JP2013235911A - 保護部材 - Google Patents

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宏 北村
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Abstract

【課題】保護テープをウェーハの表面に貼着してデバイスを保護する場合において、粘着剤がウェーハの外周側からはみ出したりデバイスに粘着剤が付着したりするのを防止する。
【解決手段】ウェーハWの外周部Wbに対面する部分にのみリング状の粘着層を表面に有する保護テープ1がウェーハWに貼着される保護部材3において、リング状の粘着層よりも粘着力の弱い弱粘着層が敷設され保護テープ1よりも大きい面積を有する帯状シート2を備え、帯状シート2の弱粘着層に保護テープ1の裏面が帯状シート2の長手方向に所定の間隔をおいて複数貼着されて構成される。帯状シート2が保護テープ1より大きい面積を有しているため、シート2の端部を保持することで保護テープ1の粘着層とウェーハWの外周部Wbとを位置合わせしやすく、粘着層がウェーハWの外周側にはみ出したり、粘着層を構成する粘着剤がデバイス領域Waに付着したりするのを防止することができる。
【選択図】図3

Description

本発明は、ウェーハの加工時にウェーハを保護する保護部材に関する。
IC、LSI等の複数のデバイスが分割予定ラインによって区画されて表面に形成されたウェーハは、裏面の研削により所定の厚さに形成された後、分割予定ラインに沿ってダイシングされて個々のデバイスに分割され、各種電子機器等に利用されている。
ウェーハの裏面研削時には、ウェーハの表面側を保持手段によって保持し、ウェーハの裏面に研削砥石を接触させて押圧するため、表面には、デバイスを保護するための保護テープが貼着される。
ところが、研削終了後に保護テープを剥離する際に、粘着層の一部がウェーハの表面に残存することがあるため、例えば、デバイスに形成されたバンプ、ボンディングパッド等を汚染して接触不良を招いたり、CCD等の撮像素子の撮像精度を低下させたりすることがある。また、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)にあっては、保護テープの剥離時にマイクロマシンが破損するという問題がある。
そこで、ウェーハのデバイス領域に対面する部分には粘着層を有さず、デバイス領域の外周側の外周余剰領域に対面する部分にのみ粘着層を有する保護テープが提案されている(例えば特許文献1参照)。
特開2001−196404号公報
しかし、ウェーハの外周余剰領域と保護テープの粘着層とを正確に位置合わせして貼着するのは困難であり、両者がずれた状態で貼着すると、粘着層がウェーハの外周側にはみ出したり、粘着層を構成する粘着剤がデバイス領域に付着したりするといった問題がある。
本発明は、このような問題にかんがみなされたもので、保護テープをウェーハの表面に貼着してデバイスを保護する場合において、粘着剤がウェーハの外周側からはみ出したりデバイスに粘着剤が付着したりするのを防止することを課題としている。
本発明は、ウェーハの直径に対応する直径を有しウェーハの外周部に対面する部分にのみリング状の粘着層を表面に有する保護テープを備え、保護テープがウェーハに貼着される保護部材に関するもので、リング状の粘着層よりも粘着力の弱い弱粘着層が敷設され保護テープよりも大きい面積を有する帯状シートを備え、帯状シートの長手方向に所定の間隔をおいて保護テープの裏面が弱粘着層に貼着されている。
本発明に係る保護部材では、保護テープの裏面に貼着された帯状シートが保護テープより大きい面積を有しているため、帯状シートの端部を保持した状態で保護テープをウェーハの表面に貼着することができ、保護テープの粘着層とウェーハの外周部とを位置合わせしやすい。したがって、粘着層がウェーハの外周側にはみ出したり、粘着層を構成する粘着剤がデバイス領域に付着したりするのを防止することができる。そして、デバイス領域に粘着剤が付着するのを防止することで、デバイスがマイクロマシンである場合に保護テープの剥離時にマイクロマシンを破損させることがなくなる。
また、保護テープの裏面は、粘着層より粘着力が弱い弱粘着層に貼着されているため、保護テープをウェーハの表面に貼着した後に、帯状シートを保護テープの裏面から剥離するだけで、保護テープをウェーハの表面に貼着することができる。
さらに、帯状シートには長手方向に複数の保護テープの裏面が貼着されているため、1つの帯状シートをそれぞれの保護テープから剥離するだけで、表面に保護テープが貼着されたウェーハを複数形成することができる。
保護部材の構成を示す分解斜視図である。 保護部材を示す斜視図である。 保護テープをウェーハの表面に貼着する状態を示す斜視図である。 保護テープから帯状シートを剥離する状態を示す正面図である。 表面に保護テープが貼着されたウェーハを示す斜視図である。 保護テープの粘着層がウェーハの外周部に貼着された状態を示す断面図である。 表面に保護テープが貼着されたウェーハの裏面を研削する状態を示す斜視図である。 研削後のウェーハの表面から保護テープを剥離する状態を示す斜視図である。
図1に示す保護テープ1は、円形の基材10と、基材10の外周に沿ってリング状に形成された粘着層11とから構成されている。基材10と粘着層11とは外径が等しく、基材10の周縁と粘着層11の周縁とが一致した状態で、粘着層11が基材10の上に形成されている。粘着層11が形成されている側の面を表面1a、粘着層11が貼着されていない側の面を裏面1bとする。
このように構成される保護テープ1の裏面1bを、帯状シート2に貼着する。帯状シート2は、保護テープ1より大きい面積を有しており、帯状シート2の一方の面には、保護テープ1を構成する粘着層11よりも粘着力が弱い弱粘着層20が一面に敷設されている。また、帯状シート2の幅は、保護テープ1の直径よりも長く形成されている。
図2に示すように、帯状シート2の長手方向に所定の間隔をおいて整列させて、保護テープ1の裏面1bを帯状シート2の弱粘着層20に貼着していく。そうすると、帯状シート2と複数の保護テープ1とが一体となった保護部材3が形成される。
次に、図3に示すように、保護部材3を裏返し、保護部材3を構成する保護テープ1の粘着層11をウェーハWの表面W1に対面させる。図3に示すウェーハWの表面W1は、デバイスが形成されたデバイス領域Waが、デバイスが形成されていない外周部Wbによって囲繞されて構成されている。デバイス領域Waには、分割予定ラインLによって区画されて複数のデバイスDが形成されている。表面W1の裏側の面である裏面W2にはデバイスが形成されておらず、裏面W2を研削することにより、ウェーハWを所定の厚さに形成することができる。
保護部材3を構成する保護テープ1の直径は、ウェーハWの直径に対応してウェーハWの直径と等しいか、又はウェーハWの直径よりわずかに大きく形成されている。また、図2に示した粘着層11の幅は、ウェーハWの表面W1の外周部Wbの幅と等しいか又は外周部Wbの幅より小さく形成されている。
図3に示すように、ウェーハWの表面W1の外周部Wbと保護部材3の粘着層11とを位置合わせして対面させ、外周部Wbにのみ粘着層11を貼着する。そして、図4に示すように、保護部材3を構成する帯状シート2のみを上方に引き上げる。帯状シート2の弱粘着層20は、保護テープ1の粘着層11よりも粘着力が低いため、帯状シート2から保護テープ1の裏面1bが剥離され、図5に示すように、保護テープ1がウェーハWの表面W1に貼着されたままとなる。図6に示すように、デバイス領域Waには保護テープ1が接触せず、外周部Wbにのみ粘着層11が貼着されているため、デバイス領域Waに形成された各デバイスに粘着剤が付着することはない。また、シート2の剥離時は、帯状シート2がウェーハWの外周側にはみ出しているため、帯状シート2を持って引き上げることにより帯状シート2を剥離することができ、保護テープ1のウェーハWへの貼着を容易に行うことができる。さらに、複数の保護テープ1が1つの帯状シート2に貼着されているため、帯状シート2を剥離するだけで、保護テープ1が貼着されたウェーハWを複数形成することができる。
このようにしてウェーハWの表面W1に保護部材3が貼着された後、ウェーハWの加工を行う。例えばウェーハWの裏面W2を研削加工する場合は、図7に示すように、保護テープ1側を研削装置に備えた保持テーブル4において保持する。保持テーブル4の上方には、回転軸50の下端にマウント51を介して研削ホイール52が装着されて構成される研削部5が配設され、研削ホイール52の下面には、環状に研削砥石53が固着されている。
保持テーブル4が例えば300RPMの回転速度で矢印A方向に回転し、研削ホイール52が例えば6000RPMの回転速度で矢印B 方向に回転するとともに研削部5が例えば1μm/sの速度で下方に送られると、回転する研削砥石53によってウェーハWの裏面W2が研削される。そして、ウェーハWが所定の厚さに形成されると、研削部5が上昇して研削を終了する。
ウェーハWの裏面W2の研削終了後は、図8に示すように、ウェーハWの表面W1から保護テープ1を剥離する。保護テープ1を構成する粘着層11はウェーハWの表面W1の外周部Wbにのみ貼着され、デバイス領域Waには貼着されなかったため、剥離後にデバイス領域Waに粘着剤が残存することはない。したがって、粘着剤によってデバイスDが悪影響を受けることがない。
例えば、デバイスDがバンプやボンディングパッドといった突起状の電極を備えている場合であっても、バンプやボンディングパッドの汚染による接触不良が生じることがない。また、デバイスDがCCD等の撮像素子である場合は、撮像精度を低下させることがない。さらに、デバイスDがMEMSである場合は、保護部材3の剥離時にマイクロマシンが破損するのを防止することができる。
なお、表面W1に保護部材3を貼着した状態で行う加工としては、研削加工のほかに、例えば、分割予定ラインに沿ってウェーハWの表面にレーザ光を集光してアブレーション溝を形成するアブレーション加工、分割予定ラインに沿ってウェーハWの内部にレーザ光を集光して改質層を形成する内部加工がある。
1:保護テープ
1a:表面 1b:裏面
10:基材 11:粘着層
2:帯状シート 20:弱粘着層
3:保護部材
W:ウェーハ
W1:表面
Wa:デバイス領域 L:分割予定ライン D:デバイス
Wb:外周部
W2:裏面
4:保持テーブル
5:研削部
50:回転軸 51:マウント 52:研削ホイール 53:研削砥石

Claims (1)

  1. ウェーハの直径に対応する直径を有し該ウェーハの外周部に対面する部分にのみリング状の粘着層を表面に有する保護テープを備え、該保護テープがウェーハに貼着される保護部材であって、
    該リング状の粘着層よりも粘着力の弱い弱粘着層が敷設され該保護テープよりも大きい面積を有する帯状シートを備え、該帯状シートの長手方向に所定の間隔をおいて該保護テープの裏面が該弱粘着層に貼着されている保護部材。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20150332911A1 (en) * 2014-05-16 2015-11-19 Disco Corporation Method of processing wafer

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