JP2013239677A5 - 配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体 - Google Patents
配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013239677A5 JP2013239677A5 JP2012113400A JP2012113400A JP2013239677A5 JP 2013239677 A5 JP2013239677 A5 JP 2013239677A5 JP 2012113400 A JP2012113400 A JP 2012113400A JP 2012113400 A JP2012113400 A JP 2012113400A JP 2013239677 A5 JP2013239677 A5 JP 2013239677A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal foil
- insulating layer
- carrier
- layer
- ultrathin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Description
配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体に関する。
本発明の一観点によれば、支持体に対して、第1のキャリア板の一面側に剥離層を介して第1の極薄金属箔が設けられ前記支持体の大きさより小さな第1のキャリア付金属箔を前記第1のキャリア板を前記支持体と対向して配置し、前記第1のキャリア付金属箔の大きさより大きな第1の絶縁層を前記第1の極薄金属箔と対向して配置し、前記支持体と前記第1のキャリア付金属箔と前記第1の絶縁層を積層して前記支持体の周縁部と前記第1の絶縁層の周縁部とを直接接着する工程と、前記第1の絶縁層の表面に配線層を形成する工程と、前記第1の絶縁層の上に、前記配線層を覆う第2の絶縁層を配置し、第2のキャリア板の一面側に剥離層を介して第2の極薄金属箔が設けられた第2のキャリア付金属箔を前記第2の極薄金属箔を前記第2の絶縁層と対向するように配置し、前記第2の絶縁層と前記第2のキャリア付金属箔を前記第1の絶縁層の表面に積層して構造体を生成する工程と、前記第1のキャリア付金属箔の周縁に対応する位置にて前記構造体を切断する工程と、前記第1の極薄金属箔と前記第1のキャリア板を互いに分離し、前記第2の極薄金属箔と前記第2のキャリア板を互いに分離する工程とを有する。
次いで、極薄金属箔11b,21b及び金属膜81を電極とする電解めっきによって、開口部62a,72aから露出する金属膜81に金属めっき層82(図9(a)参照)が形成される。次いで、レジスト62,72が除去され、エッチング処理によって露出する金属膜81及び極薄金属箔61b、71bが除去される。これにより、図9(a)に示すように、絶縁層12,22の表面に導体層64,74を有する構造体212が得られる。
Claims (14)
- 支持体に対して、第1のキャリア板の一面側に剥離層を介して第1の極薄金属箔が設けられ前記支持体の大きさより小さな第1のキャリア付金属箔を前記第1のキャリア板を前記支持体と対向して配置し、前記第1のキャリア付金属箔の大きさより大きな第1の絶縁層を前記第1の極薄金属箔と対向して配置し、前記支持体と前記第1のキャリア付金属箔と前記第1の絶縁層を積層して前記支持体の周縁部と前記第1の絶縁層の周縁部とを直接接着する工程と、
前記第1の絶縁層の表面に配線層を形成する工程と、
前記第1の絶縁層の上に、前記配線層を覆う第2の絶縁層を配置し、第2のキャリア板の一面側に剥離層を介して第2の極薄金属箔が設けられた第2のキャリア付金属箔を前記第2の極薄金属箔を前記第2の絶縁層と対向するように配置し、前記第2の絶縁層と前記第2のキャリア付金属箔を前記第1の絶縁層の表面に積層して構造体を生成する工程と、
前記第1のキャリア付金属箔の周縁に対応する位置にて前記構造体を切断する工程と、
前記第1の極薄金属箔と前記第1のキャリア板を互いに分離し、前記第2の極薄金属箔と前記第2のキャリア板を互いに分離する工程と、
を有することを特徴とする配線基板の製造方法。 - 前記支持体及び前記第1の絶縁層は半硬化状態の熱硬化性樹脂であり、前記支持体と前記第1のキャリア付金属箔と前記第1の絶縁層を加熱及び加圧して積層すること、
を特徴とする請求項1に記載の配線基板の製造方法。 - 前記配線層を形成する工程において、前記第1の絶縁層の表面に金属箔を対向配置して積層し、
更に、
前記金属箔をエッチングして前記配線層を形成する工程を含むこと
を特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法。 - 前記配線層を形成する工程において、前記第1の絶縁層の表面に第3のキャリア板の一面側に剥離層を介して第3の極薄金属箔が設けられた第3のキャリア付金属箔を、前記第3の極薄金属箔を前記第1の絶縁層と対向するように積層し、
更に、
前記第3のキャリア板を剥離する工程と、
前記第3の極薄金属箔の表面に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜の上に開口部を有するレジストを形成する工程と、
前記金属膜を利用する電解めっきにより前記レジストの開口部に金属めっき層を形成する工程と、
前記レジストを除去する工程と、
前記金属めっき層をマスクとして前記金属膜と前記第3の極薄金属箔をエッチングすることにより前記配線層を形成する工程と
を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法。 - 前記配線層を形成する工程において、前記第1の絶縁層の表面に第3のキャリア板の一面側に剥離層を介して第3の極薄金属箔が設けられた第3のキャリア付金属箔を、前記第3の極薄金属箔を前記第1の絶縁層と対向するように積層し、
更に、
前記第3のキャリア板を剥離する工程と、
前記第3の極薄金属箔を除去する工程と、
前記第1の絶縁層の表面に金属膜を形成する工程と、
前記金属膜の上に開口部を有するレジストを形成する工程と、
前記金属膜を利用する電解めっきにより前記レジストの開口部に金属めっき層を形成する工程と、
前記レジストを除去する工程と、
前記金属めっき層をマスクとして前記金属膜をエッチングすることにより前記配線層を形成する工程と
を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の配線基板の製造方法。 - 前記金属膜を形成する工程と前記レジストを形成する工程との間に、
前記金属膜と前記第1の絶縁層を貫通し前記第1の極薄金属箔と接続されるビアを形成する工程を含むこと、
を特徴とする請求項4又は5に記載の配線基板の製造方法。 - 前記第1の極薄金属箔と前記第2の極薄金属箔の前記剥離層が形成されている面と反対側の面にはプライマー層が形成されたことを特徴とする請求項1又は4に記載の配線基板の製造方法。
- 前記第3の極薄金属箔の前記剥離層が形成されている面と反対側の面にはプライマー層が形成され、
前記第3の極薄金属箔を除去した後に、前記第1の絶縁層上にはプライマー層が形成された状態であること、
を特徴とする請求項5に記載の配線基板の製造方法。 - 前記支持体の両面に前記第1のキャリア付金属箔、前記第1の絶縁層、前記配線層、前記第2の絶縁層、及び第2のキャリア付金属箔をそれぞれ有する前記構造体を生成し、
前記第1のキャリア付金属箔の周縁に対応する位置にて前記構造体を切断し、
前記第1の極薄金属箔と前記第1のキャリア板を互いに分離し、前記第2の極薄金属箔と前記第2のキャリア板を互いに分離し、前記第1の極薄金属箔、前記第1の絶縁層、前記配線層、前記第2の絶縁層、及び前記第2の極薄金属箔をそれぞれ有する2枚の基板を得ること、
を特徴とする請求項1〜8のいずれか一項に記載の配線基板の製造方法。 - 支持体と、
前記支持体上に積層された、前記支持体より小さな第1のキャリア付金属箔と、
前記第1のキャリア付金属箔上に積層された、前記第1のキャリア付金属箔より大きな第1の絶縁層と、
を含み、
前記第1のキャリア付金属箔は、第1のキャリア板の一面側に剥離層を介して第1の極薄金属箔が設けられ、前記第1のキャリア板を前記支持体に向けて積層され、
前記第1の絶縁層の周縁部と前記支持体の周縁部とが直接接していること、
を特徴とする配線基板製造用の構造体。 - 前記支持体と、前記第1キャリア付金属箔及び前記第1の絶縁層とが直接接着されていること、
を特徴とする請求項10に記載の配線基板製造用の構造体。 - 前記支持体の両面に、前記第1のキャリア付金属箔と前記第1の絶縁層とをそれぞれ有すること、を特徴とする請求項10または11に記載の配線基板製造用の構造体。
- 前記第1の絶縁層上に積層された金属箔を有すること、
を特徴とする請求項10〜12のいずれか一項に記載の配線基板製造用の構造体。 - 前記第1の絶縁層上に積層された、第2のキャリア付金属箔を有し、
前記第2のキャリア付金属箔は、第2のキャリア板と、前記第2のキャリア板の一面側に剥離層を介して設けられた第2の極薄金属箔とを含み、前記第2の極薄金属箔が前記第1の絶縁層側に向けられたこと、
を特徴とする請求項10〜12のいずれか一項に記載の配線基板製造用の構造体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012113400A JP5750400B2 (ja) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | 配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012113400A JP5750400B2 (ja) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | 配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013239677A JP2013239677A (ja) | 2013-11-28 |
JP2013239677A5 true JP2013239677A5 (ja) | 2014-08-14 |
JP5750400B2 JP5750400B2 (ja) | 2015-07-22 |
Family
ID=49764440
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012113400A Active JP5750400B2 (ja) | 2012-05-17 | 2012-05-17 | 配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5750400B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5870148B2 (ja) | 2013-11-27 | 2016-02-24 | Jx金属株式会社 | キャリア付銅箔、プリント回路板の製造方法、銅張積層板、銅張積層板の製造方法、及び、プリント配線板の製造方法 |
JP2016051797A (ja) * | 2014-08-29 | 2016-04-11 | 大日本印刷株式会社 | 積層体、積層体を用いた配線基板の製造方法、配線基板、および配線基板を備える実装基板の製造方法 |
US9899239B2 (en) * | 2015-11-06 | 2018-02-20 | Apple Inc. | Carrier ultra thin substrate |
KR102179165B1 (ko) * | 2017-11-28 | 2020-11-16 | 삼성전자주식회사 | 캐리어 기판 및 상기 캐리어 기판을 이용한 반도체 패키지의 제조방법 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2773715B2 (ja) * | 1995-10-31 | 1998-07-09 | 日立エーアイシー株式会社 | 多層プリント配線板の製造方法 |
KR100929839B1 (ko) * | 2007-09-28 | 2009-12-04 | 삼성전기주식회사 | 기판제조방법 |
JP4533449B2 (ja) * | 2008-10-16 | 2010-09-01 | 新光電気工業株式会社 | 配線基板の製造方法 |
JP4542201B2 (ja) * | 2009-12-11 | 2010-09-08 | 日本特殊陶業株式会社 | コアレス配線基板の製造方法 |
-
2012
- 2012-05-17 JP JP2012113400A patent/JP5750400B2/ja active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2016033967A5 (ja) | ||
JP2010098086A5 (ja) | ||
JP2013120771A5 (ja) | ||
MY163173A (en) | Manufacturing method of multilayer printed wiring board | |
JP2011199077A (ja) | 多層配線基板の製造方法 | |
US8104171B2 (en) | Method of fabricating multi-layered substrate | |
MY167064A (en) | Multilayer printed wiring board manufacturing method | |
JP2013239677A5 (ja) | 配線基板の製造方法、配線基板製造用の構造体 | |
JP6036837B2 (ja) | 多層配線板、及び、多層配線板の製造方法 | |
WO2014075559A1 (zh) | 多层厚铜电路板的制作方法及双面厚铜电路板的制作方法 | |
JP4460013B2 (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2006261390A5 (ja) | ||
KR20090029508A (ko) | 캐리어를 이용한 인쇄회로기판의 제조 방법 | |
JP2013111980A5 (ja) | ||
JP5997799B2 (ja) | 基板構造およびその製造方法 | |
JP4872957B2 (ja) | 電子部品の製造方法 | |
CN106211568A (zh) | 一种超薄铜箔材料 | |
JP6341644B2 (ja) | キャリヤ付き金属箔および積層基板の製造方法 | |
JP5925872B2 (ja) | 基板構造およびその製造方法 | |
WO2018163859A1 (ja) | 多層基板、電子機器および多層基板の製造方法 | |
JP2018006466A5 (ja) | ||
JP6361906B2 (ja) | 配線基板の製造方法及び支持材付き積層体 | |
JP2014135344A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
TW201315296A (zh) | 線路板及其製作方法 | |
TWI596999B (zh) | Laminate for manufacturing printed wiring board, manufacturing method thereof, and manufacturing method of printed wiring board |