JP5856006B2 - 液晶表示パネル - Google Patents

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Description

本発明は液晶表示パネルに関し、特に、識別マークを設けた液晶表示パネルに関する。
携帯電話、携帯情報端末(PDA)、デジタルカメラ、マルチメディアプレーヤーなど、多くの携帯型の情報機器の表示装置に液晶表示パネル(LCD)が利用されている。
液晶表示パネルは、カラーフィルターを形成したCF基板と薄膜トランジスタ回路を形成したTFT基板を貼り合わせ、両基板の間に液晶を封止するよう構成されている。また、液晶表示パネルには、パネルの種類等を判別するための識別マークが付与されている。
特許文献1は、液晶表示パネルのTFT基板側に文字を形成する技術が開示されている。この場合には、識別マークを形成するため、別途作業工程が必要となる。また、図1及び2に示すように、CF基板側に識別マークを付与することも行われている。
図1は、液晶表示パネルLCDの平面図であり、CF基板S1とTFT基板S2を貼り合わせた様子を示している。符号DPは表示部を示し、符号SEは両基板を貼り合わせた際のシール部分を示している。また、TFT基板S2の下部には、薄膜トランジスタ回路を駆動するためのドライバ・チップDRが、基板上に配置されている。
図2は、図1の点線枠Aにおける拡大図であり、(a)はTFT基板S2、(b)はCF基板S1、(c)は、CF基板とTFT基板とを貼り合わせた液晶表示パネルLCDの一部を示している。
図2(a)に示すように、TFT基板S2の額縁部付近には、コモン線、接地シールド線、基板のクラック検出用配線などの各種配線MTが配置されている。
図2(b)に示すように、CF基板S1の額縁部付近には、バックライトの光が表示部の周辺部から漏れ出さないように、ブラックマトリクスなどの黒色等の遮光領域BMが形成されている。また、遮光領域BMの周縁部には、識別マークMが遮光領域と同じ遮光材料等で形成されている。
図2(c)のように、両基板S1及びS2を重ね合せた際に、識別マークが判別できるように構成されている。
特開2008−52145号公報
近年、携帯型情報機器は小型化が進む一方、表示部については大画面化の要請が多くなっている。このため、液晶表示パネルにおいても、表示部を最大限に大きくするため、その周囲の額縁部を狭くする狭額縁化が求められている。
CF基板の額縁部の遮光領域が、当該基板の側縁近くまで形成されると、図1及び2に示した識別マークMの形成領域を確保することが困難となる。
本発明の解決しようとする課題は、上述した問題を解消し、狭額縁化を実現しながら、識別マークを形成することが可能な液晶表示パネルを提供することである。
本発明の液晶表示パネルは、上述の課題を解決するため以下のような特徴的構成を有している。
(1) カラーフィルターが形成されたCF基板と、薄膜トランジスタ回路が形成されたTFT基板とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルにおいて、該CF基板の額縁部に黒色の遮光領域を形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークを備え、該TFT基板には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜が配置されており、該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、該識別マークに対応する位置では、該スリットが形成されていないことを特徴とする。
(2) カラーフィルターが形成されたCF基板と、薄膜トランジスタ回路が形成されたTFT基板とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルにおいて、該CF基板の額縁部に黒色の遮光領域を形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークを備え、該TFT基板には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜が配置されており、該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、該識別マークは、該スリットが形成された位置と重畳せず、該遮光領域の一部に形成された開口の集合体で構成されていることを特徴とする。
) 上記(1)又は(2)に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、該TFT基板に形成された電気的配線の一部に接続されていることを特徴とする。
(4) 上記(1)又は(2)に記載の液晶表示パネルにおいて、前記TFT基板と前記CF基板との間に、前記TFT基板と前記CF基板とを貼り合せるシール材を備え、前記シール材は光硬化性樹脂であり、前記シール材と前記金属膜のスリットとが重畳していることを特徴とする。
本発明のように、CF基板の遮光領域に描かれたネガパターンの識別マークと、TFT基板に設けた金属膜とにより、液晶表示パネルの額縁部に設けられた遮光領域を最大限に確保でき、狭額縁化が実現可能となると共に、識別マークを併せて形成することが可能な液晶表示パネルを提供することが出来る。
特に、パネルの表面(表示面)側からパネルを見た場合には、外光がTFT基板の金属膜に反射し、CF基板に形成された識別マークを目視確認することが可能となる。さらに、パネルの裏面側からは、CF基板の遮光領域とTFT基板の金属膜とが連携して、バックライトに対する遮光性を確保することが可能となる。
従来の液晶表示パネルの平面図を説明する概略図である。 図1の液晶表示パネルの点線枠Aにおける、(a)TFT基板、(b)CF基板、(c)TFT基板とCF基板とを重ね合せた様子を説明する図である。 本発明の液晶表示パネルの平面図を説明する概略図である。 図3の液晶表示パネルの点線枠Bにおける、第1の実施例を示す図であり、(a)TFT基板、(b)CF基板、(c)TFT基板とCF基板とを重ね合せた様子を示す。 図3の液晶表示パネルの点線枠Bにおける、第2の実施例を示す図であり、(a)TFT基板、(b)CF基板、(c)TFT基板とCF基板とを重ね合せた様子を示す。 図3の液晶表示パネルの点線枠Bにおける、第3の実施例を示す図であり、(a)TFT基板、(b)CF基板、(c)TFT基板とCF基板とを重ね合せた様子を示す。 図3の液晶表示パネルの点線枠Bにおける、第4の実施例を説明するための、TFT基板とCF基板とを重ね合せた様子を示す図である。
本発明に係る液晶表示パネルについて、以下に詳細に説明する。図3乃至図7は本発明の各実施例を説明する図であり、本発明の液晶表示パネルは、図3に示すように、パネルLCDの表示部DPの周辺にある遮光領域を、パネルLCDの側縁まで形成する場合に、好適に利用可能である。図3に記載された各符号は、図1と同様であるため、ここでは説明を省略する。図4乃至図7は、図3の液晶表示パネルLCDの点線枠Bにおける拡大図を示している。
本発明は、カラーフィルターが形成されたCF基板S1と、薄膜トランジスタ回路が形成されたTFT基板S2とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルLCDにおいて、該CF基板S1の額縁部に黒色の遮光領域BMを形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークMを備え、該TFT基板S2には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜MT1〜4が配置されていることを特徴とする。
液晶表示パネルLCDの第1実施例を図4に示す。図4(b)のように、CF基板S1の遮光領域BMに、ネガパターンで識別マークMを形成する。当該識別マークは、遮光領域BMを形成する際に、レジストパターンを利用して同時に形成することが可能である。なお、図4(b)では、遮光領域BMの一部がL字状(パネル全体では、額縁部に沿って表示部を取り囲むようにロ字状)に切れている。これは、ブラックマトリックス等の遮光膜に沿って、外部から水分がパネル内に侵入するのを抑制するために設けている。
一方、TFT基板S2では、図4(a)に示すように、配線等の通常のメタルパターンに加え、CF基板S1上の識別マークに対応する位置には、金属膜MT1が形成されている。上述した、L字状(ロ字状)の遮光領域BMの切れ目に対しては、TFT基板の配線等のメタルパターンMTが配置され、遮光性を維持するよう構成されている。
図4(a)のTFT基板S2と、図4(b)のCF基板S1とを重ね合せることで、図4(c)のように、パネルLCDの表面側から観察すると、遮光領域の遮光性を十分に確保した状態で、識別マークを目視可能に構成することができる。
また、図4(a)では、金属膜MT1を、TFT基板に形成された他のメタルパターンと電気的に切り離して配置(フローティング)している。このような構成では、金属膜MT1の存在により、配線等に電気的な影響を与えることを抑制することが可能となる。
図5は、本発明の液晶表示パネルLCDの第2の実施例を説明する図である。図4との違いは、図5(a)のように、TFT基板S1に形成した金属膜MT2を、他のメタルパターンの一部に電気的に接続し、特に金属膜MT2の接地を取れるよう構成している。これにより、金属膜MT2に静電気等が蓄積するのを防止できる。
図6は、本発明の液晶表示パネルLCDの第3の実施例を説明する図である。図4等との違いは、図6(a)に示すように、TFT基板S1に形成された金属膜MT3が、開口したスリットSLが多数形成されたメタルパターンの一部に形成され、識別マークに対応する位置では、スリットSLの一部が削除されている(金属膜で塗り潰されている)。
このように、既存のメタルパターンを利用することで、識別マークに対応した金属膜を配置する場所を別途確保する必要が無く、狭額縁化をより進めることも可能となる。なお、図6(a)のようなスリットを形成したメタルパターンは、CF基板S1とTFT基板S2とをシールする光硬化性樹脂を硬化させるための照明光の通路などとして利用される。
また、図6(a)のようなスリットを形成したメタルパターンが配線の一部である場合には、金属膜MT3を設けることで、局所的な電気的抵抗値が変化する。このような不具合を抑制するため、全体の配線の中で、金属膜MT3と点又は線対称な場所に、同様の金属膜(スリットを削除する領域)を形成し、メタルパターンの電気的抵抗値の分布のバランスを調整することも可能である。
図7は、本発明の液晶表示パネルLCDの第4の実施例を説明する図である。図6との違いは、スリットを形成したメタルパターンMT4については、従来と同様のパターンを利用し、図6(a)のように、識別マークのために、スリットを削除する部分を形成したメタルパターンMT3を用いていないことである。このため、新たなメタルパターンを設計する必要が無いばかりか、電気的抵抗値の変化も抑制できる。
図7において、CF基板に形成する識別マークM1は、メタルパターンのスリットの位置を避け、スリットとスリットとの間の金属膜に対応する部分を、遮光領域の遮光膜を選択的に除去することで形成している。このように形成された開口の集合体が、識別マークを構成している。
以上のように、本発明によれば、狭額縁化を実現しながら、識別マークを形成することが可能な液晶表示パネルを提供することが可能となる。
BM 遮光領域
DP 表示部
DR ドライバ・チップ
LCD 液晶表示パネル
M,M1 識別マーク
MT メタルパターン
MT1〜4 金属膜
S1 CF基板
S2 TFT基板
SE シール部

Claims (4)

  1. カラーフィルターが形成されたCF基板と、薄膜トランジスタ回路が形成されたTFT基板とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルにおいて、
    該CF基板の額縁部に黒色の遮光領域を形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークを備え、
    該TFT基板には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜が配置されており、
    該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、
    該識別マークに対応する位置では、該スリットが形成されていないことを特徴とする液晶表示パネル。
  2. カラーフィルターが形成されたCF基板と、薄膜トランジスタ回路が形成されたTFT基板とを重ね合わせ、両基板の間に液晶を封止した液晶表示パネルにおいて、
    該CF基板の額縁部に黒色の遮光領域を形成すると共に、該遮光領域の一部にネガパターンで描かれた識別マークを備え、
    該TFT基板には、該識別マークを透過する光を遮光する位置に、金属膜が配置されており、
    該金属膜は、開口したスリットが多数形成されたメタルパターンの一部であり、
    該識別マークは、該スリットが形成された位置と重畳せず、該遮光領域の一部に形成された開口の集合体で構成されていることを特徴とする液晶表示パネル。
  3. 請求項1又は2に記載の液晶表示パネルにおいて、該金属膜は、該TFT基板に形成された電気的配線の一部に接続されていることを特徴とする液晶表示パネル。
  4. 請求項1又は2に記載の液晶表示パネルにおいて、
    前記TFT基板と前記CF基板との間に、前記TFT基板と前記CF基板とを貼り合せるシール材を備え、
    前記シール材は光硬化性樹脂であり、
    前記シール材と前記金属膜のスリットとが重畳していることを特徴とする液晶表示パネル。
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