JP2013240575A - 粒子線回転照射装置 - Google Patents

Abstract

【課題】粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ小型にできる粒子線回転照射装置を実現することを目的とする。
【解決手段】荷電粒子ビーム１４を照射する照射ノズル８と、荷電粒子ビーム１４を照射ノズル８へ輸送するビーム輸送部１５とを有し、アイソセンタを中心に回転可能な回転部１と、を備え、ビーム輸送部１５は、３個以上の偏向電磁石６を有し、偏向電磁石６の偏向面のいずれか２つを選択して偏向面対とした場合に、少なくとも１つの偏向面対における２つの偏向面が、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、偏向電磁石６が配置されたことを特徴とする。
【選択図】図１

Description

本発明は、加速器で加速した荷電粒子を任意の角度方向から照射することを目的とした粒子線回転照射装置（回転ガントリ）に関する。

シンクロトロン等の加速器（円形加速器）で荷電粒子を周回加速させ、高エネルギーまで加速された荷電粒子（主に陽子や炭素イオン）をその周回軌道から取り出し、ビーム状となった荷電粒子（荷電粒子ビーム、粒子線とも称する）は、ビーム輸送系で輸送して所望の対象物に照射する物理実験や、癌の治療などの粒子線治療に利用されている。加速した荷電粒子による癌治療、所謂、粒子線治療においては、治療する際、重要臓器を避けるためや、正常組織に損傷を与えることを防ぐために、照射方向を変えることが一般的に行われている。荷電粒子ビームの照射方向を変更する変更手段の一つとして、患者の回りで回転する構造体に照射ノズルを搭載し、所望の角度から照射できる粒子線回転照射装置（回転ガントリ）が一般に使われている。

例えば、特許文献１記載の回転ガントリ（適宜、単にガントリとも呼ぶ）は、ビーム輸送ラインが回転ガントリの回転軸に対して垂直になるように２個の偏向電磁石で一度偏向し、その後、ガントリの中心軸に対して垂直な面内で荷電粒子ビームがアイソセンタ（ガントリ回転軸とビーム軸の交点であり、照射目標の基準である）を向くよう２個の偏向電磁石で再度荷電粒子ビームを偏向させて荷電粒子ビームを導いている。このようなビーム輸送ラインは、回転軸方向に対しての回転ガントリの長さが最短となるため、結果的に敷地面積が狭い範囲に回転ガントリを設置することが可能である。このようなビーム輸送ラインを備えた回転ガントリはコークスクリュー（corkscrew）型ガントリと呼ばれること
もある。なお、偏向電磁石は、通常、磁極が２つである２極電磁石である。

また、コークスクリュー型ガントリは、少なくとも４個の偏向電磁石が必要となることも特徴である。理由を以下に説明する。一般に円形加速器から取り出された荷電粒子ビームは運動量がある一つの値ではなく、中心値のまわりに分散を持つ。中心値からのずれ量を中心値で割った値は運動量分散と呼ばれており、運動量分散を持つ荷電粒子ビームは、偏向電磁石を通過する際、荷電粒子ビームの運動量（エネルギー、速さと考えてもよい）の違いにより偏向角が違ってしまうため、そのままにしておくとアイソセンタで粒子が分布する幅（以下、ビーム幅と呼ぶ）、が大きくなってしまう場合がある。

ある位置における中心の運動量を持つ粒子の運動量をｐ_０（中心運動量）とし、運動量分散をΔｐ／ｐ_０とすると、中心運動量ｐ_０を持つ粒子の軌道である中心軌道からのずれΔｘ（運動量分散によるビーム幅の広がり）は、その位置での運動量分散の効果を特徴づける分散関数ηを用いて、式（１）のように表される。分散関数ηは、ビーム輸送ラインの位置の関数である。
Δｘ＝η×Δｐ／ｐ_０ ・・・（１）

一般に、分散関数ηを発生させる要素として偏向電磁石があり、一度分散関数ηが０でなくなると、少なくとも、もう１つの偏向電磁石と４極電磁石を利用してη、η’を消す必要がある。ここで、η’は、ビーム進行方向（ｓ方向、ｓ軸）に対する微分である。実際の照射部位はアイソセンタのような点ではなく深さ方向に幅を持つため、分散関数ηの傾きη’も０にする必要がある。運動量分散が動的に変化すると、荷電粒子ビームが動いているように見える。一般に、回転ガントリはアイソセンタでビーム幅が変化したり、動いたりすることを防ぐため、アイソセンタにおいて、分散関数ηをビーム幅の広がりへの
寄与が許容できる範囲まで小さくすることが要求される。

特許文献１のコークスクリュー型ガントリの場合、上流側の２個の偏向電磁石は同一平面にあるため、１つ目の偏向電磁石で発生した分散関数ηは同一平面に偏向面を持つ他方の偏向電磁石により０にする。このとき偏向電磁石間に設置された複数の４極電磁石は、荷電粒子ビームの収束または発散以外に分散関数ηのｓ方向の傾き（η’）を変えるために使われる。下流側の２つの偏向電磁石の偏向面は、上流側の２つの偏向電磁石の偏向面と９０度異なっており、上流側と同様に、２つの偏向電磁石と偏向電磁石間に設置された複数の４極電磁石によりηとη’は０にされる。一般に、円形加速器から回転ガントリまでのビーム輸送系や回転ガントリのビーム輸送系の設計では、１つの偏向面内にすべての偏向電磁石を配置させ、１方向のみ発生するηとη’を４極電磁石と合わせて０にするタイプや、特許文献１のように、η、η’はｘ、ｙの両方向で発生するものの、偏向面を９０度異なる関係にすることでｘ方向の分散関数ηとｙ方向の分散関数ηとは結合しない、すなわちそれぞれの方向で独立するように複数の偏向電磁石は配置するタイプがある。

次に、η、η’が１方向のみに発生する回転ガントリを説明する。特許文献２記載の回転ガントリでは、３個の偏向電磁石により荷電粒子ビームをアイソセンタまで導いている。偏向電磁石が３個のため、カップリングを利用しなければ、回転ガントリのビーム輸送系の設計において、分散関数の１方向のみを消すことになるため、３個の偏向電磁石により荷電粒子ビームの偏向面は同一となるようにする。このため、特許文献２の回転ガントリにおけるビーム輸送系はコークスクリュー型ガントリに比べて、ビーム回転軸方向は長くなり、その結果、回転ガントリを設置する敷地も広くなる。

近年、粒子線治療の普及に伴い、粒子線治療のスループット向上が求められている。粒子線治療では、患者に荷電粒子ビームを照射する前に、治療の補助を行う人、例えば放射線技師が、患者台や照射ノズルの近くへ行き、患者の体を固定したり、照射ノズルに付ける照射系機器の調整を行ったりする。この際、照射ノズル付近での上記作業の容易さが、上記調整時間の短縮化を図るために、すなわち、治療のスループット向上を図るために、重要である。照射ノズル付近での作業を容易にする回転ガントリの例が、例えば特許文献３に記載されている。特許文献３の図６のように、回転ガントリを、照射装置（照射ノズル）の先端が照射室側に出ている構造（以下、開放型と呼ぶ）にすることにより、照射ノズル付近での作業の容易化を実現することができる。また、照射中の臓器の動きや呼吸による体の動きをリアルタイムに監視しながらより高精度に照射する動体追跡も注目を集めつつあり、照射ノズル周りに監視用機器を設置するため十分なスペースを確保することが望まれている。

米国特許第４９１７３４４号（図１ａ、図１ｂ） 国際公開ＷＯ２００８／０２６６４８Ａ１号（図１） 特開２００６―１９２２９７号公報（図６） 特開２０００―１４０１３４号公報（図１、図２、図６）

特許文献３のような開放型回転ガントリは、特許文献２の回転ガントリと同様に、３個の偏向電磁石により荷電粒子ビームをアイソセンタまで導いているので、構造上は実現可能である。しかし、特許文献１に示された回転ガントリ（コークスクリュー型ガントリ）は、敷地面積が小さくてすむタイプの回転ガントリであり、このタイプの回転ガントリに、開放型の構造を適用することは困難である。この理由を、特許文献４の図を用いて説明する。

特許文献４の回転ガントリは、特許文献１と同様のコークスクリュー型ガントリである。特許文献４の図１及び図２には回転ガントリの左側面図及び正面図が記載され、特許文献４の図６には、アイソセンタＣ_Ｉが内部に示された回転フレームの左側面図が記載されている。特許文献４の回転ガントリは、照射ノズル（特許文献４の符号１５）が回転フレーム（特許文献４の符号２）の内部に設置され、アイソセンタＣ_Ｉが回転フレームの内部にあるものである。特許文献４の回転ガントリは、特許文献３のように、照射ノズル（特許文献３の符号８）がフレーム（特許文献３の符号１）の外部にある回転ガントリとは異なる。

特許文献１や特許文献４のようなコークスクリュー型ガントリでは、下流側の２個の偏向電磁石が回転軸に対して、垂直な面上で一列に並べることで敷地面積を小さくしているので、最終の偏向電磁石の下に配置される照射ノズルを治療室側に配置する開放型回転ガントリを実現するには、照射ノズルと最下流の偏向電磁石以外にも最下流の偏向電磁石と対になる他の偏向電磁石も治療室側に出すことになる。２個の偏向電磁石と照射ノズルを回転ガントリのフレームで支えることは困難なので、コークスクリュー型ガントリにおいて開放型回転ガントリを実現することは困難である。したがって、特許文献１や特許文献４のコークスクリュー型ガントリでは、特許文献２の回転ガントリと同様に、穴状の狭い空間（内室）で患者に照射することが避けられず、照射ノズル付近での作業は難しい。また、２個の偏向電磁石と照射ノズルを治療室側に配置することができたとしても、照射ノズル周りに監視用機器を設置するスペースや、照射ノズル付近での作業が容易となるようなスペースを十分に確保することができない。

従来、アイソセンタにおいて、ビーム位置の運動量分散依存性を消すために、特許文献１のようなコークスクリュー型の回転ガントリが使われてきたが、開放型を実現するには、敷地面積の大きい回転ガントリ、すなわち特許文献２や特許文献３のような、すべての偏向電磁石の偏向面が同一となるような偏向電磁石の配置が必要であり、敷地面積が小さなガントリの実現が困難であるという課題があった。

特許文献３のように、粒子線治療のスループットを向上するのに適した開放型回転ガントリは、照射ノズルが照射室側に出ていることにより、照射ノズル付近での患者位置決め作業の容易化を実現することができるものの、すべての偏向電磁石の偏向面が同一となるように偏向電磁石を配置するので、敷地面積が大きくなるという課題があった。

本発明は、粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ小型にできる粒子線回転照射装置を実現することを目的としている。

本発明に係る粒子線回転照射装置は、荷電粒子ビームを照射する照射ノズルと、荷電粒子ビームを照射ノズルへ輸送するビーム輸送部とを有し、アイソセンタを中心に回転可能な回転部と、を備え、ビーム輸送部は、３個以上の偏向電磁石を有し、偏向電磁石の偏向面のいずれか２つを選択して偏向面対とした場合に、少なくとも１つの偏向面対における２つの偏向面が、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、偏向電磁石が配置されたことを特徴とする。

本発明に係る粒子線回転照射装置によれば、偏向電磁石の偏向面のいずれか２つを選択して偏向面対とした場合に、少なくとも１つの偏向面対における２つの偏向面が、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、偏向電磁石が配置されたので、小型の粒子線回転照射装置であっても、患者位置決め作業を行う作業空間を広くでき、粒子線治療のスループットを向上することができる。

本発明の実施の形態１による粒子線回転照射装置を示す側面図である。 図１の粒子線回転照射装置を示す正面図である。 図１のビーム輸送部を示す図である。 図１の粒子線回転照射装置を照射室側からみた斜視図である。 本発明の実施の形態２による粒子線回転照射装置を示す側面図である。 図５の粒子線回転照射装置を示す正面図である。 本発明の４極電磁石の作用方向を説明する図である。 本発明の実施の形態３による４極電磁石の磁極の作用方向配置を示す図である。 従来の４極電磁石の磁極の作用方向配置を示す図である。 図８の４極電磁石の設置位置を示す図である。 本発明の実施の形態３による４極電磁石の回転駆動機構を示す図である。

実施の形態１．
図１は本発明の実施の形態１による粒子線回転照射装置を示す側面図であり、図２は本発明の実施の形態１による粒子線回転照射装置を示す正面図である。図３は、本発明の実施の形態１によるビーム輸送部を示す図である。粒子線回転照射装置２０は、アイソセンタの周りを回転する回転部１と、回転部１を支える支持台４ａ、４ｂと、回転部１を回転させる回転駆動系（図示せず）とを備える。回転部１は、胴体部１３と、荷電粒子ビーム１４を輸送するビーム輸送部１５と、荷電粒子ビーム１４を照射対象１９に照射する照射ノズル８（図３参照）と、ビーム輸送部１５と重量バランスをとるためのウェイト７を備える。胴体部１３は、フロントリング２と、リアリング（ベアリング）３と、複数の支持部材１０とを有し、ビーム輸送部１５を支える構造体である。

図３は、本発明の特徴となる偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの配置をわかりやすくするために、ビーム輸送部１５及び照射ノズル８を取り出した図である。図１〜図３において、床部分は省略した。ビーム輸送部１５は、ビーム輸送ダクト１２と、３個の偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃと、４個の４極電磁石５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄを有する。ビーム輸送部１５には、照射ノズル８内のワブラー電磁石や、スキャニング電磁石は含まない。なお、偏向電磁石の符号は、総括的に６を用い、区別して説明する場合に６ａ、６ｂ、６ｃを用いる。４極電磁石の符号は、総括的に５を用い、区別して説明する場合に５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄを用いる。支持台の符号は、総括的に４を用い、区別して説明する場合に４ａ、４ｂを用いる。偏向電磁石６及び４極電磁石５はビーム輸送電磁石である。

ビーム輸送ダクト１２は、内部を真空にする真空ダクト等である。円形加速器（シンクロトロン）で加速された荷電粒子ビーム１４は、真空にされたビーム輸送ダクト１２の内部を通過する。偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃは、それぞれ荷電粒子ビーム１４を所定の方向に偏向する。４極電磁石５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄは、それぞれ荷電粒子ビーム１４を収束または発散させると共に、荷電粒子ビーム１４の分散関数ηのビーム経路方向の傾きη’を変化させて、ビーム幅が許容範囲内になるように調整する。

本発明の特徴は、３個の偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃによる３つの偏向面を、２つで組（３通りの組）にした場合のうち最低一組は同一平面上になく、かつ平行でもなく、かつ直交もしていないようにしたものである。言い換えると、３個の偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向面をそれぞれ、延長させて交差させたときに、２つで組（３通りの組）にした場合のうち最低１組の偏向面同士のなす角度が０度よりも大きく、９０度よりも小さいことを意味している。さらに言い換えると、３つの偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向磁場（２極磁場）を２つで組（３通りの組）にし、磁場の方向をビーム進行方向に対して垂直なｘｙ平面上で見た場合に、最低一組のなす角度が０度よりも大きく、９０度よりも小さいことを意味している。そのため、偏向電磁石６や４極電磁石５の磁場を受けたｘ方向及びｙ方向の粒子に運動が、独立した関係になっておらず、カップリングしている。ここで、ｘ軸及びｙ軸は、ビーム進行方向（ｓ方向、ｓ軸）に対して垂直な２軸である。粒子線回転照射装置２０は回転するため、ここで説明するｘ軸及びｙ軸は、ある回転角における最上流側の、すなわち１つ目の偏向電磁石６ａの入口側における磁極間の２極磁場方向と、これに垂直な方向と定義する。

一般的に、特許文献２や特許文献３のような粒子線回転照射装置（回転ガントリ）は、偏向電磁石の偏向面が同一平面上にくるように配置することで、偏向電磁石及び４極電磁石が分散関数ηや、ηのビーム経路方向の傾きη’を変化させる効果を利用している。この効果を利用することで、粒子線回転照射装置（回転ガントリ）では、分散関数ηを０にし、またはビーム幅への寄与が十分小さい程度に小さくし、アイソセンタにおけるビーム径の運動量分散依存性を消すことが行われる。ここで、偏向電磁石はηを発生させることができるが、４極電磁石は傾きη’を変えるだけである。ずっと０つまりη＝０かつη’＝０は実現させるには、４極電磁石で傾きη’を変えて、偏向電磁石で逆符号のηを発生させるしかない。同一平面で例えばα度曲げた後に反対方向にα度曲げれば、偏向電磁石だけでη＝０かつη’＝０は実現できる。しかし、このようにすると、荷電粒子ビームの輸送の途中で、ηが大きくなりすぎてダクトにビームがぶつかることがある。特許文献１や特許文献４のようなコークスクリュー型ガントリの場合は、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれで、運動量分散依存性が発生する。すなわち、ηｘ≠０、ηｙ≠０になる。しかし、コークスクリュー型ガントリの場合は、ｓ軸及びｘ軸を含む面上でビームを曲げる偏向電磁石２個と、ｓ軸及びｙ軸を含む面でビームを曲げる偏向電磁石２個と、偏向電磁石間に４極電磁石を備えることで、ηｘ＝０、ηｙ＝０、ηｘ’＝０、ηｙ’＝０にすることができ、その結果、アイソセンタでｘ方向及びｙ方向のそれぞれで、ビーム幅の運動量依存性を消すだけでなく、傾きη’（ηｘ’、ηｙ’）も０にすることができる。

本実施の形態１のように偏向電磁石を設置した場合、すなわち、３個の偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃによる３つの偏向面を、２つで組（３通りの組）にした場合のうち最低一組は同一平面上になく、かつ平行でもなく、かつ直交もしていないようにした場合、ｘ方向及びｙ方向の粒子の運動がカップリングする。このため、偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃのそれぞれの偏向面は、従来のように独立して分散関数を０（または十分小さくする）にするのとは異なり、ｘ方向及びｙ方向の粒子の運動のカップリングを利用して、アイソセンタにおいて、結果的に両方向とも分散関数ηｘ、ηｙとその傾きηｘ’、ηｙ’を共に０もしくは十分小さな値にすることが可能である。この方法を、ビーム設計計算で使われる輸送行列用いて、以下に説明する。

荷電粒子ビーム内の単一粒子に注目したとき、輸送行列は式（２）のように定義できる。ｘ’、ｙ’は、それぞれ、粒子の位置（ｘ，ｙ）のビームの進行方向をｓ軸としたときのｓ方向の傾きを示している。式（２）の左辺は、アイソセンタにおける粒子の位置（ｘ，ｙ）と、この粒子の位置におけるｓ方向傾き（ｘ’，ｙ’）と、運動量分散Δｐ／ｐ_０を示している。式（２）の右辺は、輸送行列Ｍと、ガントリ入り口での粒子の位置（ｘ，ｙ）と、この粒子の位置におけるｓ方向傾き（ｘ’，ｙ’）と、運動量分散Δｐ／ｐ_０を示している。

輸送行列Ｍは、回転ガントリのビーム輸送ライン（実施の形態１のビーム輸送部１５に相当する）に設置された４極電磁石と偏向電磁石の磁場の値、ドリフト長によって決定される正味の輸送行列である。ここで、ドリフトは磁場のない直線区間（ドリフト区間）であり、ドリフト長は磁場のない直線区間（ドリフト区間）の長さである。ｘ方向の分散関数ηｘはｒ_１５、分散関数ηｘの傾きηｘ’はｒ_２５であり、ｙ方向の分散関数ηｙはｒ_３５、分散関数ηｙの傾きηｙ’はｒ_４５である。

磁場や、ドリフトの個々の要素の輸送行列をＭ_ｎとし、ｎ個のドリフトを有する場合、回転ガントリの正味の輸送行列は式（３）のように表される。

ｘ方向及びｙ方向の粒子の運動のカップリングを利用しない回転ガントリでは一般にガントリの正味の輸送行列は式（４）のように表される。

式（４）の輸送行列から明らかなように、粒子の位置のｘまたはｙとこの粒子の位置におけるｓ方向傾きであるｘ’またはｙ’のそれぞれは３つの項の加算になるので、アイソセンタにおける粒子の運動は、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれを３×３の輸送行列で独立に計算しているのと等価である。従来は、それぞれが独立するようにし、すなわちｘ方向及びｙ方向の粒子の運動のカップリングは考えないようにするため、輸送行列Ｍのｒ_１５（ｘ方向の分散関数ηｘ）とｒ_３５（ｙ方向の分散関数ηｙ）を０にし、ｓ方向への分散関数ηｘ、ηｙの傾きｒ_２５（傾きηｘ’）とｒ_４５（傾きηｙ’）も０にする。この調整
は、複数の４極電磁石の磁場強度の値を調整することで行われる。２極電磁石は、そもそも荷電粒子ビームをアイソセンタまで導く目的あり、偏向角度は決められており、２極電磁石の磁場の値が決まっているので、分散関数ηｘ、ηｙ及びその傾きηｘ’、ηｙ’を調整するには、２極電磁石の磁場の値を変更することにより調整することができない。２極電磁石とは異なり、４極電磁石は、荷電粒子ビームの収束または発散作用の目的もあるが、こちらは一意的に磁場の値を決めるわけではないため、４極電磁石の磁場は、分散関数ηｘ、ηｙ及びその傾きηｘ’、ηｙ’を調整する調整パラメータとなる。

以上のように従来は、偏向電磁石の磁場で発生してしまうｘ方向の分散関数η（ηｘ）と、分散関数ηのｓ方向の傾きη’（ηｘ’）を、十分小さくするためには、少なくとも偏向面が同一平面にあるもう１つの偏向電磁石を設置する必要がある。４極電磁石を追加しても、これのみではη、η’の両方を０にすることはできないため、もう１つの偏向電磁石が必要となる。これは、ｙ方向も同様である。回転ガントリの回転に伴う、輸送行列の変化に対しては、回転ガントリに入射する入射ビームがηｘ＝０、ηｙ＝０、ηｘ’＝０、ηｙ’＝０となるようにすれば、ある回転角度のアイソセンタでηｘ＝０、ηｙ＝０、ηｘ’＝０、ηｙ’＝０ならば、他のすべての角度でηｘ＝０、ηｙ＝０、ηｘ’＝０、ηｙ’＝０が成立する。

しかしながら、上記のようにｘ方向及びｙ方向の粒子の運動のカップリングがない従来のビーム輸送系では、偏向電磁石の偏向面が１種類の場合もしくは互いに９０度の関係となる２種類の場合しかない。これに対して、本実施の形態１のビーム輸送部１５における偏向電磁石６の設置条件は、従来に比べて上記の偏向面の制限がないため、設計の自由度が高い。例えば、２つ目の偏向電磁石６ｂの設置条件を、偏向電磁石６ｂの偏向面が１つ目の偏向電磁石６ａの偏向面と同一平面上にない、または平行でない、または直交していない場合は、ｘ、ｙ両方向に磁場がかかり、回転ガントリの回転角度にかかわらず、輸送行列Ｍは式（５）のように表わされる。なお、２つ目の偏向電磁石６ｂの輸送行列をＭ_２と表現した。

このため、これ以降の偏向電磁石６や４極電磁石５の磁場が、それぞれｘ方向またはｙ方向のどちらか１方向しか作用しない条件で配置しても、すなわち、単一の要素としては、式（４）の右辺のように輸送行列を定義しても、ビーム輸送部１５全体の正味の輸送行列Ｍは、２つ目の偏向電磁石６ｂの輸送行列Ｍ_２の影響を受けるので、全体の正味の輸送行列Ｍのｒ_１５、ｒ_２５、ｒ_３５、ｒ_４５は、それぞれ、ｘ方向またはｙ方向の独立成分だけでなく、相関成分、すなわち他の方向成分の影響を受ける。

これを逆手にとれば、全体の正味の輸送行列Ｍのｒ_１５、ｒ_２５、ｒ_３５、ｒ_４５は、相関成分、すなわち他の方向成分の影響を受けるので、複数の４極電磁石の設置位置、設置数、磁場の値を適切に調整すれば、ｒ_１５、ｒ_２５、ｒ_３５、ｒ_４５の値、すなわち分散関数ηｘ（ｒ_１５）、ηｙ（ｒ_３５）とその傾きηｘ’（ｒ_２５）、ηｙ’（ｒ_４５）を、０または十分小さい値にすることが可能である。したがって、全体の正味の輸送行列Ｍのｒ_１５、ｒ_２５、ｒ_３５、ｒ_４５を０または十分小さい値にするために、偏向面が同一となるように２つの偏向電磁石を設置することは必須ではないことが分かる。すなわち、特許文献１や特許文献４のように、下流側の偏向電磁石を、その偏向面が上流側の偏向電磁石の偏向面と同一になるように設置しなくてもよい。

複数の４極電磁石の設置位置、設置数、磁場の値を調整すれば、ビーム輸送部１５のビーム経路をねじったような、すなわち実施の形態１のような粒子線回転照射装置２０であっても、ビーム輸送部１５の出口やアイソセンタにおいて、分散関数ηｘ、ηｙとその傾きηｘ’、ηｙ’を０または十分小さい値にすることができ、ビーム幅の運動量分散依存性を小さくすること、すなわち、運動量分散Δｐ／ｐ_０のビーム幅への寄与が十分小さい程度に消すことが、可能となる。数学的には、行列要素の４つの成分ｒ_１５、ｒ_２５、ｒ_３５、ｒ_４５を、０もしくは十分小さい値にする解は、少なくとも４つの調整パラメータがあれば所望の解が存在する可能性が高い。もちろん４つ以上、つまり４極電磁石が４個以上あるほうが調整は容易となる。

さらに、偏向電磁石６もコークスクリュー型よりも１個少ない３個で実現することも可能となる。さらに、図４のように、照射ノズル８の先端が照射室側にでてくるように設置すれば、小型でかつ、開放型の回転ガントリを実現することが可能となる。図４は、図１の粒子線回転照射装置を照射室側からみた斜視図である。回転正面カバー１６は、回転部１の正面側を覆うように、回転部１に設置されたカバーであり、回転部１の回転に伴って回転する。回転正面カバー１６は、照射室壁１７に開けられた貫通孔に、回転可能に配置される。実施の形態１の粒子線回転照射装置２０は、開放型回転ガントリであり、最終の偏向電磁石６ｃが、照射室壁１７に対して斜めに配置される点が特徴である。実施の形態１の粒子線回転照射装置２０は、治療台９を照射室床１８に設置できる開放型の回転ガントリであるので、治療台９を回転ガントリの狭い内室に設置していたものとは異なり、患者の位置決め作業が容易にでき、粒子線治療のスループットが向上する。

本実施の形態では、図３から分かるように、偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向面の全てが、それぞれ同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行しないように、ビーム輸送部１５を構成している。そして、ビーム輸送部１５の４極電磁石５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄにより、ビーム輸送部１５の出口、すなわち最下流側の偏向電磁石６ｃの出口における荷電粒子ビーム１４のビーム幅（ビーム径）を許容範囲内になるように、すなわち、偏向電磁石６ｃの出口において荷電粒子ビーム１４の分散関数ηｘ、ηｙとその傾きηｘ’、ηｙ’を０または十分小さい値になるように、それぞれの磁場を設定している。実施の形態１の粒子線回転照射装置２０は、偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向面の全てが、それぞれ同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、ビーム輸送部１５を構成し、ビーム輸送部１５の４極電磁石５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄにより、ビーム輸送部１５の出口、すなわち最下流側の偏向電磁石６ｃの出口において荷電粒子ビーム１４の分散関数ηｘ、ηｙとその傾きηｘ’、ηｙ’を０または十分小さい値になるように、それぞれの磁場を設定することで、小型でかつ開放型の粒子線回転照射装置２０を実現することができる。

なお、偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向面の全てが、それぞれ同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、ビーム輸送部１５を構成する場合に限らず、偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向面のいずれか２つを組にした場合に、このうち１組でも同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないような関係であれば、どのようにｘ軸及びｙ軸をとっても磁場がｘ、ｙ両方向に粒子の運動がカップルするように作用するので、言い換えると、輸送行列をＭ_ｎのいずれかは式（５）のようになるので、上記の説明は成立する。したがって、この場合もビーム輸送部１５の４極電磁石５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄにより、ビーム輸送部１５の出口、すなわち最下流側の偏向電磁石６ｃの出口において荷電粒子ビーム１４の分散関数ηｘ、ηｙとその傾きηｘ’、ηｙ’を０または十分小さい値になるように、それぞれの磁場を設定することで、小型でかつ開放型の粒子線回転照射装置２０を実現することができる。

しかしながら当然、偏向電磁石６ａ、６ｂ、６ｃの偏向面の全てが、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行しない関係の方が、４極電磁石５ａ、５ｂ、５ｃ、５ｄの磁場を調整する自由度が高いため、所望のビームパラメータ（ビームサイズやビームの進行方向（ビーム中心軸方向）に対する傾き）を得ることは容易である。また、偏向電磁石６を３個にすることで、偏向電磁石６が４個の場合に比べて、偏向電磁石６の個数を最小にでき、低コストの粒子線回転照射装置２０を実現することができる。また、偏向電磁石６として、端部の磁場を含めた４極成分を利用する偏向電磁石を用いることで、４極電磁石５の一部を代用させ、４極電磁石５の数を減らして、コスト削減を図ることも可能である。

以上のように、実施の形態１の粒子線回転照射装置２０によれば、荷電粒子ビーム１４を照射する照射ノズル８と、荷電粒子ビーム１４を照射ノズル８へ輸送するビーム輸送部１５とを有し、アイソセンタを中心に回転可能な回転部１と、を備え、ビーム輸送部１５は、３個以上の偏向電磁石６を有し、偏向電磁石６の偏向面のいずれか２つを選択して偏向面対とした場合に、少なくとも１つの偏向面対における２つの偏向面が、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、偏向電磁石６が配置されたので、荷電粒子がｘ方向及びｙ方向の運動がカップルするため、ｘ方向及びｙ方向のそれぞれに対して独立に調整する必要がなくなり、小型の粒子線回転照射装置であっても、患者位置決め作業を行う作業空間を広くでき、粒子線治療のスループットを向上することができる。

実施の形態２．
図５は本発明の実施の形態２による粒子線回転照射装置を示す側面図であり、図６は本発明の実施の形態２による粒子線回転照射装置を示す正面図である。実施の形態２の粒子線回転照射装置２０は、開放型ではない構造である。最後の２個の偏向電磁石６ｂ、６ｃが一列に並ばないために、特許文献１や特許文献４の粒子線回転照射装置に比べて、患者が治療を受ける際に入る横穴部分である内室の間口を広くとることができ、比較的開放的な回転ガントリを実現することができる。実施の形態２の粒子線回転照射装置２０は、開放型としないため、実施の形態１の粒子線回転照射装置２０に比べて、照射ノズル８の支持が容易にできるメリットがある。

実施の形態２の粒子線回転照射装置２０は、特許文献１や特許文献４の粒子線回転照射装置に比べて、患者が治療を受ける際に入る横穴部分である内室の間口を広くとることができ、比較的開放的な回転ガントリを実現することができるので、粒子線治療のスループットを向上することができ、かつ小型の粒子線回転照射装置を実現することができる。実施の形態２の粒子線回転照射装置２０は、小型の粒子線回転照射装置であっても、照射ノズル８付近での作業を行う作業空間を広くでき、粒子線治療のスループットを向上することができる。また、広いスペースを生かして、監視用機器を設置することで動体追跡を行いながら照射することも容易である。

実施の形態３．
実施の形態１では、複数の４極電磁石の設置位置、設置数、磁場の値を調整すれば、ビーム輸送部１５のビーム経路をねじったような、すなわち実施の形態１のような粒子線回転照射装置２０であっても、ビーム輸送部１５の出口やアイソセンタにおいて、分散関数ηｘ、ηｙとその傾きηｘ’、ηｙ’を０または十分小さい値にすることができ、ビーム幅の運動量分散依存性を小さくすることが可能であることを説明した。実施の形態３では、４極電磁石５の磁極の配置位置を工夫することで、アイソセンタにおいてｘｙ相関のないビーム輸送ができることを説明する。

まず、４極電磁石５の磁極２１と、荷電粒子ビーム１４の収束、発散方向の関係を説明する。図７は、本発明の４極電磁石の作用方向を説明する図である。４極電磁石５は４つの磁極２１ａ、２１ｂ、２１ｃ、２１ｄと、それぞれに巻かれたコイル２２ａ、２２ｂ、２２ｃ、２２ｄを備え、それらにより破線矢印２３、２４の方向にそれぞれ荷電粒子ビーム１４を収束、発散させるための電磁石である。中心から外側への向きは発散方向であり、外側から中心への向きは収束方向である。破線矢印２３、２４の方向を、収束、発散させる作用方向２３、２４と呼ぶことにする。一般的に、従来のビーム輸送系では、４極電磁石５は作用方向２３、２４が偏向電磁石６の偏向面に対して垂直または平行に設置され、粒子のｘ方向及びｙ方向の運動をカップリングさせずに使用する。すなわち、従来のビーム輸送系における４極電磁石５は、図９に示すように偏向電磁石６の偏向面５５が、作用方向２３に平行になるように、作用方向２４に垂直になるように、配置される。図９は、従来の４極電磁石の磁極の作用方向配置を示す図である。

次に回転ガントリにおけるビームの取り扱いについて説明する。ビームを形成する個々の荷電粒子は、式（２）によってドリフト後の位置と進行方向の傾きとが決まるが、荷電粒子の集合であるビームのパラメータ（ビームサイズ、ビーム進行方向（ビーム中心軸方向）に対するビームの傾き）はその粒子分布の統計量である、σ行列で記述することができ、式（６）で表される。

また、σ行列と輸送行列Ｍとの関係は、式（７）で表される。式（７）は、文献（Jean Buon LAL/RT96-03 April 1996）に示されている。特許文献１〜４に記載の回転ガントリでは、座標系も回転とともに回せば、理想的にはビームのパラメータ（ビームサイズ、ビーム進行方向（ビーム中心軸方向）に対するビームの傾き）のｘｙ相関成分のないビーム輸送設計を行うことができる。

次に、前述した４極電磁石５の磁極の配置位置について説明する。図８は本発明の実施の形態３による４極電磁石の磁極の作用方向配置を示す図であり、図１０は図８の４極電磁石の設置位置を示す図である。本発明の回転ガントリ（粒子線回転照射装置２０）では、荷電粒子ビーム１４のｘ軸およびｙ軸をどのような直交する２軸に選んでも輸送行列Ｍのｘ方向及びｙ方向の粒子の運動の相関を作る成分（ｒ_１３、ｒ_１４、ｒ_２３、ｒ_２４、ｒ_３１、ｒ_３２、ｒ_４１、ｒ_４２）が０とはならないため、σ_１（ガントリに入射されるビームの分散）にｘｙ相関がなくても、式（７）よりσ_２（ガントリから出射されるビームの分散）のビームパラメータ（ビームサイズ、ビーム進行方向（ビーム中心軸方向）に対するビームの傾き）のｘｙ相関を示す成分（σ_１３＝σ_３１、σ_１４＝σ_４１、σ_２３＝σ_３２、σ_２４＝σ_４２）が０ではなくなる。この場合、特に最終の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｃ）の後からアイソセンタまでの間で、荷電粒子ビーム１４におけるｘｙ両方向のビーム径（ビーム幅）を絞っていこうとする際、片方のビーム径やその傾きが常にもう一方の方向に影響を与えるため両方向の調整が難しくなる。さらにｘｙ相関のあるビームを考慮した治療計画を立てる必要が生じる。すなわち、実施の形態１の粒子線回転照射装置２０では、上記の課題が残っている。

上記の課題は、偏向電磁石６の偏向面に対して水平、垂直な２軸を、荷電粒子ビーム１４のｘ軸およびｙ軸に選べばカップリングのない、つまりσ_１３＝σ_３１＝０、σ_１４＝σ_４１＝０、σ_２３＝σ_３２＝０、σ_２４＝σ_４２＝０としてσ行列をｘ方向、ｙ方向を独立して考えることができる従来の回転ガントリにはない課題である。そこで、図８のように、４極電磁石５を、その収束方向、発散方向が両隣（４極電磁石５の上流側直近、下流側直近）の偏向電磁石６の偏向面２５、２６と平行でも垂直でもない位置になるような磁極位置で設置する。このように設置すると、４極電磁石５の輸送行列Ｍの粒子の運動のｘｙ相関を作る成分は０ではないため、本発明の条件で配置された偏向電磁石によって生じる粒子の運動のｘｙ相関を作る成分に作用し、最終の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｃ）でビーム径が０またはビーム径への影響が十分無視できる程度に小さくすることが可能となる。図８では、偏向面２５と作用方向２３との角度がθ１（０＜θ１＜９０°）であり、偏向面２６と作用方向２３との角度がθ２（０＜θ２＜９０°）である例を示した。

また、実施の形態３の粒子線回転照射装置２０は、４極電磁石５の磁場強度と４極電磁石５のビーム経路上の配置位置のみを設計パラメータとして扱っていた従来に比べて、さらにビーム中心に対する４極電磁石５の回転角（図８の角度θ１、θ２）を調整パラメータとして設計でき、設計の自由度を増すことができる。なお、従来は４極電磁石５の回転角は、図９に示すように、９０°（θ３）であり、調整パラメータとはならない。図１１に示すように、４極電磁石５を回転駆動が可能なような回転駆動機構３０を設ければ、磁場誤差等により設計と異なるビーム径となった場合でも、４極電磁石５の回転角θを調整することができ、ビーム径の調整の自由度が増すことも期待できる。図１１は、本発明の実施の形態３による４極電磁石の回転駆動機構を示す図である。回転駆動機構３０は、リング３１と、４極電磁石５とリング３１とを接続する支持材３２と、リング３１を回転する回転駆動機３３とを備える。

一般的に、ビーム輸送系では磁場誤差の影響によって、目標の場所、例えばアイソセンタにおいてビームの軌道中心が設計と異なってしまうことを補正するために、様々な調整方法が用いられている。例えば、ステアリング電磁石（２極電磁石）をビーム輸送系に設置し励磁する方法や、ビーム輸送系の偏向電磁石６に補助コイルを巻き、補助コイルに電流を流し励磁する方法や、ビーム輸送系の偏向電磁石６に軌道補正に必要な磁場分の電流をオフセット（offset）として流しておく方法等により、アイソセンタにおいて、軌道補正（軌道中心を設計通りに戻す）が行われる。また、軌道補正はｘ、ｙ方向のビームパラメータ（ビームサイズ、ビーム進行方向（ビーム中心軸方向）に対するビームの傾き）がカップルしてない場合はｘ軸とｙ軸のそれぞれで行うのが一般的であり、これを行うためにはｘ方向に磁場をかける磁石とｙ方向に磁場をかける磁石が必要となる（両方向に２極磁場を発生させる１台の磁石で行う場合もある。）。

本発明の粒子線回転照射装置２０においても、上記の方法を用いることもあるが、この際、ｘｙ相関がある場所で上記補正方法を使用しても、ｘ方向に磁場をかけたときにｘｙ相関の影響からｙ方向だけでなくｘ方向のビームにも影響を与えてしまい、調整時間が長くなる場合がある。特に照射ノズル８から出射された荷電粒子ビーム１４は治療に使う直前のビームであるため、ｘｙ相関を十分小さくしてから軌道補正を行うことが望まれる。このため、最後から２番目の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｂ）で最終の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｃ）の偏向面に対して垂直、平行な２軸の相関が消えているようにしてから、ステアリング電磁石を設置区間３６（上流側から２番目の偏向電磁石６ｂと３番目の偏向電磁石６ｃの間）に設置し、軌道補正を２軸独立で行えるようにしておくと荷電粒子ビーム１４の軌道を補正することが容易となる。

この場合、図８に示した磁極配置の４極電磁石５は、最後から２番目の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｂ）より手前、例えば図１０のように偏向電磁石６が３台（３個）のガントリの場合は、上流側から１番目の偏向電磁石６ａと２番目の偏向電磁石６ｂの間である設置区間３４か、１番目の偏向電磁石６ａの前である設置区間３５もしくはその両方に設置することになる。なお、図８に示した磁極配置の４極電磁石５も、回転ガントリとの相対位置を維持しながら回転ガントリとともに回転する。

実施の形態３の粒子線回転照射装置２０は、ビーム輸送部１５において、収束方向、発散方向がともに、両隣（上流側直近及び下流側直近）の偏向電磁石６の偏向面２５、２６に対して平行でもなく、かつ垂直でもない４極電磁石５を少なくも１台設置したので、アイソセンタにｘｙ相関のない荷電粒子ビーム１４を輸送することができる。また、実施の形態３の粒子線回転照射装置２０は、収束方向、発散方向がともに、両隣（上流側直近及び下流側直近）の偏向電磁石６の偏向面２５、２６に対して平行でもなく、かつ垂直でもない４極電磁石５を、ビーム輸送部１５における最後から２台目の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｂ）より前のドリフト区間（設置区間３４、３５）に設置したので、アイソセンタにｘｙ相関のない荷電粒子ビーム１４を輸送することができ、かつビームの軌道補正が容易にできる。

次に照射野拡大用電磁石またはスキャニング電磁石の設置について述べる。最終の偏向電磁石６ｃでｘｙ相関を消す場合、ビームを拡大する２台で１組の照射野拡大用電磁石（例えばワブラー電磁石）、もしくはビームを走査するための２台で１組のスキャニング電磁石は、最終の偏向電磁石６ｃからアイソセンタまでの間に設置される、すなわち照射ノズル８内に配置される。このときの荷電粒子ビーム１４のｘ軸及びｙ軸を、最終の偏向電磁石６ｃの偏向面に対して垂直、平行の２軸とすると、上記の照射野拡大用電磁石もしくはスキャニング電磁石をその偏向面が最終の偏向電磁石６ｃの偏向面に対して垂直又は平行になるように設置すれば、治療時にもｘｙ相関がない状態が維持されるため、ｘｙ相関を考慮した治療計画を立てる必要がなく、治療計画の作成時間の軽減が期待できる。

実施の形態３の粒子線回転照射装置２０は、ビーム輸送部１５の最終の偏向電磁石６ｃからアイソセンタまでの間に配置された照射野拡大用電磁石またはスキャニング電磁石を、その２極磁場の方向が最終の偏向電磁石６ｃの磁場の方向に対して平行又は垂直になるように配置したので、アイソセンタにｘｙ相関のない荷電粒子ビーム１４を輸送することができ、かつアイソセンタにおけるビーム径の調整やビーム中心位置の調整が容易にできる。

さらに、両隣の偏向電磁石の偏向面に対して平行でもなく、かつ垂直でもない少なくとも１台の４極電磁石を最後から２台目の偏向電磁石（図１０の偏向電磁石６ｂ）より前のドリフト区間に設置するだけで粒子の運動のｘ、ｙ方向の２軸の相関を十分小さくできる場合は、設置区間３６のビームがすでにｘｙ相関が消えている（最終の偏向電磁石６ｃの磁場方向に対して）ことから、設置区間３６に照射野拡大電磁石またはスキャニング電磁石を設置することが可能となる。このようにすると、照射ノズル８部分が小さくなり、ガントリの回転径を小さくする効果が期待できる。

また、軌道補正は、２極電磁石で行うため、最後から２番目の偏向電磁石６ｂと最終の偏向電磁石６ｃの間に垂直２軸方向にビーム走査する２台で１組のビーム走査用電磁石（スキャニング電磁石）もしくは照射野拡大用電磁石（ワブラー電磁石）を設置し、このビーム走査用電磁石もしくは照射野拡大用電磁石の少なくとも１つの磁石に補助コイルを巻いたり、又はオフセット（offset）の電流励磁を行うことで、ｘｙカップリングしない軌道補正を行うことでも可能である。このとき、ビーム走査用電磁石もしくは照射野拡大用電磁石は、２極磁場方向が最終の偏向電磁石６ｃの偏向面に対して水平、又は垂直な方向に設置する。なお、この場合、ビーム走査用電磁石もしくは照射野拡大用電磁石は、照射ノズル８から配置が変更され、ビーム輸送部１５に組み込まれることになる。

実施の形態３の他の粒子線回転照射装置２０は、ビーム輸送部１５の最終の偏向電磁石６ｃとこの最終から２番目の偏向電磁石６ｂとの間に、ビーム走査用電磁石もしくは照射野拡大用電磁石を、その２極磁場の方向が最終の偏向電磁石６ｃの磁場の方向に対して平行又は垂直になるように配置したので、アイソセンタにｘｙ相関のない荷電粒子ビーム１４を輸送することができ、かつ磁場誤差に対する軌道中心のずれの補正が容易にできる。また、実施の形態３の他の粒子線回転照射装置２０は、上記のようにしたので、ビーム走査用電磁石もしくは照射野拡大用電磁石に、ステアリング磁石の役割を持たせることができ、ステアリング磁石の台数を減らすことができる。

１…回転部、６、６ａ、６ｂ、６ｃ…偏向電磁石、８…照射ノズル、１４…荷電粒子ビーム、１５…ビーム輸送部、１７…照射室壁、２０…粒子線回転照射装置、２３、２４…破線矢印（作用方向）、２５、２６…偏向面。

Claims (10)

1. 加速器により加速された荷電粒子ビームを、アイソセンタを中心にした任意の角度方向から照射する粒子線回転照射装置であって、
   前記荷電粒子ビームを照射する照射ノズルと、前記荷電粒子ビームを前記照射ノズルへ輸送するビーム輸送部とを有し、前記アイソセンタを中心に回転可能な回転部と、を備え、前記ビーム輸送部は、３個以上の偏向電磁石を有し、
   前記偏向電磁石の偏向面のいずれか２つを選択して偏向面対とした場合に、少なくとも１つの偏向面対における２つの偏向面が、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、前記偏向電磁石が配置されたことを特徴とする粒子線回転照射装置。
2. 前記ビーム輸送部は、前記偏向電磁石の偏向面のいずれか２つを選択して偏向面対とした場合に、全ての偏向面対における２つの偏向面が、同一平面になく、かつ平行でもなく、かつ直行していないように、前記偏向電磁石が配置されたことを特徴とする請求項１記載の粒子線回転照射装置。
3. 前記ビーム輸送部は、その出口における前記荷電粒子ビームの分散関数の値及び、前記荷電粒子ビームの進行方向に対する前記分散関数の傾きの値を、前記アイソセンタにおける前記荷電粒子ビームのビーム幅が許容範囲内となるように、前記偏向電磁石の磁場が設定されたことを特徴とする請求項１または２に記載の粒子線回転照射装置。
4. 前記ビーム輸送部は、３個の前記偏向電磁石を有することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。
5. 前記ビーム輸送部は、その最下流の前記偏向電磁石が、照射室の照射室壁に対して斜めに配置され、
   前記照射ノズルは、前記照射室の内側に配置されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。
6. 前記ビーム輸送部は、
   その最下流側から２つの前記偏向電磁石が、当該２つの偏向電磁石の中心を結んだ線及び前記アイソセンタを含む面が前記回転部の回転軸に対して斜めになるように配置されたことを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。
7. 前記ビーム輸送部は、前記荷電粒子ビームの収束及び発散する作用方向が、上流側直近及び下流側直近の前記偏向電磁石の偏向面に対して平行でもなく、かつ垂直でもない４極電磁石を、少なくも１個有することを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。
8. 前記ビーム輸送部は、その最下流側から２番目の前記偏向電磁石より前のドリフト区間に、前記荷電粒子ビームの収束及び発散する作用方向が、上流側直近及び下流側直近の前記偏向電磁石の偏向面に対して平行でもなく、かつ垂直でもない４極電磁石を、少なくも１個有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。
9. 前記照射ノズルは、前記荷電粒子ビームの照射野を拡大する少なくとも２個で１組の照射野拡大用電磁石もしくは前記荷電粒子ビームを走査するための少なくとも２個で１組のスキャニング電磁石を有し、
   前記照射野拡大用電磁石もしくは前記スキャニング電磁石は、その２極磁場の方向が、前記ビーム輸送部における最下流側の前記偏向電磁石の磁場方向に対して平行又は垂直になるように配置されたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。
10. 前記ビーム輸送部は、その最下流側の前記偏向電磁石と、その最下流側から２番目の前記偏向電磁石との間に、前記荷電粒子ビームの照射野を拡大する少なくとも２個で１組の照射野拡大用電磁石もしくは前記荷電粒子ビームを走査するための少なくとも２個で１組のスキャニング電磁石を有し、
    前記照射野拡大用電磁石もしくは前記スキャニング電磁石は、その２極磁場の方向が、前記ビーム輸送部における最下流側の前記偏向電磁石の磁場方向に対して平行又は垂直になるように配置されたことを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の粒子線回転照射装置。

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