JP2013500304A5

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Publication number: JP2013500304A5
Application number: JP2012522131A
Authority: JP
Filing date: 2010-07-26
Publication date: 2013-05-30
Anticipated expiration: 2030-07-26

Claims

式（II）：

［式中、

は、
非置換であるか、又は低級アルキル、ハロ−低級アルキル、ヒドロキシ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキル、アシルオキシ−低級アルキル、フェニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、フェニル−低級アルコキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノ（低級アルキル）アミノ、ジ（低級アルキル）アミノ、モノ（低級アルケニル）アミノ、ジ（低級アルケニル）アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノ、置換アミノ（ここで、窒素上の２個の置換基は、窒素と一緒になって、ヘテロシクリルを形成する）、低級アルキルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、及びニトロから独立して選択される１又は２個の更なる置換基により置換されているか；又は、２個の隣接する置換基がメチレンジオキシであることができる、二価ベンゼン残基；あるいは
非置換であるか、又は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、アミノ（低級アルキル、低級アルケニル及びアルキルカルボニルより選択される１又は２個の置換基により場合により置換されている）、ハロ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキル、もしくはハロゲンにより更に置換されている二価ピリジン残基（Ｚ＝Ｎ）を表し；
Ｒ^１は、水素、低級アルキルカルボニル、ヒドロキシ−低級アルキル又はシアノ−低級アルキルを表し；そして
Ｒ^２は、以下：

より選択される基を表す］で示される化合物、又はその薬学的に許容しうる塩。
塩ではない、請求項１に記載の式（II）の化合物。
が、１，４−フェニレン、又は式：

で示される基を表す、請求項１又は２に記載の化合物。
Ｒ^１が、水素又はシアノ−低級アルキルを表す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の化合物。
式：

で示される化合物より選択される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の化合物。
Ｒ^１がシアノエチルである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の化合物。
式：

で示される化合物より選択される、請求項５又は６に記載の化合物。
式：

を有する、請求項２に記載の化合物。
式：

で示される化合物の薬学的に許容しうる塩である、請求項１に記載の化合物。
塩酸塩である、請求項９に記載の化合物。
（１）式（I−II）：

［式中、
Ｒ^１及び基：

は、式（II）のとおりである］で示される化合物、又は保護形態の官能基を含むそのような化合物の誘導体、あるいはその塩を、式（III）：

［式中、
Ｒ^１０は、水素（Ｇｌｙ）、メチル（Ａｌａ）及び保護されたアミノブチル（Ｌｙｓ）より選択され、
Ｒ^１１は、アミノ保護基である］で示されるアミノ酸でアシル化する工程、
（２）得られた化合物の保護された誘導体中の任意の保護基を除去して、式（II）の化合物又はその塩を得る工程、及び所望であれば
（３）得られた式（II）の化合物を塩に変換するか、又は得られた式（II）の化合物の塩を式（II）の化合物に変換する工程を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の式（II）の化合物の調製方法。
式（II−Ｇ）：

で示される化合物、又はその塩の製造方法であって、
（ａ）式：

で示される化合物を、式：

で示されるα−アミノ酸誘導体と、活性化剤、及び場合により適切な塩基、触媒又は共試薬の存在下で、反応させて、式：

で示される化合物を得る工程、
（ｂ）工程（ａ）の生成物を臭素化剤と反応させて、式：

で示されるブロモ化合物を得る工程、
（ｃ）前記工程（ｂ）で得られた前記ブロモ化合物を、式：

で示される化合物と反応させて、式：

で示される化合物を得る工程、
（ｄ）存在する任意の保護基を、基「保護されたアミノ酸」から除去して、式（II−Ｇ）の化合物を得る工程、ならびに、場合により
（ｅ）前記式（II−Ｇ）の化合物をその塩に変換する工程を含む方法
［式中、
式Ｒ^１は、水素、低級アルキルカルボニル、ヒドロキシ−低級アルキル又はシアノ−低級アルキルを表し、

は、
非置換であるか、又は低級アルキル、ハロ−低級アルキル、ヒドロキシ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキル、アシルオキシ−低級アルキル、フェニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、ヒドロキシ−低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、フェニル−低級アルコキシ、低級アルキルカルボニルオキシ、アミノ、モノ（低級アルキル）アミノ、ジ（低級アルキル）アミノ、モノ（低級アルケニル）アミノ、ジ（低級アルケニル）アミノ、低級アルコキシカルボニルアミノ、低級アルキルカルボニルアミノ、置換アミノ（ここで、窒素上の２個の置換基は、窒素と一緒になって、ヘテロシクリルを形成する）、低級アルキルカルボニル、カルボキシ、低級アルコキシカルボニル、シアノ、ハロゲン、及びニトロから独立して選択される１又は２個の更なる置換基により置換されているか；又は、２個の隣接する置換基がメチレンジオキシであることができる二価ベンゼン残基；あるいは
非置換であるか、又は低級アルキル、低級アルコキシ、低級アルコキシ−低級アルコキシ、アミノ（低級アルキル、低級アルケニル及びアルキルカルボニルより選択される１又は２個の置換基により場合により置換されている）、ハロ−低級アルキル、低級アルコキシ−低級アルキル、もしくはハロゲンにより更に置換されている二価ピリジン残基（Ｚ＝Ｎ）を表し；
Ｒ^２−Ｇは、式：

で示される基であり、
「アミノ酸」は、前記アミノ酸のα−炭素原子からカルボキシル基を除去することにより、天然のα−アミノ酸から誘導された残基を表し、そして
「保護されたアミノ酸」は、「アミノ酸」と同じアミノ酸であり、第一級アミノ基、及び必要であれば更に前記アミノ酸の他の官能基が保護基により保護されていることを意味する］。
「アミノ酸」が、グリシン、アラニン、アルギニン、アスパラギン、アスパラギン酸、システイン、グルタミン、グルタミン酸、ヒスチジン、イソロイシン、ロイシン、リジン、メチオニン、フェニルアラニン、プロリン、セリン、トレオニン、トリプトファン、チロシン及びバリンより選択されるアミノ酸を表す、請求項１２に記載の方法。
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物の製造のための、請求項１２に記載の方法。
医薬として使用するための、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物。
新生物疾患、自己免疫疾患、移植関連病変、及び／又は変性疾患の処置用の医薬として使用するための、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の化合物。
固形新生物疾患の処置用の、請求項１５又は１６に記載の化合物。
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の式（II）の化合物又はその薬学的に許容しうる塩及び薬学的に許容しうる不活性担体を含む医薬組成物。
水溶液である、請求項１８に記載の医薬組成物。
水性担体に可溶性である、請求項１８に記載の医薬組成物。
非経口投与用の組成物として調製された、請求項１８に記載の組成物。
新生物疾患、自己免疫疾患、移植関連病変、及び／又は変性疾患の処置用の医薬組成物の調製のための、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の式（II）の化合物又はその薬学的に許容しうる塩の使用。
固形新生物疾患の処置用の医薬組成物の調製のための、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の式（II）の化合物又はその薬学的に許容しうる塩の使用。