JP2013229244A - 透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法 - Google Patents
透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013229244A JP2013229244A JP2012101654A JP2012101654A JP2013229244A JP 2013229244 A JP2013229244 A JP 2013229244A JP 2012101654 A JP2012101654 A JP 2012101654A JP 2012101654 A JP2012101654 A JP 2012101654A JP 2013229244 A JP2013229244 A JP 2013229244A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electron
- image
- electron beam
- sample
- microscope
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Abstract
【解決手段】透過型電子顕微鏡40内の電子線干渉電子線バイプリズム干渉計において、光軸に垂直方向に微動可能な試料保持装置13によって、所定の距離ずつ試料3を微動しつつ、列状の検出器で干渉縞の強度変化を観察し、得られたデータを並び替えるという簡単な処理を行う。搬送空間周波数による分解能の制限を受けることなく、高分解能の位相像が得られる。
【選択図】図1
Description
なお、本明細書では、電子線バイプリズムとして電界型電子線バイプリズムを用いた場合について説明を行うが、電子線バイプリズムとして電子線が干渉させられる装置であれば電界型、磁界型に依らず構成可能であり、以下の説明で用いる電界型電子線バイプリズムに限定するものではない。
干渉顕微鏡像の作製に使用される透過型電子顕微鏡を用いた公知の電子線バイプリズム干渉計について説明する。
図6は、一般的な電界型電子線バイプリズムの模式図であり、図7は、従来の電子線バイプリズム干渉計の光学系の例を示す模式図である。
図7に示すように、電子線バイプリズム干渉計において、電子源もしくは電子銃1で発生された電子線は、光軸2上の照射光学系4を経て試料3に照射される。電子線ホログラフィーに代表される最も一般的な電子線干渉計は、中央極細線電極91と接地された一対の平行平板型接地電極99とで構成される電子線バイプリズム90を、光軸2上でかつ対物レンズ系5と試料3の像面71との間に配置している。11は対物レンズ系5により結像された光源の像(クロスオーバー)を示している。
次に、干渉顕微鏡像に記録された位相情報を抽出する方法について説明する。位相情報の抽出方法は、ホログラフィーの像再生法としてレーザー光が用いられていたが、近年のコンピュータ技術の発達に伴って、計算機を用いた画像処理の一環として行われるようになった。中でも、レーザー光学系による再生方法をそのまま計算機上に移し変えたフーリエ変換法が主流を占めている。
図8(a)は干渉顕微鏡像、(b)は(a)のフーリエ変換像である。図8(a)で、像の中心部にある白い分布が試料像のパワースペクトル75であり、縞と直交する方向(左右)にある2つのサイドバンド76が、位相情報を含んでいる再生波(1次回折波)とその共役波(−1次回折波)である。この2つのサイドバンド76のいずれか一方を選択し、画像の中心部に移動させた像が図8(c)である。図8(c)をフーリエ逆変換し、計算結果の実部と虚部より、それぞれ振幅分布像(図8(d))と位相分布像(図8(e))を得ることができる。
電子線による干渉顕微鏡像は、像と干渉縞8から構成されているため縞解析の手法が利用可能であり、原理的にフーリエ変換法とは異なる位相情報抽出法(縞走査法、モアレ法など)が可能である。とりわけ、物体波21と参照波23の相対位相差を利用して干渉縞8の位相をコントロールする縞走査法は、再生像の空間分解能が干渉縞間隔に依存しない点で高分解能化が可能な方法である。縞走査法については、例えば、特許文献2、特許文献3、非特許文献3、非特許文献4に詳細に記載されている。
図9(a)は1枚目の干渉顕微鏡像、(b)は(a)の干渉像から物体波21と参照波23の相対位相差を2π/3だけずらした2枚目の干渉顕微鏡像、(c)は(b)の干渉像よりもさらに相対位相差を2π/3((a)からは4π/3)だけずらした3枚目の干渉顕微鏡像である。これら3枚の干渉顕微鏡像について、それぞれ式(3)及び(2)に基づく画像処理を施すことによって、振幅分布像A(x,y)と位相分布像Φ(x,y)を得ることができる。使用する干渉顕微鏡像の枚数は、この図9の例のように3枚の場合が最少枚数で、3枚以上であれば枚数には依存しない。図9(a)での干渉縞8と干渉縞8の間を埋める干渉縞8を持つ干渉顕微鏡像(図9(b)及び(c))を利用することから、この方法による空間分解能は干渉縞間隔には依存せず、高分解能化が可能である。
図9に示した縞走査法は、干渉像作成過程において物体波21と参照波23の相対位相差を制御しなければならず、その上で干渉顕微鏡像の観察・記録を行い、そのときの相対位相差を既知とした上で位相情報を抽出することから、干渉顕微方法としてはフーリエ変換法よりも高度な作業が必要とされる。そのため、一般的に普及するには至っていない。とりわけ、電子光学系においては、物体波21と参照波23の相対位相差を高精度に制御する方法が実用化されておらず、電子線バイプリズム90を光軸2及び中央極細線電極91の双方に垂直な方向(図7では紙面の左右方向)に移動させる方法(これを従来法1と呼ぶ。特許文献3参照)、電子線の試料3への入射角度を電子線バイプリズム90が電子線に与える偏向と電子光学的に同じ平面内で変化させる方法(これを従来法2と呼ぶ。非特許文献3参照)などが試行されている程度である。
電子線バイプリズム90を光軸2及び中央極細線電極91の双方に垂直な方向に移動させる。この方法では、電子線バイプリズム90に試料微動機構と同程度の微動精度が要求されるが、一般の電子線バイプリズム装置はその要求レベルを満足していない。
電子線の試料3への入射角度を電子線バイプリズム90が電子線に与える偏向と電子光学的に同じ平面内で変化させる。この方法では、電子線が光軸2からずらされることを前提としており、高分解能像観察などにおいては取得する像ごとに像に含まれる収差の影響が異なる。そのため、要求される分解能や干渉顕微鏡像の観察目的によっては方法そのものが不適当となる。また、実験条件(高分解能観察やローレンツ像観察)によって、フォーカス外れ量の操作が必要となる。実験条件に応じてフォーカス外れ量を用いる際に、試料3への入射電子線が傾斜している場合には投影像の位置の変化を伴うため、干渉像取得後に試料3の位置を合わせる画像処理が必要となり、実時間性に欠ける。
好ましくは、電子線バイプリズムにより試料の像に重畳して電子線干渉縞が形成されることにより、顕微鏡像として干渉顕微鏡像が得られる。
好ましくは、演算装置を用いることにより、干渉顕微鏡像から電子線の位相分布像を計算し、表示装置により表示する。
試料保持装置による試料の微動方向は、好ましくは、顕微鏡像観察記録面における試料の像の移動方向として電子検出素子列と垂直方向である。
顕微鏡像観察記録面に形成される電子線干渉縞が、好ましくは、電子検出素子器を構成する素子列と平行方向である。
好ましくは、像観察記録面上において電子検出素子の配列によって構成される列が互いに平行となる少なくとも3個の電子線検出器を備えることにより、それぞれの電子線検出器から個別に干渉顕微鏡像を得ることができる。
好ましくは、演算装置を用いることにより、それぞれの電子線検出器から個別に得られた複数の干渉顕微鏡像から、電子線の位相分布像を計算し、表示装置により表示する。
好ましくは、像観察記録面上において電子検出素子の配列によって構成される列が互いに平行となる少なくとも3個の電子線検出器を備え、それぞれの電子線検出器からそれぞれ個別に干渉顕微鏡像を得る。
好ましくは、それぞれの電子線検出器を用いて個別に得られた複数の干渉顕微鏡像の演算処理により、料を透過した電子線の位相分布像を得る。
(透過型電子顕微鏡)
図1は、本発明の透過型電子顕微鏡40の構成例を模式的に示す図である。
図1に示すように、透過型電子顕微鏡40は、電子源1と、照射光学系4と、対物レンズ系5と、結像レンズ系7と、電子線バイプリズム90と、試料3を光軸2と垂直な面内において少なくとも1方向に微動可能な試料保持装置13と、電子検出素子36(図3参照)等と、画像記録装置9と、試料微動制御装置10、演算処理装置12等を含んで構成されている。透過型電子顕微鏡40は、本発明の電子線干渉法に用いる場合を想定した装置であるが、本発明は図1の記載の形態に限るものではない。
ここで、本発明においては、透過型電子顕微鏡40の光軸2の一例は、照射光学系4の光軸、対物レンズ系5の光軸、結像レンズ系7などの電子光学系の光軸を一つに合わせた軸でも良い。
図1において試料3は、制御装置10により制御しつつ、微動可能な試料保持装置13によって保持されている。本発明において試料3の微動は圧電素子(ピエゾ素子)による微動機構を備えた試料保持装置を用いたが、試料位置を制御しつつ微動可能な装置であれば、その微動の実現方法は問わない。
図2(a)から(d)は、試料3を微動した時に図1で得られる干渉縞8を模式的に表している。また、この模式図では、試料3は干渉縞8の方向に垂直に(紙面横方向)に微動するとし、それによって作られる干渉縞8を黒い線で表している。実際には黒い線で表した暗部と、黒い線の間で表した明部の強度は黒白の2値ではなく連続的に変化している。また、ここでは検出器は線上の強度を検出するものとする。
通常画像記録装置として用いられているCCDなどの2次元電子線検出器38は、電子検出素子36が2次元状に配置されたものである。
本発明では、図1で得られる干渉縞8と平行な方向に1次元に並んだ1列または複数列の1次元電子線検出器37を画像記録装置9として用いる。もちろん、前記2次元電子線検出器38の電子検出素子36の信号から対応する列の信号を用いることで、画像記録装置9として用いることが出来る。縞走査法による位相再生を行う際は、複数列の前記1次元電子線検出器37を用いるか、前記2次元電子線検出器38のうちの対応する複数列の電子検出素子36の信号を用いることが出来る。
図4は、本発明の第1の実施例で行った実験の一連の結果を示す図である。
図4(a)に本発明の第1の実施例で観察対象とした試料3の電子顕微鏡像を示す。試料3は金属マグネシウムを大気中で燃焼させたときに出来る酸化マグネシウムの微結晶で、立方体の形状をしており、一辺の長さは12nmである。この試料3をピエゾ素子によって、電子線バイプリズム90によって得られる干渉縞8に垂直な方向に向かって微動しつつ、強度を取得する。
図4(b)は、微動中のある試料位置での干渉縞8の像である。2次元のCCDカメラを用いたため、複数の縞が記録されている。搬送干渉縞幅は1.17nm、検出器ピクセルサイズ(試料面換算)0.0585nmであった。また、42で示した位置には、試料3による位相変化のために干渉縞8がずれている様子が観察されている。
本実施例では、従来の縞走査法の課題である得られる位相像の空間分解能が搬送空間周波数に依存するという問題点を解決し、搬送空間周波数に依存しない高精度な再生像を得ることが可能となることを示す。
図5は、本発明の第2の実施例で行った実験の一連の結果を示す図である。
図5(a)に本発明の第2の実施例で観察対象とした試料3の電子顕微鏡像を示す。試料3は実施例1で用いたのと同じ、金属マグネシウムを大気中で燃焼させたときに出来る酸化マグネシウムの微結晶で、立方体の形状をしており、一辺の長さは12nmである。図5(b)は、あるスキャン位置での干渉縞8の像である。2次元のCCDカメラを用いたため、複数の縞が記録されている。搬送干渉縞幅は1.75nm、検出器ピクセルサイズ(試料面換算)は0.0591nmであった。また、42として示した位置には、試料3による位相変化のために縞がずれている様子が観察されている。
2 :光軸
3 :試料
4 :照射光学系
5 :対物レンズ系
7 :結像レンズ系
8 :干渉縞
9 :画像記録装置
10:試料微動制御装置
11:対物レンズ系により結像されたクロスオーバー
12:演算処理装置
13:微動可能な試料保持装置
14:表示装置
21:物体波
22:電子線の波面
23:参照波
27:電子線の軌道
31:対物レンズ系により結像された試料の像
32:結像レンズ系により結像された試料の像
34:再生に用いる列の位置
35:縞走査法による再生を行う際に再生に用いる列の位置
36:電子検出素子
37:1次元電子線検出器
38:2次元電子線検出器
40:透過型電子顕微鏡
41:酸化マグネシウム微結晶
42:酸化微結晶による干渉縞の変位
43:再生に用いた列の位置
44:再生された酸化微結晶による電子線の位相変化
45:粒子の強度ラインプロファイルの取得位置
46:真空の強度ラインプロファイルの取得位置
47:並び替えによって得られた位相像の粒子の強度ラインプロファイル
48:並び替えによって得られた位相像の真空の強度ラインプロファイル
49:並び替えによって得られた位相像の粒子の強度ラインプロファイルから真空の強度ラインプロファイルを引いた、粒子による位相変化を表すプロファイル
50:縞走査法によって得られた位相像の粒子の強度ラインプロファイル
51:縞走査法によって得られた位相像の真空の強度ラインプロファイル
52:縞走査法によって得られた位相像の粒子の強度ラインプロファイルから真空の強度ラインプロファイルを引いた、粒子による位相変化を表すプロファイル
71:対物レンズ系による試料の像面
75:パワースペクトル
76:サイドバンド
89:観察・記録面
90:電子線バイプリズム
91:電子線バイプリズム中央極細線電極
99:平行平板型接地電極
Claims (12)
- 電子線バイプリズムと、
試料を光軸と垂直な面内において少なくとも1方向に微動可能な試料保持装置と、
試料の像及び電子線バイプリズムにより形成される電子線干渉縞が観察される顕微鏡像観察記録面において列状に配設された複数の電子検出素子から構成される電子線検出器と、
を備えた透過型電子顕微鏡であって、
前記電子検出素子の信号強度を前記素子の配列方向が定める軸に沿って出力し、
前記微動可能な試料保持装置により所定の距離だけ前記試料を微動させることによって変化する前記電子検出素子からの信号強度を、前記素子の配列方向が定める軸に垂直方向に前記試料の微動に伴って順次出力することにより、2次元の信号強度分布として顕微鏡像を得ることを特徴とする、透過型電子顕微鏡。 - 前記電子線検出器から得られた前記顕微鏡像を画像処理するための演算装置を備えるとともに、前記画像処理結果を表示するための表示装置を備えることを特徴とする、請求項1に記載の透過型電子顕微鏡。
- 前記電子線バイプリズムにより前記試料の像に重畳して前記電子線干渉縞が形成されこれにより、前記顕微鏡像として干渉顕微鏡像が得られることを特徴とする、請求項1又は2に記載の透過型電子顕微鏡。
- 前記演算装置を用いることにより、前記干渉顕微鏡像から前記電子線の位相分布像を計算し、前記表示装置により表示することを特徴とする、請求項3に記載の透過型電子顕微鏡。
- 前記試料保持装置による試料の微動方向が、前記顕微鏡像観察記録面における試料の像の移動方向として前記電子検出素子列と垂直方向であることを特徴とする、請求項1〜4の何れかに記載の透過型電子顕微鏡。
- 前記顕微鏡像観察記録面に形成される前記電子線干渉縞が、前記電子検出素子器を構成する素子列と平行方向であることを特徴とする、請求項1から4の何れかに記載の透過型電子顕微鏡。
- 前記像観察記録面上において前記電子検出素子の配列によって構成される列が互いに平行となる少なくとも3個の前記電子線検出器を備えることにより、前記それぞれの電子線検出器から個別に干渉顕微鏡像を得ることができることを特徴とする、請求項3から6の何れかに記載の透過型電子顕微鏡。
- 前記演算装置を用いることにより、前記それぞれの電子線検出器から個別に得られた複数の前記干渉顕微鏡像から、前記電子線の位相分布像を計算し、前記表示装置により表示することを特徴とする、請求項7に記載の透過型電子顕微鏡。
- 電子線バイプリズムと、
試料を光軸と垂直な面内において少なくとも1方向に微動可能な試料保持装置と、
試料の像及び電子線バイプリズムにより形成される電子線干渉縞が観察される顕微鏡像観察記録面において列状に配された複数の電子検出素子から構成される電子線検出器と、を備えた透過型電子顕微鏡を用いた電子線干渉方法であって、
前記試料の像と前記電子線干渉縞とを、重畳して前記像観察記録面に形成し、
前記電子検出素子の信号強度を前記素子の配列方向が定める軸に沿って出力し、
前記微動可能な試料保持装置により所定の距離だけ前記試料を微動させることによって変化する前記電子検出素子からの信号強度を、前記素子の配列方向が定める軸に垂直方向に前記試料の微動に伴って順次出力することにより、2次元の信号強度分布を取得して干渉顕微鏡像を得ることを特徴とする、電子線干渉法。 - 前記干渉顕微鏡像の演算処理により前記電子線の位相分布像を得ることを特徴とする、請求項9に記載の電子線干渉法。
- 前記像観察記録面上において前記電子検出素子の配列によって構成される列が互いに平行となる少なくとも3個の前記電子線検出器を備え、前記それぞれの電子線検出器からそれぞれ個別に干渉顕微鏡像を得ることを特徴とする、請求項9又は10に記載の電子線干渉法。
- 前記それぞれの電子線検出器を用いて個別に得られた前記複数の干渉顕微鏡像の演算処理により、試料を透過した電子線の位相分布像を得ることを特徴とする、請求項11に記載の電子線干渉法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012101654A JP5970648B2 (ja) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012101654A JP5970648B2 (ja) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013229244A true JP2013229244A (ja) | 2013-11-07 |
JP5970648B2 JP5970648B2 (ja) | 2016-08-17 |
Family
ID=49676677
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012101654A Expired - Fee Related JP5970648B2 (ja) | 2012-04-26 | 2012-04-26 | 透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5970648B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017022093A1 (ja) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | 株式会社日立製作所 | 電子線干渉装置および電子線干渉方法 |
CN111213220A (zh) * | 2017-10-17 | 2020-05-29 | 安特卫普大学 | 带电粒子束的空间相位操纵 |
CN111656482A (zh) * | 2018-02-01 | 2020-09-11 | 株式会社日立高新技术 | 进行了空间相位调制的电子波的发生装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6465762A (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-13 | Hitachi Ltd | Electron beam holography device |
WO2001075394A1 (fr) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Japan Science And Technology Corporation | Dispositif de mesure des interferences |
JP2005294085A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Hitachi Ltd | 走査電子線干渉装置 |
JP2010198985A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Hitachi Ltd | 電子線干渉装置、および電子線干渉顕微方法 |
WO2011071015A1 (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | 株式会社日立製作所 | 電子線バイプリズム装置および電子線装置 |
-
2012
- 2012-04-26 JP JP2012101654A patent/JP5970648B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6465762A (en) * | 1987-09-04 | 1989-03-13 | Hitachi Ltd | Electron beam holography device |
WO2001075394A1 (fr) * | 2000-03-30 | 2001-10-11 | Japan Science And Technology Corporation | Dispositif de mesure des interferences |
JP2005294085A (ja) * | 2004-04-01 | 2005-10-20 | Hitachi Ltd | 走査電子線干渉装置 |
JP2010198985A (ja) * | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Hitachi Ltd | 電子線干渉装置、および電子線干渉顕微方法 |
WO2011071015A1 (ja) * | 2009-12-11 | 2011-06-16 | 株式会社日立製作所 | 電子線バイプリズム装置および電子線装置 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2017022093A1 (ja) * | 2015-08-05 | 2017-02-09 | 株式会社日立製作所 | 電子線干渉装置および電子線干渉方法 |
JPWO2017022093A1 (ja) * | 2015-08-05 | 2018-05-10 | 株式会社日立製作所 | 電子線干渉装置および電子線干渉方法 |
CN111213220A (zh) * | 2017-10-17 | 2020-05-29 | 安特卫普大学 | 带电粒子束的空间相位操纵 |
CN111656482A (zh) * | 2018-02-01 | 2020-09-11 | 株式会社日立高新技术 | 进行了空间相位调制的电子波的发生装置 |
CN111656482B (zh) * | 2018-02-01 | 2023-10-03 | 株式会社日立高新技术 | 进行了空间相位调制的电子波的发生装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5970648B2 (ja) | 2016-08-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7816648B2 (en) | Electron interferometer or electron microscope | |
US7538323B2 (en) | Interferometer | |
EP2315232B1 (en) | Transmission electron microscope and method for observing specimen image with the same | |
EP3514599B1 (en) | Spatial frequency reproducing method and optical distance measuring apparatus | |
JP5420678B2 (ja) | 電子線バイプリズム装置および電子線装置 | |
JP5736461B2 (ja) | 電子顕微鏡および試料観察方法 | |
JP2006313069A (ja) | 干渉装置 | |
JP5382695B2 (ja) | 電子線干渉装置、および電子線干渉顕微方法 | |
JP5970648B2 (ja) | 透過型電子顕微鏡及び電子線干渉法 | |
JP4852249B2 (ja) | 荷電粒子線装置および干渉装置 | |
JP5462434B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置、及び荷電粒子ビーム顕微鏡 | |
JPWO2007058182A1 (ja) | 位相差電子顕微鏡装置 | |
JP5648136B2 (ja) | 電子線干渉装置および電子線干渉法 | |
JP5380366B2 (ja) | 透過型干渉顕微鏡 | |
JP6051596B2 (ja) | 干渉電子顕微鏡 | |
JP6270615B2 (ja) | 標本像データ生成装置、及び、標本像データ生成方法 | |
JP2015004643A (ja) | 空間周波数再現装置 | |
JP7244829B2 (ja) | 干渉電子顕微鏡 | |
JP4600239B2 (ja) | 磁性電子顕微鏡 | |
JP2006331652A (ja) | 透過型干渉電子顕微鏡 | |
JP6487556B2 (ja) | 電子線干渉装置および電子線干渉方法 | |
WO2023152734A1 (en) | System and method for extraction of structural data of a sample from scan data | |
JPH02298983A (ja) | 電子線または荷電粒子線を用いた2光束イメージホログラムの実時間再生装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140820 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20140820 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20150406 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150414 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150615 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151020 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20151217 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20160517 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20160609 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5970648 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |