유사한 광 방향 전환 필름이 약 1.578의 평균 유효 투과율을 가졌다. 따라서, 구조화된 제2 주 표면(320)은 평균 유효 투과율을 약 0.32%만큼 증가시킴으로써 부가의 이득을 제공하였다.

또 다른 일례로서, 광 방향 전환 필름(300)과 유사한 광 방향 전환 필름이 제조되었다. 절단기(510)와 유사한 절단기를 사용하여 절단된 도구로부터의 복제에 의해 미세구조물(360)이 제조되었으며, 여기서 절단 팁(515)의 반경은 약 3300 마이크로미터였다. 선형 프리즘(150)은 약 24 마이크로미터의 피치, 약 90도의 정각(152), 및 약 1.567의 굴절률을 가졌다. 제2 주 표면(120)은 약 1.35%의 광학 탁도 및 약 85.7%의 광학 투명도를 가졌다. 광 방향 전환 필름은 약 1.631의 평균 유효 투과율을 가졌다. 비교를 위해, 평탄한 제2 주 표면을 포함하는 것을 제외하고는 동일한 구조(물질 조성을 포함함)를 가지는 유사한 광 방향 전환 필름이 약 1.593의 평균 유효 투과율을 가졌다. 따라서, 구조화된 제2 주 표면(320)은 평균 유효 투과율을 약 2.38%만큼 증가시킴으로써 부가의 이득을 제공하였다.

유효 투과율(ET)은 광학 시스템(2300) - 그의 개략 측면도가 도 23에 도시되어 있음 - 을 사용하여 측정될 수 있다. 광학 시스템(2300)은 광축(2350)에 중심을 두고 있고, 방출 또는 출구 표면(2312)을 통해 람베르시안 광(2315)을 방출하는 중공 람베르시안 광 박스, 선형 광 흡수 편광기(2320), 및 광 검출기(2330)를 포함하고 있다. 광 박스(2310)는 광섬유(2370)를 통해 광 박스의 내부(2380)에 연결되어 있는 안정화된 광대역 광원(2360)에 의해 조명된다. 테스트 샘플 - 그의 ET가 광학 시스템에 의해 측정됨 - 이 광 박스와 흡수 선형 편광기 사이의 위치(2340)에 배치된다.

선형 프리즘(350)이 광 검출기와 마주하고 미세구조물(360)이 광 박스와 마주한 상태에서 광 방향 전환 필름을 위치(2340)에 배치함으로써 광 방향 전환 필름(300)의 ET가 측정될 수 있다. 그 다음에, 스펙트럼 가중된(spectrally weighted) 축방향 휘도 I₁[광축(2350)을 따른 휘도]가 선형 흡수 편광기를 통해 광 검출기에 의해 측정된다. 그 다음에, 광 방향 전환 필름이 제거되고, 광 방향 전환 필름이 위치(240)에 배치되지 않은 상태에서 스펙트럼 가중된 휘도 I₂가 측정된다. ET는 비 I₁/I₂이다. ET0는 선형 프리즘(350)이 선형 흡수 편광기(220)의 편광축에 평행인 방향을 따라 뻗어 있을 때의 유효 투과율이고, ET90는 선형 프리즘(350)이 선형 흡수 편광기의 편광축에 수직인 방향을 따라 뻗어 있을 때의 유효 투과율이다. 평균 유효 투과율(ETA)은 ET0와 ET90의 평균이다.

본 명세서에 개시된 유효 투과율 값이 광 검출기(2330)에 대해 SpectraScan™ PR-650 SpectraColorimeter(미국 캘리포니아주 챗스워스 소재의 Photo Research, Inc로부터 입수가능함)를 사용하여 측정되었다. 광 박스(2310)는 약 85%의 총 반사율을 가지는 Teflon 입방체였다.

51.4 ㎜ × 76.6 ㎜의 치수를 갖는 광학 필름 샘플 1A 내지 32A가 제조되고 COF에 대해 테스트되었다. 샘플들이 또한 2개의 필름으로 된 광학 적층물 내에 배열되었고, 65℃/95% 상대 습도에서 72 시간 동안의 환경 테스트 이후에 휨이 있는지 시각적으로 평가되었다. 평균 불균일 지수(average mura index)가 측정되었고, 이하에서 표 1에 나타낸 바와 같이, 이들 샘플 중 일부에 대해 불균일 점수가 결정되었다.

COF 값이 IMASS 2000(미국 매사추세츠주 어코드 소재의 Imass, Inc.로부터 입수가능함)을 사용해 다음과 같은 테스트 파라미터를 사용하여 측정되었다: 속도 2.5 ㎜/sec, 지속기간 10 sec, 슬레드 질량(sled mass) 200g. 시각적 휨 테스트에 대한 테스트 장치(2400)의 측면도가 도 24에 나타내어져 있다. 광학 필름 적층물은 플렉시글라스 플레이트(Plexiglas plate)(2402) 내에 기계 가공되어 있는 웰(2401)에 배치된 확산기 필름(2410)을 포함한다. 두께 T2를 갖는 하부 필름(2420)은 확산기 필름(2410) 상에 배치되었다. 표 1에 "하부 필름 유형"이라고 표시된 열로 나타낸 바와 같이, 다양한 유형의 필름이 하부 필름(2420)으로서 사용되었다. 두께 T2를 갖는 상부 필름(2430)은 림 테이프(rim tape)(2440)에 의해 에지에 구속되어 있다. 유리 커버(2450)가 상부 필름(2430) 위쪽에 배열되었다. 표 1에 "상부 필름 유형"이라고 표시된 열로 나타낸 바와 같이, 다양한 유형의 기판이 상부 필름(2430)에 사용되었다. 테스트된 상부 필름(2430)은 미세복제된 무광택 표면을 포함하거나(표 1에서 '마이크로'라고 표시됨), 무광택 표면을 포함하지 않거나(표 1에서 '없음'이라고 표시됨), 비드있는 무광택 표면을 포함하였다(표 1에서 '비드'라고 표시됨). 무광택 표면(2431)은 하부 필름 쪽에 배향되었다. 무광택 표면(2431)이 존재하는 경우, 무광택 표면 물질에 대한 Tg가 표 1에 나타내어져 있다. COF가 측정되었고, 각각의 샘플에 대해 시각적으로 휨이 평가되었다. 시각적 휨 평가는 환경 테스트 이후의 휨의 모습을, 심한 휨부터 최소 휨까지의 범위에 있는 다양한 정도의 휨을 나타내는 표준 필름 적층물과 비교하는 것을 포함하였다. 테스트 샘플이 테스트 샘플과 표준 필름 적층물의 비교에 기초하여 심한 휨, 중간 휨 또는 최소 휨을 갖는 것으로 평가되었다.

시각적 평가에 부가하여, 표 1에 나타낸 바와 같이, 샘플 필름 적층물 유형들 중 일부에 대해 불균일 점수가 결정되었다. 불균일 점수를 결정하는 데 사용된 테스트 구성(2500)의 측면도가 도 25a에 나타내어져 있다. 테스트 중인 광학 필름 적층물이 무광택 표면(2511)을 갖는 상부 폴리카보네이트 플레이트(2501)와 무광택 표면(2512)을 갖는 하부 폴리카보네이트 플레이트(2502) 사이에 배치되었다. 하부 필름(2540)이 하부 플레이트(2502) 상에 배치되었다. 상부 필름(2530)과 상부 플레이트(2501) 사이에 40 마이크로미터 갭(2550)을 유지하기 위해 스페이서(2520)가 사용되었다. 상부 필름(2539)의 무광택 표면(2531)은 하부 필름(2540) 쪽에 배향되었다. 도 25b에 테스트 구성의 평면도로 나타낸 바와 같이, 폴리카보네이트 플레이트(2501, 2502) 및 스페이서(2520)가 4개의 코너에서 클립(2560)에 의해 압착되었다.

다음과 같은 공정을 사용하여 불균일 점수가 결정되었다: 환경 테스트 이후의 2시간 안정화 기간 후에, 테스트 광학 필름 적층물의 사진 이미지가 극각 20도 및 방위각 1, 45, 90, 135, 180, 225, 270, 315도에서 실내 조명 하에서 촬영되었다. 사진 이미지가 m행 x n열의 매트릭스로서 배열된 다수의 영역으로 분할되었다. 평균 휘도가 각각의 영역에서

로서 계산되었다. 각각의 행을 따라, 각각의 영역과 그 다음의 인접한 영역 사이의 휘도 차이가

= (

)(단, j=2 내지 n임)으로서 계산되었다. 각각의 행에 대해 휘도 차이의 평균이

(단, j=2 내지 n임)으로서 계산되었고, 휘도 차이 평균의 평균이 다음과 같이 계산되었다: 전체 행 평균

(단, i=1 내지 m임).

전체 열 평균 BD는, 이와 유사하게, 열을 따라 인접한 영역들 사이의 휘도 차이, 각각의 열에 대한 평균 휘도 차이, 및 전체 열 평균 BD를 결정함으로써 계산된다. 전체 행 평균 BD 및 전체 열 평균 BD가 합산되어 불균일 지수(MI)를 산출한다. 휨의 시각적 인지에 관련되어 있는 불균일 점수가 다음과 같이 MI에 기초하여 계산된다:

불균일 점수 = ((MI -10.61)/(29.42-10.61)) × 9 + 1.

도 26은 표 1의 샘플 유형에 대한 COF와 시각적 휨 점수 사이의 관계를 나타낸 것이다. 최소 시각적 휨을 나타내는 샘플 유형은 0.589의 평균 COF를 가졌다. 중간 시각적 휨을 나타내는 샘플 유형은 0.689의 평균 COF를 가졌다. 심한 시각적 휨을 나타내는 샘플 유형은 1.479의 평균 COF를 가졌다. 도 27은 표 1의 샘플에 대한 COF와 평균 불균일 점수 사이의 관계를 나타낸 것이다. 이들 샘플에 대해, 심한 휨은 2.5 초과 또는 2.2 초과의 불균일 점수와 연관되어 있었다.

표 2 및 표 3은 65℃/95% 상대 습도에서 72 시간 동안의 환경 테스트 이후에 불균일 점수가 결정되었던 샘플에 대한 테스트 결과를 제공한다. 표 2에 열거된 광학 필름 적층물 샘플 1B 내지 20B는 2가지 유형의 미세복제 패턴을 갖는 미세복제된 무광택 표면을 가지는 다양한 유형의 상부 및 하부 필름을 사용하였다. 샘플 1B 내지 5B는 무광택 패턴 1을 사용하여 제조되었고, 샘플 6B 내지 10B는 무광택 패턴 3을 사용하여 제조되었다. 샘플 1B 내지 10B는 상부 필름(BEFRP3)의 상부 표면 상에 17 피치 선형 프리즘을 사용하였다. 샘플 11B 내지 15B는 상부 필름(BEFRP3)의 상부 표면 상에 17 마이크로미터 피치 선형 프리즘을 사용하는 제1 세트의 제어 샘플이다. 샘플 15B 내지 20B는 상부 필름(BEFRP3)의 상부 표면 상에 24 마이크로미터 피치 선형 프리즘을 사용하는 제2 세트의 제어 샘플이다.

도28a는 표 2에 열거되어 있는 테스트 그룹 1B 내지 5B와 6B 내지 10B, 및 제어 그룹 11B 내지 15B와 16B 내지 20B에 대한 불균일 점수의 통계 도표이다. 도 28a로부터 잘 알 수 있는 바와 같이, 무광택 표면을 갖는 테스트 샘플은, 제어 샘플의 휨 점수와 비교하여, 향상된(보다 낮은) 휨 점수 및 보다 작은 휨 변동성을 보여준다. 도28b는 표 2에 열거되어 있는 테스트 그룹 1B 내지 5B와 6B 내지 10B, 및 제어 그룹 11B 내지 15B와 16B 내지 20B에 대한 ETA를 나타낸 것이다. 도 28b에 나타낸 바와 같이, 무광택 표면의 추가는 ETA를 실질적으로 감소시키지 않거나, ETA를 단지 최소한으로만 감소시킨다.

표 3에 열거된 광학 필름 적층물 샘플 1C 내지 20C는 낮은 탁도, 중간 탁도, 및 높은 탁도의 미세복제 패턴을 가지는 미세복제된 무광택 표면을 갖는 다양한 유형의 상부 및 하부 필름을 사용하였다. 샘플 1C 내지 5C는 낮은 탁도의 무광택 패턴을 사용하여 제조되었고, 샘플 6C 내지 10C는 중간 탁도의 무광택 패턴을 사용하여 제조되었으며, 샘플 11C 내지 15C는 높은 탁도의 무광택 패턴을 사용하여 제조되었다. 샘플 16C 내지 20C는 제어 샘플이었다. 제어 샘플에서의 모든 하부 필름 및 상부 필름은 필름(TBEF3)의 상부 표면 상에 24 피치 선형 프리즘을 사용하였다.

도 29a는 표 3에 열거되어 있는 테스트 그룹 1C 내지 5C, 6C 내지 10C 및 11C 내지 15C와 제어 그룹 16C 내지 20C에 대한 불균일 점수의 통계 도표이다. 도 28b로부터 잘 알 수 있는 바와 같이, 무광택 표면을 갖는 테스트 샘플은, 제어 샘플과 비교하여, 향상된(보다 낮은) 휨 점수 및 보다 낮은 휨 변동성을 보여준다.

도 29b는 표 3에 열거되어 있는 테스트 그룹 1C 내지 5C, 6C 내지 10C 및 11C 내지 15C와 제어 그룹 16C 내지 20C에 대한 ETA를 나타낸 것이다. 도 29b에 나타낸 바와 같이, TBEF 상에 무광택 표면을 추가하는 것은 ETA를 실질적으로 감소시키지 않거나, ETA를 단지 최소한으로만 감소시킨다.

미세복제에 의해 형성된 다양한 무광택 표면에 대한 표면 프로파일을 획득하기 위해 공초점 주사 레이저 현미경 검사법을 사용하여 표면 특성 파악이 수행되었다. 테스트된 샘플 유형은 샘플 유형 1A, 1B, 1C, 12A, 12B, 12C, 18A, 26A(2개의 샘플) 27A, 27B에 대응하였다. 테스트된 무광택 표면은 약 55 내지 75℃ 범위에 있는 추정된 Tg, 44 마이크로미터 내지 70 마이크로미터의 두께를 가졌다. 표 4 및 도 30a 내지 도 30h에 예시된 미세복제된 표면 기하형태는 1 미만의 측정된 COF를 갖는 필름의 미세복제된 표면 기하형태와 비슷하며, 앞서 기술한 바와 같이, 개선된 휨 성능을 나타낸다. 도 30a 내지 도 30h는 다음과 같은 표면 특성을 그래프로 나타낸 것이다: 도 30a - 경사 크기 분포, 도 30b - 높이 분포, 도 30c - 누적 경사 크기 분포(Fcc)의 보충, 도 30d - 누적 경사 크기 분포의 보충 - 재스케일링됨(Rcc), 도 30e - X 기울기 분포, 도 30f - y 기울기 분포, 도 30g - X-곡률 분포, 도 30h - Y 곡률 분포.

앞서 기술한 면측 롤러 공정은 또한 상기한 미세복제된 패턴과 비슷한 필름 표면 기하형태를 생성하는 데 사용될 수 있다. 도 31a 내지 도 31h는 면측 롤 공정에 의해 생성된 전형적인 필름의 표면 특성을 요약한 것이다. 도 31a 내지 도 31f는 다음과 같은 표면 특성을 그래프로 나타낸 것이다: 도 31a - 경사 크기 분포, 도 31b - 높이 분포, 도 31c - 누적 경사 크기 분포(Fcc)의 보충, 도 31d - 누적 경사 크기 분포의 보충 - 재스케일링됨(Rcc), 도 31e - X 기울기 분포, 도 31f - y 기울기 분포.

이 공정은 약 5% 이하, 또는 약 4.5% 이하, 또는 약 4% 이하, 또는 약 3.5% 이하, 또는 약 3% 이하, 또는 약 2.5% 이하, 또는 약 2% 이하, 또는 약 1.5% 이하, 또는 약 1% 이하인 광학 탁도, 및 약 85% 이하, 또는 약 80% 이하, 또는 약 75% 이하, 또는 약 70% 이하, 또는 약 65% 이하, 또는 약 60% 이하인 광학 투명도를 가지는 필름을 제조하는 데 사용될 수 있다. 게다가, 면측 공정을 사용하여 무광택 표면을 추가하는 것은 면측 롤 공정을 사용하여 형성된 무광택 표면을 갖지 않는 동일한 광학 필름과 비교하여, ETA를 실질적으로 감소시키지 않거나, 단지 최소한으로만 감소시킨다(예컨대, 약 2% 미만 또는 약 3% 미만 또는 약 5% 미만의 ETA의 감소).

면측 롤 공정을 사용하여 형성된 무광택의 COF는 기판을 코팅하여 무광택 표면을 형성하는 데 사용되는 수지에 첨가되는 표면 활성 화학 물질(surface active chemical)에 의존적이다. 표 4는 무광택 표면을 갖는/갖지 않는 그리고 표면 화학 첨가제를 갖는/갖지 않는 필름에 대한 COF 데이터를 제시하고 있다.

Axon HC 제제가 표 5에 제공되어 있다:

용기가 575.9 g의 펜타에리트리톨 트라이- 및 테트라-아크릴레이트(Sartomer로부터 입수가능한 SR444), 90.3 g의 폴리에틸렌글리콜 다이아크릴레이트(Sartomer로부터 입수가능한 SR344) 및 500 g의 아이소프로판올로 채워졌다. 이어서, 1-메톡시-2-프로판올에서의 894.5 g의 A-174 개질된 실리카 오가노졸이 첨가되었고, 563.8 g의 아이소프로판올로 세정되었다. 별도의 용기에, 27.3 g의 1-하이드록시-사이클로헥실 페닐 케톤(Ciba로부터 입수가능한 Irgacure 184)이 180 g의 에틸 아세테이트와 혼합되었다. 이 프리-믹스 용액이 상기 혼합물에 첨가되었고, 600 g의 에틸 아세테이트로 세정되었다. 이 혼합물은 균일한 혼합물을 획득하기 위해 완전히 혼합되었다.

상기 혼합물이 코팅 이전에 아이소프로판올 및 에틸 아세테이트로 추가적으로 희석되었다.

3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시실란이 미국 웨스트버지니아주 프리엔들리 소재의 Momentive performance materials, Inc.로부터 Silquest A174로서 입수가능하였다. Irgacure 184, 광개시제, 1-하이드록시-사이클로헥시-페니-케톤이 미국 뉴욕주 태리타운 소재의 Ciba Special Chemicals로부터 입수되었다. 펜타에리트리톨 아크릴레이트(SR444) 및 폴리에틸렌 글리콜(400) 다이아크릴레이트(SR344)가 미국 펜실베니아주 엑스턴 소재의 Sartomer Company로부터 입수되었다. 용매(MEK, 톨루엔, IPA, 에틸 아세테이트](모두가 미국 위스콘신주 53007 버틀러 사서함 444 소재의 Brenntag, Brenntag Great Lakes로부터 입수됨)가 수퍼 클리어 폴리에스테르 필름인 Dupont Melinex® 618 상에 코팅되고, 접착을 증진시키기 위해 한쪽 측면에서 전처리되었다. 넓은 범위의 디스플레이 응용을 위한 초고투명도(ultra high clarity)를 갖는 아주 독특한 필름. Nalco 2327 수용성 콜로이드성 실리카, A-174 및 1-메톡시-2-프로판올(Dowanol PM 등)을 사용하여 SiNaps이 준비된다. HFPO-PEG이 2008년 1월 16일자로 출원된, 공동 소유의 미국 특허 출원(대리인 사건 번호 63834US002)(참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)에 기술되어 있다.

SiNapps는 다음과 같은 공정을 사용하여 제조되었다: 12 리터 플라스크가 3000 g의 수용성 콜로이드성 실리카 용액(미국 일리노이주 네이퍼빌 소재의 Nalco로부터 입수가능한 Nalco 2327)으로 채워졌고, 교반이 시작되었다. 이어서, 3591 g의 1-메톡시-2-프로판올(미국 미시간주 미들랜드 소재의 Dow Chemical로부터 입수가능한 Dowanol PM)이 첨가되었다. 별도의 용기에, 189.1 g의 3-메타크릴옥시프로필트라이메톡시 실란(미국 코네티컷주 윌턴 소재의 Momentive Performance Materials로부터 입수가능한 Silquest A-174)이 455 g의 1-메톡시-2-프로판올과 혼합되었다. 이 프리-믹스 용액이 플라스크에 첨가되었고, 455 g의 1-메톡시-2-프로판올로 세정되었다. 혼합물이 80℃로 약 16 시간 동안 가열되었다. 혼합물이 35℃로 냉각되었다. 혼합물이 수집 플라스크를 사용하여 진공 증류(3.99-4.67 ㎪ (30-35 Torr), 35-40℃)를 하도록 설치되었다. 추가의 1813.5 g의 1-메톡시-2-프로판올이 증류 동안 내내 반응 플라스크 부분에 첨가되었다. 총 6784 g의 증류액이 수집되었다. 105℃ 오븐에서 60분 동안 정미 중량(tared) 알루미늄 팬에 있는 작은 샘플을 건조시킴으로써 % 고형물에 대해 혼합물이 테스트되었다. 혼합물이 52.8% 고형물인 것으로 밝혀졌다. 추가의 250g의 1-메톡시-2-프로판올이 첨가되었고 혼합물이 교반되었다. % 고형물이 테스트되었고 48.2%인 것으로 밝혀졌다. 미립자 부스러기를 제거하기 위해 치즈 천을 통해 여과시킴으로써 혼합물이 수집되었다. 총 2481 g의 생성물 용액이 획득되었다.

사용된 HFPO 우레탄 아크릴레이트가 미국 특허 공개 제2006/0216524호(참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)의 준비 6에서의 절차와 유사한 절차 - 준비 6에서 사용된 0.15 몰 분율 HFPO 아미돌을 0.10 몰 분율의 HFPO 아미돌(HFPOC(O)NHCH2CH2OH)로 대체하고, 준비 6에서 사용된 0.90 몰 분율 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트를 0.95 몰 분율의 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트로 대체하며, 약 1 시간의 기간에 걸쳐 HFPO 아미돌(HFPOC(O)NHCH2CH2OH)을 Desmodur N100에 첨가하고, 메틸 에틸 케톤에서의 50% 고형물 대신에 메틸 에틸 케톤에서의 30% 고형물에서 반응을 실행함 - 를 사용하여 제조되었다.

표 4의 샘플 및 기타 샘플에 관한 부가 정보는 표 6에 제공되어 있다.

샘플 P0811009-01과 P0811009-02의 비교는, 표면 화학 첨가제가 없는 경우, 무광택 표면의 추가가 COF를 저하시킨다는 것을 보여준다. 샘플 P0811009-01 및 P0811009-02는 표면 활성 화학 첨가제를 포함하지 않는다. 샘플 P0811009-02는 무광택 표면을 갖는 반면, P0811009-01은 무광택 표면을 갖지 않는다. P0811009-02의 COF는 무광택 표면으로 인해 P0811009-01의 COF보다 더 낮다.

기판을 코팅하기 위해 사용된 수지에 대한 표면 화학 첨가제는 또한, 심지어 무광택 표면이 없는 경우에도, COF를 저하시킨다. 표면 화학 첨가제가 사용될 때, 무광택 표면은 무광택 표면을 갖지 않는 동일하게 처리된 필름보다 더 낮은 COF를 생성하지 않을 수 있다. 이 현상이 일어나는 이유는, 비무광택(광택) 필름의 형성 동안, 표면 화학이 표면으로 확산하여 COF에 영향을 주는 데 무광택 표면의 형성과 비교하여 더 많은 시간이 걸리기 때문이다. 예를 들어, 샘플 P071409-11은 무광택 표면을 갖지 않고, 무광택 표면을 포함하는 비교 샘플(P071409-12)의 COF(0.586)보다 더 낮은 COF(0.547)를 가진다. 무광택 표면을 갖는 샘플 필름(P071409-6)에서의 표면 활성 화학 첨가제의 양을 감소시키는 것은 COF(0.681)를 추가로 증가시킨다.

샘플 P070709-14 및 P071409-06은 동일한 양의 계면 활성제를 갖지만, HFPO-UA를 포함하는 구조화된 코팅은 HFPO-PEG를 포함하는 구조화된 코팅과 비교하여 더 높은 COF를 가진다.

샘플 P102407-20, P102507-37, P012909-31, 및 P102607-79는 또한 보다 높은 유리 전이 온도를 갖는 수지를 사용하여 코팅의 COF를 감소시킬 수 있다는 것을 보여준다. 37% 실리카 나노입자를 포함하는 906 HC가 SR444 수지 단독(103)보다 더 높은 Tg를 가지며, 나노입자를 갖지 않는 수지와 비교하여 추가로 감소된 COF를 가진다. 샘플 P012909-31, P012909-34, P012909-37, 및 P012909-40은 표면 활성제(Tegorad 2250)를 낮은 Tg의 수지에 첨가하는 것이 또한 COF를 감소시킬 것임을 보여준다. 계면 활성제를 더 많이 첨가하는 것은 COF를 더욱 감소시킨다. 물질들이 이하에 열거되어 있다.

6010/355 수지 블렌드가 PHotomer 6010 대 SR355의 비율을 60:40으로 하여 IPA에서의 20% 고형물로 제조되었다. Darocure 4265 광개시제가 2 중량%의 고형물로 용액에 첨가되었다. SR9041 물질이 MEK에서의 30% 고형물로 용액에서 제조되었다. CN9008 물질이 MEK에서의 30% 고형물로 용액에서 제조되었다. 80 대 20의 비율로 있는 906 HC 및 SR9003 물질이 IPA에서의 30% 고형물로 코팅되었다.

사용된 HFPO 우레탄 아크릴레이트가 미국 특허 공개 제2006/0216524호(참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)의 준비 6에서의 절차와 유사한 절차에 의해 제조되었다. 이하의 HFPO UA에 대한 기준은 다음과 같다:

MEK에서의 30% 고형물로 제조된 41-4205-6329-2 R-56329는 제제

DES N100/ 0.10 HFPOC(O)NHCH2CH2OH/ 0.95 PET3A를 가진다.

사용된 HFPO 우레탄 아크릴레이트는US 20060216524의 준비 6에서의 절차와 유사한 절차 - 준비 6에서 사용된 0.15 몰 분율 HFPO 아미돌을 0.10 몰 분율의 HFPO 아미돌(HFPOC(O)NHCH2CH2OH)로 대체하고, 준비 6에서 사용된 0.90 몰 분율 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트를 0.95 몰 분율의 펜타에리트리톨 트라이아크릴레이트로 대체하며, 약 1 시간의 기간에 걸쳐 HFPO 아미돌(HFPOC(O)NHCH2CH2OH)을 Desmodur N100에 첨가하고, 메틸 에틸 케톤에서의 50% 고형물 대신에 메틸 에틸 케톤에서의 30% 고형물에서 반응을 실행함 - 에 의해 제조되었다.

라디칼 가교성(radically cross-linkable) Tegorad 2250 실리콘 폴리에테르 아크릴레이트(독일 에센 D-45127 골드슈미트스트라세 100 소재의 Tego Chemie Service GmbH로부터 입수가능함) 전화: +49 (0)201/173-2222 ㅇ 팩스: +49 (0)201/173-1939 (www.tego.de).

US 5677050(컬럼 10)(참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)에 따르면, 906 HC가 다음과 같이 준비되었다: 하기의 물질이 10 리터 원형 병 플라스크(round-bottled flask): 1195 그램(g)의 Nalco 2327, 118 g의 NNDMA, 60 g의 Z6030 및 761 g의 PETA. 플라스크는 이어서 수조 온도가 55℃로 설정되어 있는 Bucchi R152 회전 증발기에 놓여졌다. 50% 탈이온수/50% 부동액의 냉장 혼합물이 냉각 코일을 통해 순환되었다. 증류 속도가 분당 5 액적 미만으로 감소될 때까지(대략 2시간) 대략 3.33 ㎪(25 Torr)의 감소된 압력에서 휘발성 성분이 제거되었다. 얻어진 물질(1464g)은 1% 미만의 water을 포함하고 54.2% PETA, 8.4% NNDMA, 및 38.8% 아크릴레이트 실리카를 포함하는 투명한 액체였다. SR9003, 프로폭실화한 네오펜틸 글리콜 다이아크릴레이트, CN9008, 삼관능성(trifunctional) 지방족 폴리에스테르우레탄 아크릴레이트 올리고머 및 SR-355, 다이트라이메틸올프로판 테트라아크릴레이트가 미국 펜실베니아주 엑스턴 소재의 Sartomer Company, Inc.로부터 입수가능하다.

PHOTOMER 6010은 지방족 우레탄 아크릴레이트 올리고머(Cognis로부터 입수가능함.www.cognis.com)이다. SR9041 - SR9041[펜타아크릴레이트 에스테르]은 미국 펜실베니아주 19341 엑스턴 토마스 존스 웨시 502 소재의 Sartomer Company, Inc.로부터 입수가능하다.

Darocure 1173[2-하이드록시-2-메틸-1-페닐-1-프로파논] 및 Daracure 4265[50wt% 다이페닐 (2,4,6-트라이메틸벤조일)-산화 포스핀, 50wt% Darocur 1173]는 미국 뉴욕주 10591-9005 태리타운 화이트 플레인즈 로드 540, 사서함 2005 소재의 Ciba Corporation으로부터 입수가능하다.

본 명세서에 기술된 광학 필름 적층물은 디스플레이 시스템 또는 랩톱 컴퓨터, 핸드폰 및 소형 음악 플레이어에서 발견되는 소형 디스플레이, 및 기타 장치에서 사용되는 백라이트에 대한 광 관리 필름으로서 사용될 수 있다. 일부 응용에서, 확산기, 편광기 및 하나 이상의 휘도 향상 필름을 포함하는 광 관리 광학 필름 적층물이 광원과 LCD 매트릭스 사이에 배열된다.

도 32는 정보를 관찰자(2899)에게 디스플레이하는 디스플레이 시스템(2800)의 한 일례의 개략 측면도이다. 디스플레이 시스템(2800)은 백라이트(2850)에 의해 조명되는 액정 패널(2840)을 포함하고 있다. 백라이트(2850)는 측면 반사체(도시 생략)에 하우징되어 있는 램프(2802)로부터 도광체의 에지를 통해 광을 수광하는 도광체(2810), 및 후방 반사체(2811)에 입사하는 광을 관찰자(2899) 쪽으로 반사시키는 후방 반사체(2811)를 포함하고 있다.

광학 적층물(2801)은 확산기(2815) 및 2개의 광 방향 전환 필름(2820, 2830)을 포함하고 있다. 어떤 경우에, 2개의 광 방향 전환 필름의 선형 프리즘이 서로에 대해 어떤 각도로(예컨대, 실질적으로 직교로) 배향되어 있다. 광학 필름(2820)은 기층(2822) 상에 배치된 휘도 향상 프리즘 층(2821)을 포함한다.

광학 필름(2830)은 무광택 층(2831) 및 프리즘 층(2833) - 이들은 반사 편광기 층(2832) 상에 배치되어 있음 - 을 포함한다. 무광택 층(2831)은 광학 적층물에서 필름(2820)의 프리즘 층(2821)에 인접해 있다. 일부 구성에서, 디스플레이 시스템에서의 필름(2830) 및 필름(2920) 둘다 및/또는 기타 광학 필름은 무광택 층을 포함한다. 반사 편광기 층(2832)은 제1 편광 상태를 가지는 광을 실질적으로 반사시키고, 제2 편광 상태를 가지는 광을 실질적으로 투과시키며, 여기서 2개의 편광 상태는 상호 직교이다. 예를 들어, 반사 편광기에 의해 실질적으로 반사되는 편광 상태에 대한 가시광에서의 반사 편광기 층의 평균 반사율은 적어도 약 50%, 또는 적어도 약 60%, 또는 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 90%, 또는 적어도 약 95%이다. 다른 일례로서, 반사 편광기(2832)에 의해 실질적으로 투과되는 편광 상태에 대한 가시광에서의 반사 편광기 층(2832)의 평균 투과율은 적어도 약 50%, 또는 적어도 약 60%, 또는 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 90%, 또는 적어도 약 95%, 또는 적어도 약 97%, 또는 적어도 약 98%, 또는 적어도 약 99%이다. 어떤 경우에, 반사 편광기 층(2832)은 제1 선형 편광 상태를 가지는(예를 들어, x-방향을 따르는) 광을 실질적으로 반사시키고, 제2 선형 편광 상태를 가지는(예를 들어, y-방향을 따르는) 광을 실질적으로 투과시킨다.

임의의 적합한 유형의 반사 편광기, 예컨대 다층 광학 필름(multilayer optical film; MOF) 반사 편광기; 확산 반사 편광 필름(diffusely reflective polarizing film; DRPF), 예컨대 연속/분산 상 편광기 또는 콜레스테릭(cholesteric) 반사 편광기가 사용될 수 있다. MOF, 콜레스테릭 및 연속/분산 상 반사 편광기는 모두 광을 직교 편광 상태로 투과시키면서 하나의 편광 상태의 광을 선택적으로 반사시키기 위한 필름, 보통 중합체 필름 내의 굴절률 프로파일의 변경에 의존한다.

MOF 반사 편광기는 상이한 중합체 물질의 교번하는 층으로 형성될 수 있고, 여기서 일련의 교번하는 층 중 하나가 복굴절 물질로 이루어져 있고, 상이한 물질의 굴절률이 하나의 선형 편광 상태로 편광된 광에 대해서는 정합되고 직교 선형 편광 상태의 광에 대해서는 정합되지 않는다. 이러한 경우에, 정합된 편광 상태에 있는 입사광은 반사 편광기를 통해 실질적으로 투과되고, 비정합된 편광 상태에 있는 입사광은 반사 편광기에 의해 실질적으로 반사된다. 일부 경우에, MOF 반사 편광층은 무기 유전체층들의 적층물을 포함할 수 있다.

적합한 반사 편광기가 발명의 명칭이 "선택된 입사 평면에서 각도 구속을 갖는 침적된 반사 편광기(Immersed Reflective Polarizer with Angular Confinement in Selected Planes of Incidence)"인 미국 특허 출원(사건 번호 65900US002), 및 미국 특허 출원 제61/254691호(사건 번호 65809US002) - 둘다 2009년 10월 24일자로 출원되고, 참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨 - 에 기술되어 있다. 적당한 반사 편광기의 다른 일례는 앞서 포함된 미국 특허 제5,882,774호 및 미국 특허 공개 제2008/064133호(참조 문헌으로서 그 전체 내용이 본 명세서에 포함됨)에 기술되어 있다. 어떤 경우에, 반사 편광기 층은 광 간섭에 의해 광을 반사시키거나 투과시키는 다층 광학 필름일 수 있다.

본 발명과 관련하여 유용한 DRPF의 일례는 연속/분산상 반사 편광기 - 공동 소유의 미국 특허 제5,825,543호(참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)에 기술되어 있음 - 및 확산 반사 다층 편광기 - 예컨대, 공동 소유의 미국 특허 제5,867,316호(역시 참조 문헌으로서 본 명세서에 포함됨)에 기술되어 있음 - 를 포함한다. 다른 적합한 유형의 DRPF가 미국 특허 제5,751,388호에 기술되어 있다.

본 발명과 관련하여 유용한 콜레스테릭 편광기의 어떤 일레는, 예를 들어, 미국 특허 제5,793,456호, 및 미국 특허 공개 제2002/0159019호에 기술된 것을 포함한다. 콜레스테릭 편광기는 종종 출력측의 사분파 지연층(quarter wave retarding layer)과 함께 제공되어, 콜레스테릭 편광기를 통해 투과된 광이 선형 편광으로 변환되게 된다.

광학 필름 적층물(2801)에서의 광 관리 필름들 중 하나 이상의 광 관리 필름은 백라이트(2850) 내의 다른 필름에 대해 구속되어 있을 수 있다. 예를 들어, 일부 구현에서, 광학 필름(2830)은 광학 필름(2830)의 에지에서 구속되어 있을 수 있는 반면, 광학 필름(2820, 2815)은 에지-구속되어 있지 않다. 이들 구현에서, 무광택 표면(2831)은 본 명세서에 기술된 마찰 계수(COF), 휨 방지 특성, 기울기 분포, 기울기 크기, 탁도 및/또는 투명도 특성을 달성하도록 구성될 수 있다.

광 확산기(2815)의 주된 기능은 램프(2802)를 감추거나 마스킹하고 도광체(2811)에 의해 방출되는 광(2811)을 균질화하는 것이다. 광 확산기(2815)는 높은 광학 탁도 및/또는 높은 확산 광 반사율을 가진다. 예를 들어, 어떤 경우에, 광 확산기의 광학 탁도는 약 40% 이상, 2815 또는 약 50% 이상, 또는 약 60% 이상, 또는 약 70% 이상, 또는 약 80% 이상, 또는 약 85% 이상, 또는 약 90% 이상, 또는 약 95% 이상이다. 다른 일례로서, 광 확산기(2815)의 확산 광 반사율은 약 30% 이상, 또는 약 40% 이상, 또는 약 50% 이상, 또는 약 60% 이상이다.

광 확산기(2815)는 응용에 바람직하고 및/또는 이용가능할 수 있는 임의의 광 확산기일 수 있거나 이를 포함할 수 있다. 예를 들어, 광 확산기(2815)는 표면 확산기, 체적 확산기, 또는 이들의 조합일 수 있거나 이를 포함할 수 있다. 예를 들어, 광 확산기(2815)는 상이한 굴절률 n₂를 갖는 결합제 또는 호스트 매질에 분산되어 있는 제1 굴절률 n₁을 갖는 복수의 입자를 포함할 수 있고, 여기서 2개의 굴절률 사이의 차는 적어도 약 0.01, 또는 적어도 약 0.02, 또는 적어도 약 0.03, 또는 적어도 약 0.04, 또는 적어도 약 0.05 이다.

후방 반사체(2811)는 마이너스 z-방향을 따라 보는 사람(2899)으로부터 떨어져 있는 도광체에 의해 방출되는 광을 수광하고 수광된 광을 보는 사람 쪽으로 반사시킨다. 램프(2802)가 도광체의 가장자리를 따라 배치되어 있는 디스플레이 시스템(2800)과 같은 디스플레이 시스템은 일반적으로 엣지형(edge-lit) 또는 백릿(backlit) 디스플레이 또는 광학 시스템이라고 한다. 어떤 경우에, 후방 반사체(2811)는 부분 반사성 및 부분 투과성일 수 있다. 어떤 경우에, 후방 반사체(2811)는 구조화되어 있을 수 있다 - 예를 들어, 구조화된 표면을 가질 수 있다 -.

후방 반사체(2811)는 응용에 바람직하고 및/또는 실용적일 수 있는 임의의 유형의 반사체일 수 있다. 예를 들어, 후방 반사체는 경면 반사체, 반경면 또는 반확산 반사체, 또는 확산 반사체일 수 있다. 예를 들어, 반사체는 ESR(enhanced specular reflector) 필름(미국 미네소타주 세인트 폴 소재의 3M Company로부터 입수가능함)과 같은 알루미늄 처리된 필름(aluminized film) 또는 다층 중합체성 반사 필름일 수 있다. 다른 일례로서, 후방 반사체(2811)는 백색 외관을 갖는 확산 반사체일 수 있다.

항목 1. 광학 필름 적층물로서, 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제1 광학 필름 - 제2 주 표면은 복수의 미세구조물을 포함하는 무광택 표면을 포함함 -, 및 제3 주 표면 및 제4 주 표면을 가지는 제2 광학 필름 - 제2 광학 필름의 제3 주 표면은 제1 광학 필름의 무광택 표면에 인접해 있음 -을 포함하고, 제1 광학 필름과 제2 광학 필름 사이의 마찰 계수가 약 1 미만인 광학 필름 적층물.

항목 2. 항목 1에 있어서, 마찰 계수가 약 0.8 미만인 광학 필름 적층물.

항목 3. 항목 1에 있어서, 마찰 계수가 약 0.6 미만인 광학 필름 적층물.

항목 4. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름의 두께가 약 30 내지 40 마이크로미터 미만인 광학 필름 적층물.

항목 5. 항목 1에 있어서, 미세구조화된 표면의 Tg가 약 70C 또는 약 50C 또는 약 30C인 광학 필름 적층물.

항목 6. 항목 1에 있어서, COF가 제조 동안 표면 화학(surface chemistry)에 의해 영향을 받는 것인 광학 필름 적층물.

항목 7. 항목 1에 있어서, 제1 주 표면이 제1 주 표면의 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 8. 항목 7에 있어서, 제1 주 표면의 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물이 제2 주 표면의 미세구조물의 최대 높이와 상이한 최대 높이를 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 9. 항목 7에 있어서, 제1 주 표면의 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물이 선형 프리즘을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 10. 항목 7에 있어서, 제1 주 표면의 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물의 높이가 제1 방향을 따라 변하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 11. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름의 평균 유효 투과율이 약 1.80 내지 1.85 이상인 광학 필름 적층물.

항목 12. 항목 1에 있어서, 제2 광학 필름의 제3 주 표면이 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 13. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름의 제1 주 표면이 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물을 포함하고, 제2 광학 필름의 제3 주 표면이 제1 방향과 상이한 제2 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 14. 항목 1에 있어서, 광학 필름 적층물의 평균 유효 투과율이, 복수의 미세구조물을 갖지 않는 동일한 구조를 갖는 광학 필름 적층물에 비해, 약 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 또는 8% 이상인 광학 필름 적층물.

항목 15. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름이 기층, 및 기층 상에 배치된 무광택 층 - 무광택 층은 무광택 표면을 포함함 - 을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 16. 항목 15에 있어서, 무광택 층이 약 50℃ 내지 100℃ 범위의 Tg를 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 17. 항목 15에 있어서, 기층이 PET를 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 18. 항목 15에 있어서, 기층이 편광 층을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 19. 항목 18에 있어서, 편광 필름이 다층 반사 편광기를 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 20. 항목 18에 있어서, 실질적으로 반사된 편광 상태에 대한 편광층의 평균 반사율이 적어도 약 50%, 또는 적어도 약 60%, 또는 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 90%, 또는 적어도 약 95%인 광학 필름 적층물.

항목 21. 항목 18에 있어서, 실질적으로 투과된 편광 상태에 대한 편광 층의 평균 투과율이 적어도 약 50%, 또는 적어도 약 60%, 또는 적어도 약 70%, 또는 적어도 약 80%, 또는 적어도 약 90%, 또는 적어도 약 95%, 또는 적어도 약 97%, 또는 적어도 약 98%, 또는 적어도 약 99%인 광학 필름 적층물.

항목 22. 항목 15에 있어서, 기층이 약 1.4 내지 약 1.8 이상의 굴절률을 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 23. 항목 15에 있어서, 무광택 층이 약 1.4 내지 약 1.6 이상의 굴절률을 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 24. 항목 15에 있어서, 무광택 층이 입자를 포함하고, 무광택 층의 평균 두께가 입자의 평균 크기보다 적어도 2배 더 큰 것인 광학 필름 적층물.

항목 25. 항목 15에 있어서, 무광택 층이 입자를 포함하고, 무광택 층의 평균 두께가 입자의 평균 크기보다 적어도 2 마이크로미터 더 큰 것인 광학 필름 적층물.

항목 26. 항목 1에 있어서, 미세구조물이 제2 주 표면의 적어도 75%, 80%, 85%, 90%, 또는 95%를 덮고 있는 것인 광학 필름 적층물.

항목 27. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름의 광학 탁도가 1%, 2%, 3%, 4%, 또는 5% ...이하인 광학 필름 적층물.

항목 28. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름의 광학 투명도가 약 70% 이하 또는 약 80% 이하인 광학 필름 적층물.

항목 29. 항목 1에 있어서, 미세구조물이 기울기 분포를 가지며, 기울기 분포의 HWHM이 약 6 내지 약 4 이하인 광학 필름 적층물.

항목 30. 항목 1에 있어서, 제2 주 표면이 제2 주 표면에 걸쳐 약 32.4 내지 약 4도 이하인 HWHM을 갖는 기울기 분포를 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 31. 항목 1에 있어서, 미세구조물의 약 1 내지 약 7% 이하가 약 3.5 내지 약 5도 초과의 기울기 크기를 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 32. 항목 1에 있어서, 제3 주 표면이 미세구조물을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 33. 항목 32에 있어서, 제3 주 표면의 미세구조물이 선형 프리즘을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 34. 항목 1에 있어서, 제2 광학 필름이 제4 주 표면 상에 미세구조물을 포함하는 무광택 표면을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.

항목 35. 항목 1에 있어서, 무광택 표면이 약 1% 또는 약 2.5% 이하의 광학 탁도를 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 36. 항목 1에 있어서, 무광택 표면이 약 70% 또는 약 80% 이하의 광학 투명도를 가지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 37. 항목 1에 있어서, 미세구조물의 상당 부분이 약 0.5 마이크로미터 초과의 평균 크기를 가지는 입자 상에 배치되지 않는 것인 광학 필름 적층물.

항목 38. 항목 1에 있어서, 제1 광학 필름이 0.5 내지 약 0.1 마이크로미터 초과의 평균 크기를 갖는 입자를 포함하지 않는 것인 광학 필름 적층물.

항목 39. 항목 1에 있어서, 미세구조물의 평균 높이가 약 1 내지 약 3 마이크로미터 이하인 광학 필름 적층물.

항목 40. 항목 1에 있어서, 광학 필름 적층물이 나타낸 휨의 정도가 미세구조물을 갖지 않는 것을 제외하고는 동일한 광학 필름 적층물이 나타내는 휨의 정도보다 작은 것인 광학 필름 적층물.

항목 41. 광학 필름으로서, 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 편광기 층, 제1 주 표면 상에 배치된 프리즘 층, 및 제2 주 표면 상에 배치된 무광택 층 - 무광택 층은 기울기 분포를 가지는 복수의 미세구조물을 포함함 - 을 포함하며, 기울기 분포의 HWHM은 약 6 내지 약 ??도 이상이고, 무광택 층은, 평탄한 표면에 인접해 있을 때, 약 1 미만의 광학 필름과 평탄한 표면 사이의 마찰 계수를 제공하는 것인 광학 필름.

항목 42. 항목 41에 있어서, 마찰 계수가 약 0.8 미만인 광학 필름.

항목 43. 항목 41에 있어서, 마찰 계수가 약 0.7 미만인 광학 필름.

항목 44. 항목 41에 있어서, 마찰 계수가 약 0.6 미만인 광학 필름.

항목 45. 항목 41에 있어서, 광학 필름의 두께가 약 30 마이크로미터 미만인 광학 필름.

항목 46. 항목 41에 있어서, 프리즘 층의 프리즘이 미세구조물의 최대 높이와 상이한 최대 높이를 가지는 것인 광학 필름.

항목 47. 항목 41에 있어서, 프리즘 층의 프리즘이 제1 주 표면의 제1 방향을 따라 뻗어 있는 선형 프리즘을 포함하는 것인 광학 필름.

항목 48. 항목 47에 있어서, 제1 주 표면의 제1 방향을 따라 뻗어 있는 선형 프리즘의 높이가 제1 방향을 따라 변하는 것인 광학 필름.

항목 49. 항목 41에 있어서, 광학 필름의 평균 유효 투과율이 약 1.5 내지 2.5 이상인 광학 필름.

항목 50. 항목 41에 있어서, 광학 필름의 평균 유효 투과율이, 무광택 층을 갖지 않는 동일한 구조를 갖는 광학 필름에 비해, 약 1%, 2%, 3%, 4%, 5%, 6%, 7%, 8% 이상인 광학 필름.

항목 51. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 약 100C 미만, 또는 약 90C 미만, 또는 약 80C 미만, 또는 약 70C 미만의 Tg를 포함하는 것인 광학 필름.

항목 52. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 약 1.4 내지 약 1.6 이상의 굴절률을 가지는 것인 광학 필름.

항목 53. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 입자를 포함하고, 무광택 부분의 평균 두께가 입자의 평균 크기보다 적어도 2배 더 큰 것인 광학 필름.

항목 54. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 입자를 포함하고, 무광택 부분의 평균 두께가 입자의 평균 크기보다 적어도 2 마이크로미터 더 큰 것인 광학 필름.

항목 55. 항목 41에 있어서, 미세구조물이 무광택 층의 적어도 75%, 80%, 85%, 90%, 95%를 덮고 있는 것인 광학 필름.

항목 56. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 무광택 층에 걸쳐 약 2.5 내지 약 4도 이하인 HWHM을 갖는 기울기 분포를 가지는 것인 광학 필름.

항목 57. 항목 41에 있어서, 미세구조물의 약 1 내지 약 7% 이하가 약 3.5 내지 약 5도 초과의 기울기 크기를 가지는 것인 광학 필름.

항목 58. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 약 1% 내지 2.5% 이하의 광학 탁도를 가지는 것인 광학 필름.

항목 59. 항목 41에 있어서, 무광택 층이 약 70% 내지 약 80% 이하의 광학 투명도를 가지는 것인 광학 필름.

항목 60. 항목 41에 있어서, 미세구조물의 상당 부분이 약 0.5 마이크로미터 초과의 평균 크기를 가지는 입자 상에 배치되지 않는 것인 광학 필름.

항목 61. 항목 41에 있어서, 미세구조물의 평균 높이가 약 1 마이크로미터 내지 약 3 마이크로미터 이하인 광학 필름.

항목 62. 광학 필름으로서, 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 편광기 층, 제1 주 표면 상에 배치된 프리즘 층, 및 제2 주 표면 상에 배치된 무광택 층 - 무광택 층은 복수의 미세구조물을 가지며, 무광택 층과 평탄한 표면 사이의 마찰 계수는 약 1 미만임 - 을 포함하는 광학 필름.

항목 63. 항목 62에 있어서, 마찰 계수가 약 0.8 미만인 광학 필름.

항목 64. 항목 62에 있어서, 마찰 계수가 약 0.6 미만인 광학 필름.

항목 65. 항목 62에 있어서, 미세구조물이 기울기 분포를 가지며, 기울기 분포의 HWHM이 약 6 내지 약 4 이하인 광학 필름.

항목 66. 항목 62에 있어서, 무광택 층의 COF가 제조 동안 표면 화학에 의해 영향을 받는 것인 광학 필름.

항목 67. 항목 62에 있어서, 무광택 층이 약 100C 미만, 또는 약 90C 미만, 또는 약 80C 미만, 또는 약 70C 미만, 또는 약 50C 미만, 또는 약 30C 미만의 Tg를 포함하는 것인 광학 필름.

항목 68. 항목 62에 있어서, 무광택 층의 COF가 1 미만이고, Tg가 30C 미만인 광학 필름.

항목 69. 광학 필름 적층물로서, 제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제1 광학 필름 - 제2 주 표면은 복수의 미세구조물을 포함함 -, 및 제3 주 표면 및 제4 주 표면을 가지는 제2 광학 필름 - 제2 광학 필름의 제3 주 표면은 제1 광학 필름의 제2 주 표면 쪽에 배향되어 있음 - 을 포함하고, 광학 필름 적층물이 복수의 미세구조물을 갖지 않는 동일한 광학 필름 적층물보다 덜 휘어지는 것인 광학 필름 적층물.

항목 70. 백라이트로서,

광원;

확산기,

제1 광학 필름 - 제1 광학 필름은

제1 주 표면, 제2 주 표면 및 복수의 에지를 가지는 제1 기층,

제1 기층의 제1 주 표면 상에 배치된 제1 프리즘 층, 및

제1 기층의 제2 주 표면 상에 배치된 제1 무광택 층 - 무광택 층은 미세구조물을 포함함 -, 및

제2 광학 필름 - 제2 광학 필름은

제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제2 기층, 및

제2 기층의 제1 주 표면 상에 배치된 제2 프리즘 층 - 제2 광학 필름의 프리즘 층은 제1 무광택 층 쪽에 배향되어 있고 제2 기층의 제2 주 표면은 확산기 쪽에 배향되어 있음 - 을 포함하고, 제1 광학 필름은 에지에서 구속되어 있고, 제1 광학 필름과 제2 광학 필름 사이의 마찰 계수는 1 미만인 백라이트.

본 명세서에 사용되는 바와 같이, "수직", "수평", "위", "아래", "좌측", "우측", "위쪽" 및 "아래쪽", "시계방향" 및 "반시계방향" 및 다른 유사한 용어와 같은 용어들은 도면에 도시된 바와 같은 상대적인 위치를 지칭한다. 일반적으로, 물리적 실시 형태는 상이한 배향을 가질 수 있고, 그 경우에, 이 용어들은 소자의 실제 배향으로 수정된 상대적 위치를 지칭하도록 의도된다. 예를 들어, 도 3의 이미지가 도면에서의 배향에 비해 뒤집혀 있을지라도, 제1 주 표면(310)이 여전히 "상부" 주 표면인 것으로 간주된다.

이상에서 언급된 모든 특허, 특허 출원 및 다른 공보들은 상세히 재현한 것처럼 본 문헌에 참고로 포함된다. 본 발명의 특정의 실시예가 본 발명의 다양한 태양의 설명을 용이하게 하기 위해 위에서 상세히 기술되었지만, 본 발명을 실시예의 상세 사항으로 제한하고자 하는 것이 아님을 알아야 한다. 오히려, 첨부된 특허청구범위에 의해 한정되는 본 발명의 범위 내에에 속하는 모든 수정, 등가물 및 대안을 포함하는 것으로 보아야 한다.

Claims

제1 주 표면 및 제2 주 표면을 가지는 제1 광학 필름 - 제2 주 표면은 복수의 미세구조물을 포함하는 무광택 표면을 포함함 -, 및
제3 주 표면 및 제4 주 표면을 가지는 제2 광학 필름 - 제2 광학 필름의 제3 주 표면은 제1 광학 필름의 무광택 표면에 인접해 있음 -을 포함하고, 제1 광학 필름과 제2 광학 필름 사이의 마찰 계수가 약 1 미만인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 제1 광학 필름의 두께가 약 30 마이크로미터 미만인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서,
제1 광학 필름의 제1 주 표면이 제1 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물을 포함하고,
제2 광학 필름의 제3 주 표면이 제1 방향과 상이한 제2 방향을 따라 뻗어 있는 미세구조물을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 광학 필름 적층물의 평균 유효 투과율이, 복수의 미세구조물을 갖지 않는 동일한 구조를 갖는 광학 필름 적층물에 비해, 약 5% 이상인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 미세구조물이 기울기 분포를 가지며 기울기 분포의 HWHM이 약 6 내지 약 4도 이하인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 제3 주 표면이 선형 프리즘을 포함하는 것인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 무광택 표면이 약 2.5% 이하의 광학 탁도를 가지는 것인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 무광택 표면이 약 70% 이하인 광학 투명도를 가지는 것인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 미세구조물의 상당 부분이 약 0.5 마이크로미터 초과의 평균 크기를 가지는 입자 상에 배치되지 않는 것인 광학 필름 적층물.
제1항에 있어서, 광학 필름 적층물이 나타낸 휨의 정도가 미세구조물을 갖지 않는 것을 제외하고는 동일한 광학 필름 적층물이 나타내는 휨의 정도보다 작은 것인 광학 필름 적층물.