JP2013231786A - 液晶表示パネル - Google Patents

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Abstract

【課題】
狭額縁化を実現しながら、識別マークを形成することが可能な液晶表示パネルを提供すること。
【解決手段】
カラーフィルターが形成されたＣＦ基板Ｓ１と、薄膜トランジスタ回路が形成されたＴＦＴ基板Ｓ２とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルＬＣＤにおいて、該ＣＦ基板Ｓ１の額縁部に黒色の遮光領域ＢＭを形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークＭを備え、該ＴＦＴ基板Ｓ２には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜ＭＴ１が配置されていることを特徴とする。
【選択図】図４

Description

本発明は液晶表示パネルに関し、特に、識別マークを設けた液晶表示パネルに関する。
携帯電話、携帯情報端末（ＰＤＡ）、デジタルカメラ、マルチメディアプレーヤーなど、多くの携帯型の情報機器の表示装置に液晶表示パネル（ＬＣＤ）が利用されている。
液晶表示パネルは、カラーフィルターを形成したＣＦ基板と薄膜トランジスタ回路を形成したＴＦＴ基板を貼り合わせ、両基板の間に液晶を封止するよう構成されている。また、液晶表示パネルには、パネルの種類等を判別するための識別マークが付与されている。
特許文献１は、液晶表示パネルのＴＦＴ基板側に文字を形成する技術が開示されている。この場合には、識別マークを形成するため、別途作業工程が必要となる。また、図１及び２に示すように、ＣＦ基板側に識別マークを付与することも行われている。
図１は、液晶表示パネルＬＣＤの平面図であり、ＣＦ基板Ｓ１とＴＦＴ基板Ｓ２を貼り合わせた様子を示している。符号ＤＰは表示部を示し、符号ＳＥは両基板を貼り合わせた際のシール部分を示している。また、ＴＦＴ基板Ｓ２の下部には、薄膜トランジスタ回路を駆動するためのドライバ・チップＤＲが、基板上に配置されている。
図２は、図１の点線枠Ａにおける拡大図であり、（ａ）はＴＦＴ基板Ｓ２、（ｂ）はＣＦ基板Ｓ１、（ｃ）は、ＣＦ基板とＴＦＴ基板とを貼り合わせた液晶表示パネルＬＣＤの一部を示している。
図２（ａ）に示すように、ＴＦＴ基板Ｓ２の額縁部付近には、コモン線、接地シールド線、基板のクラック検出用配線などの各種配線ＭＴが配置されている。
図２（ｂ）に示すように、ＣＦ基板Ｓ１の額縁部付近には、バックライトの光が表示部の周辺部から漏れ出さないように、ブラックマトリクスなどの黒色等の遮光領域ＢＭが形成されている。また、遮光領域ＢＭの周縁部には、識別マークＭが遮光領域と同じ遮光材料等で形成されている。
図２（ｃ）のように、両基板Ｓ１及びＳ２を重ね合せた際に、識別マークが判別できるように構成されている。
特開２００８−５２１４５号公報
近年、携帯型情報機器は小型化が進む一方、表示部については大画面化の要請が多くなっている。このため、液晶表示パネルにおいても、表示部を最大限に大きくするため、その周囲の額縁部を狭くする狭額縁化が求められている。
ＣＦ基板の額縁部の遮光領域が、当該基板の側縁近くまで形成されると、図１及び２に示した識別マークＭの形成領域を確保することが困難となる。
本発明の解決しようとする課題は、上述した問題を解消し、狭額縁化を実現しながら、識別マークを形成することが可能な液晶表示パネルを提供することである。
本発明の液晶表示パネルは、上述の課題を解決するため以下のような特徴的構成を有している。
（１） カラーフィルターが形成されたＣＦ基板と、薄膜トランジスタ回路が形成されたＴＦＴ基板とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルにおいて、該ＣＦ基板の額縁部に黒色の遮光領域を形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークを備え、該ＴＦＴ基板には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜が配置されていることを特徴とする。
（２） 上記（１）に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、該ＴＦＴ基板に形成された電気的配線の一部に接続されていることを特徴とする。
（３） 上記（１）又は（２）に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、該識別マークに対応する位置では、該スリットの一部が削除されていることを特徴とする。
（４） 上記（３）に記載の液晶表示パネルにおいて、該メタルパターンには、前記削除されたスリットに対応して、別の部分に同様にスリットを削除する領域を形成し、該メタルパターンの電気的抵抗値が調整されていることを特徴とする。
（５） 上記（１）又は（２）に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、該識別マークは、該スリットの位置を避けるように、該遮光領域の一部に形成された開口の集合体で構成されていることを特徴とする。
本発明のように、ＣＦ基板の遮光領域に描かれたネガパターンの識別マークと、ＴＦＴ基板に設けた金属膜とにより、液晶表示パネルの額縁部に設けられた遮光領域を最大限に確保でき、狭額縁化が実現可能となると共に、識別マークを併せて形成することが可能な液晶表示パネルを提供することが出来る。
特に、パネルの表面（表示面）側からパネルを見た場合には、外光がＴＦＴ基板の金属膜に反射し、ＣＦ基板に形成された識別マークを目視確認することが可能となる。さらに、パネルの裏面側からは、ＣＦ基板の遮光領域とＴＦＴ基板の金属膜とが連携して、バックライトに対する遮光性を確保することが可能となる。
従来の液晶表示パネルの平面図を説明する概略図である。 図１の液晶表示パネルの点線枠Ａにおける、（ａ）ＴＦＴ基板、（ｂ）ＣＦ基板、（ｃ）ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを重ね合せた様子を説明する図である。 本発明の液晶表示パネルの平面図を説明する概略図である。 図３の液晶表示パネルの点線枠Ｂにおける、第１の実施例を示す図であり、（ａ）ＴＦＴ基板、（ｂ）ＣＦ基板、（ｃ）ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを重ね合せた様子を示す。 図３の液晶表示パネルの点線枠Ｂにおける、第２の実施例を示す図であり、（ａ）ＴＦＴ基板、（ｂ）ＣＦ基板、（ｃ）ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを重ね合せた様子を示す。 図３の液晶表示パネルの点線枠Ｂにおける、第３の実施例を示す図であり、（ａ）ＴＦＴ基板、（ｂ）ＣＦ基板、（ｃ）ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを重ね合せた様子を示す。 図３の液晶表示パネルの点線枠Ｂにおける、第４の実施例を説明するための、ＴＦＴ基板とＣＦ基板とを重ね合せた様子を示す図である。
本発明に係る液晶表示パネルについて、以下に詳細に説明する。図３乃至図７は本発明の各実施例を説明する図であり、本発明の液晶表示パネルは、図３に示すように、パネルＬＣＤの表示部ＤＰの周辺にある遮光領域を、パネルＬＣＤの側縁まで形成する場合に、好適に利用可能である。図３に記載された各符号は、図１と同様であるため、ここでは説明を省略する。図４乃至図７は、図３の液晶表示パネルＬＣＤの点線枠Ｂにおける拡大図を示している。
本発明は、カラーフィルターが形成されたＣＦ基板Ｓ１と、薄膜トランジスタ回路が形成されたＴＦＴ基板Ｓ２とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルＬＣＤにおいて、該ＣＦ基板Ｓ１の額縁部に黒色の遮光領域ＢＭを形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークＭを備え、該ＴＦＴ基板Ｓ２には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜ＭＴ１〜４が配置されていることを特徴とする。
液晶表示パネルＬＣＤの第１実施例を図４に示す。図４（ｂ）のように、ＣＦ基板Ｓ１の遮光領域ＢＭに、ネガパターンで識別マークＭを形成する。当該識別マークは、遮光領域ＢＭを形成する際に、レジストパターンを利用して同時に形成することが可能である。なお、図４（ｂ）では、遮光領域ＢＭの一部がＬ字状（パネル全体では、額縁部に沿って表示部を取り囲むようにロ字状）に切れている。これは、ブラックマトリックス等の遮光膜に沿って、外部から水分がパネル内に侵入するのを抑制するために設けている。
一方、ＴＦＴ基板Ｓ２では、図４（ａ）に示すように、配線等の通常のメタルパターンに加え、ＣＦ基板Ｓ１上の識別マークに対応する位置には、金属膜ＭＴ１が形成されている。上述した、Ｌ字状（ロ字状）の遮光領域ＢＭの切れ目に対しては、ＴＦＴ基板の配線等のメタルパターンＭＴが配置され、遮光性を維持するよう構成されている。
図４（ａ）のＴＦＴ基板Ｓ２と、図４（ｂ）のＣＦ基板Ｓ１とを重ね合せることで、図４（ｃ）のように、パネルＬＣＤの表面側から観察すると、遮光領域の遮光性を十分に確保した状態で、識別マークを目視可能に構成することができる。
また、図４（ａ）では、金属膜ＭＴ１を、ＴＦＴ基板に形成された他のメタルパターンと電気的に切り離して配置（フローティング）している。このような構成では、金属膜ＭＴ１の存在により、配線等に電気的な影響を与えることを抑制することが可能となる。
図５は、本発明の液晶表示パネルＬＣＤの第２の実施例を説明する図である。図４との違いは、図５（ａ）のように、ＴＦＴ基板Ｓ１に形成した金属膜ＭＴ２を、他のメタルパターンの一部に電気的に接続し、特に金属膜ＭＴ２の接地を取れるよう構成している。これにより、金属膜ＭＴ２に静電気等が蓄積するのを防止できる。
図６は、本発明の液晶表示パネルＬＣＤの第３の実施例を説明する図である。図４等との違いは、図６（ａ）に示すように、ＴＦＴ基板Ｓ１に形成された金属膜ＭＴ３が、開口したスリットＳＬが多数形成されたメタルパターンの一部に形成され、識別マークに対応する位置では、スリットＳＬの一部が削除されている（金属膜で塗り潰されている）。
このように、既存のメタルパターンを利用することで、識別マークに対応した金属膜を配置する場所を別途確保する必要が無く、狭額縁化をより進めることも可能となる。なお、図６（ａ）のようなスリットを形成したメタルパターンは、ＣＦ基板Ｓ１とＴＦＴ基板Ｓ２とをシールする光硬化性樹脂を硬化させるための照明光の通路などとして利用される。
また、図６（ａ）のようなスリットを形成したメタルパターンが配線の一部である場合には、金属膜ＭＴ３を設けることで、局所的な電気的抵抗値が変化する。このような不具合を抑制するため、全体の配線の中で、金属膜ＭＴ３と点又は線対称な場所に、同様の金属膜（スリットを削除する領域）を形成し、メタルパターンの電気的抵抗値の分布のバランスを調整することも可能である。
図７は、本発明の液晶表示パネルＬＣＤの第４の実施例を説明する図である。図６との違いは、スリットを形成したメタルパターンＭＴ４については、従来と同様のパターンを利用し、図６（ａ）のように、識別マークのために、スリットを削除する部分を形成したメタルパターンＭＴ３を用いていないことである。このため、新たなメタルパターンを設計する必要が無いばかりか、電気的抵抗値の変化も抑制できる。
図７において、ＣＦ基板に形成する識別マークＭ１は、メタルパターンのスリットの位置を避け、スリットとスリットとの間の金属膜に対応する部分を、遮光領域の遮光膜を選択的に除去することで形成している。このように形成された開口の集合体が、識別マークを構成している。
以上のように、本発明によれば、狭額縁化を実現しながら、識別マークを形成することが可能な液晶表示パネルを提供することが可能となる。
ＢＭ 遮光領域
ＤＰ 表示部
ＤＲ ドライバ・チップ
ＬＣＤ 液晶表示パネル
Ｍ，Ｍ１ 識別マーク
ＭＴ メタルパターン
ＭＴ１〜４ 金属膜
Ｓ１ ＣＦ基板
Ｓ２ ＴＦＴ基板
ＳＥ シール部

Claims (5)

  1. カラーフィルターが形成されたＣＦ基板と、薄膜トランジスタ回路が形成されたＴＦＴ基板とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルにおいて、
    該ＣＦ基板の額縁部に黒色の遮光領域を形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークを備え、
    該ＴＦＴ基板には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜が配置されていることを特徴とする液晶表示パネル。
  2. 請求項１に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、該ＴＦＴ基板に形成された電気的配線の一部に接続されていることを特徴とする液晶表示パネル。
  3. 請求項１又は２に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、該識別マークに対応する位置では、該スリットの一部が削除されていることを特徴とする液晶表示パネル。
  4. 請求項３に記載の液晶表示パネルにおいて、該メタルパターンには、前記削除されたスリットに対応して、別の部分に同様にスリットを削除する領域を形成し、該メタルパターンの電気的抵抗値が調整されていることを特徴とする液晶表示パネル。
  5. 請求項１又は２に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、該識別マークは、該スリットの位置を避けるように、該遮光領域の一部に形成された開口の集合体で構成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
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