JP2013219117A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013219117A5 JP2013219117A5 JP2012086851A JP2012086851A JP2013219117A5 JP 2013219117 A5 JP2013219117 A5 JP 2013219117A5 JP 2012086851 A JP2012086851 A JP 2012086851A JP 2012086851 A JP2012086851 A JP 2012086851A JP 2013219117 A5 JP2013219117 A5 JP 2013219117A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- offset amount
- optical system
- illumination range
- illumination
- blade
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 57
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 30
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 10
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 claims description 5
- 230000004075 alteration Effects 0.000 claims description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012086851A JP6023451B2 (ja) | 2012-04-05 | 2012-04-05 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
| US13/832,706 US9140991B2 (en) | 2012-04-05 | 2013-03-15 | Illumination optical system, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| TW102110042A TWI505041B (zh) | 2012-04-05 | 2013-03-21 | 照明光學系統,曝光設備,及裝置製造方法 |
| KR1020130036122A KR101633317B1 (ko) | 2012-04-05 | 2013-04-03 | 조명 광학계, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2012086851A JP6023451B2 (ja) | 2012-04-05 | 2012-04-05 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013219117A JP2013219117A (ja) | 2013-10-24 |
| JP2013219117A5 true JP2013219117A5 (enExample) | 2015-05-21 |
| JP6023451B2 JP6023451B2 (ja) | 2016-11-09 |
Family
ID=49292054
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2012086851A Active JP6023451B2 (ja) | 2012-04-05 | 2012-04-05 | 照明光学系、露光装置及びデバイス製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9140991B2 (enExample) |
| JP (1) | JP6023451B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101633317B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI505041B (enExample) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN105632971B (zh) * | 2014-11-26 | 2019-06-25 | 上海微电子装备(集团)股份有限公司 | 一种硅片处理装置及方法 |
| TWI571710B (zh) * | 2014-12-30 | 2017-02-21 | 力晶科技股份有限公司 | 曝光機台對準光源裝置內的模組作動監控方法及監控系統 |
| JP6661270B2 (ja) * | 2015-01-16 | 2020-03-11 | キヤノン株式会社 | 露光装置、露光システム、および物品の製造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2503451B2 (ja) * | 1985-12-26 | 1996-06-05 | 株式会社ニコン | 投影露光方法及び装置 |
| JPH0471217A (ja) * | 1990-07-11 | 1992-03-05 | Nec Yamagata Ltd | 露光装置 |
| JP3068785B2 (ja) | 1996-02-13 | 2000-07-24 | 株式会社ニコン | 投影露光装置、または投影露光方法、及びその投影露光方法を用いたデバイス製造方法、及びそのデバイス製造方法により製造されたデバイス |
| JPH1126379A (ja) * | 1997-05-09 | 1999-01-29 | Canon Inc | 露光装置およびデバイス製造方法 |
| JPH11251219A (ja) * | 1998-03-02 | 1999-09-17 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法及びディスプレイ装置の製造方法 |
| WO1999063585A1 (en) * | 1998-06-02 | 1999-12-09 | Nikon Corporation | Scanning aligner, method of manufacture thereof, and method of manufacturing device |
| JP2000243681A (ja) | 1999-02-17 | 2000-09-08 | Nikon Corp | 投影露光装置及び該投影露光装置を用いた露光方法 |
| JP2000252193A (ja) | 1999-03-01 | 2000-09-14 | Canon Inc | 露光装置、露光方法およびデバイス製造方法 |
| JP4174660B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2008-11-05 | 株式会社ニコン | 露光方法及び装置、プログラム及び情報記録媒体、並びにデバイス製造方法 |
| JP4497949B2 (ja) | 2004-02-12 | 2010-07-07 | キヤノン株式会社 | 露光装置 |
| JP2008304834A (ja) * | 2007-06-11 | 2008-12-18 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | パターン描画装置および歪み補正方法 |
| JP2010186761A (ja) * | 2009-02-10 | 2010-08-26 | Canon Inc | 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 |
-
2012
- 2012-04-05 JP JP2012086851A patent/JP6023451B2/ja active Active
-
2013
- 2013-03-15 US US13/832,706 patent/US9140991B2/en active Active
- 2013-03-21 TW TW102110042A patent/TWI505041B/zh active
- 2013-04-03 KR KR1020130036122A patent/KR101633317B1/ko active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2011238707A5 (enExample) | ||
| JP6463935B2 (ja) | 露光装置、露光方法、およびデバイス製造方法 | |
| CN105573064A (zh) | 曝光方法、曝光装置和物品制造方法 | |
| JP5063229B2 (ja) | 露光装置及びデバイス製造方法 | |
| JP2010192470A5 (enExample) | ||
| JP2014007262A5 (enExample) | ||
| JP2005228846A5 (enExample) | ||
| JP2008197582A5 (enExample) | ||
| JP2013219117A5 (enExample) | ||
| JP2015197421A (ja) | 三次元形状計測システムに用いられる投影装置および撮像装置 | |
| JP2011014745A5 (enExample) | ||
| WO2018123639A1 (ja) | 撮像装置および撮像方法 | |
| JP2009277711A (ja) | 露光装置、補正方法及びデバイス製造方法 | |
| KR102126232B1 (ko) | 평가 방법, 노광 방법, 및 물품의 제조 방법 | |
| TWI505041B (zh) | 照明光學系統,曝光設備,及裝置製造方法 | |
| US9904170B2 (en) | Reticle transmittance measurement method, projection exposure method using the same, and projection exposure device | |
| JP2020071274A5 (enExample) | ||
| KR20100131924A (ko) | 파면수차 측정 장치, 노광 장치 및 디바이스 제조 방법 | |
| WO2014073590A1 (ja) | 3次元計測装置および3次元計測方法 | |
| JP2005093697A5 (enExample) | ||
| JP2016066995A (ja) | 像ズレ量算出装置、撮像装置、および像ズレ量算出方法 | |
| CN118381893A (zh) | 内在参数校准系统 | |
| JP2017003617A5 (enExample) | ||
| JP2010034319A (ja) | 波面収差の測定方法 | |
| JP2008233389A (ja) | 焦点判定方法、焦点判定装置、および焦点判定プログラム |