JP5329988B2 - 粒子線照射装置 - Google Patents
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Description
以下、この発明の実施の形態1を図1に基づいて説明する。図1において、1は回転フレーム、3は回転リング、4は支持装置、4Aは駆動ローラー、5は駆動装置、6は真空ダクト、10はコーンフレームであり、これらは上述した従来のものと同様の機能を有するものである。
なお、上述したこの発明の実施の形態1においては、真空ダクト6を通して入射される粒子線を第1照射系統14または第2照射系統23に切り替える照射系統切り替え手段31としてスイッチング電磁石を用いる場合について述べたが、図3に示すように、真空ダクト6を通して入射される粒子線を第1照射系統14に偏向させる第1スイッチング用偏向電磁石34と、真空ダクト6を通して入射される粒子線を第2照射系統23に偏向させる第2スイッチング用偏向電磁石35と、真空ダクト6を通して入射される粒子線を第1スイッチング用偏向電磁石34を通して第2スイッチング用偏向電磁石35に入射させる直進入射体36とから照射系統切り替え手段31を構成してもよい。
また、上述したこの発明の実施の形態1および2においては、第1照射系統14の第1の照射装置15または第2照射系統23の第2の照射装置24からアイソセンタ16に向かって照射された粒子線は、原則的にはアイソセンタ16に配置された図示しない照射対象の内部で消失するような使われ方が一般的である。しかしながら、第1の照射装置15と第2の照射装置24の照射方向が互いに向き合っていると、一方の照射装置から照射された粒子線が他方の照射装置を、特に中性子により被爆するかもしれないというリスクが生じる。
23 第2照射系統 24 第2の照射装置
31 照射系統切り替え手段 34 第1スイッチング用偏向電磁石
35 第2スイッチング用偏向電磁石
Claims (6)
- 入射される粒子線を照射する照射装置が照射基準点を回転中心として回転自在に駆動される回転フレーム内に配置された粒子線照射装置において、
同一の前記回転フレームに前記照射基準点に向かって粒子線を照射する第1の照射装置が配置された第1照射系統と、前記照射基準点に向かって粒子線を照射する第2の照射装置が配置された第2照射系統とを設け、
前記入射される粒子線を偏向して前記第1照射系統の第1の照射装置又は前記第2照射系統の第2の照射装置に入射させる照射系統切り替え手段を備えたことを特徴とする粒子線照射装置。 - 前記第1の照射装置と前記第2の照射装置とをそれぞれ異なる照射装置構成としたことを特徴とする請求項1記載の粒子線照射装置。
- 前記第1の照射装置と前記第2の照射装置とを同一の照射装置構成としたことを特徴とする請求項1記載の粒子線照射装置。
- 前記第1の照射装置及び前記第2の照射装置は、一方がブロードビーム方式用の照射装置構成であり、他方がスポットスキャニング方式用の照射装置構成であることを特徴とする請求項2記載の粒子線照射装置。
- 前記第1の照射装置の照射方向に位置しないように前記第2の照射装置を配置したことを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。
- 前記第1の照射装置の照射方向と前記第2の照射装置の照射方向とが互いに向き合っていることを特徴とする請求項1に記載の粒子線照射装置。
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