JP2013207070A - 積層モジュール - Google Patents
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Abstract
【解決手段】積層モジュールが、階段状壁面1Yを有する開口部1Xと、第1基板6の表面側の第1線路導体16及び裏面側の第1接地導体層17で構成される第1伝送線路18とを備える第1多層基板1と、階段状壁面の段部1Z上に支持され、第2基板11の表面側の第2線路導体12及び裏面側の第2接地導体層14で構成される第2伝送線路15を備える第2多層基板2と、開口部底面に実装され、第1多層基板に備えられる第3伝送線路10に接続された第1半導体チップ3と、第2多層基板に表面実装され、第2伝送線路に接続された第2半導体チップ4とを備え、第1接地導体層又はこれに接続された第3接地導体層が露出している段部上に第2接地導体層又はこれに接続された第4接地導体層が露出している面が接合され、第1接地導体層と第2接地導体層が接続されている。
【選択図】図1
Description
しかしながら、高周波化に伴い、積層モジュールを構成する一の多層基板と他の多層基板との接続部分の伝送損失が大きくなり、低損失化、広帯域化を実現することが困難であった。
本実施形態にかかる積層モジュールは、図1に示すように、半導体チップ3、4が実装された複数(ここでは2つ)の多層基板1、2を積層させたものである。つまり、第1半導体チップ3が実装された第1多層基板1と、第2半導体チップ4が実装された第2多層基板2とを積層させた積層モジュールである。
本実施形態の送受信モジュールは、図1に示すように、第1半導体チップ3として複数の送信用又は受信用半導体チップが実装された第1多層基板1上に、第2半導体チップ4として複数の送信用又は受信用半導体チップが実装された第2多層基板2を積層させたものである。これにより、送受信モジュールの小型化を実現することができる。
具体的には、第1多層基板1は、例えばCuWなどの金属材料からなる金属ベース5上に、表面に配線を有する複数(ここでは6層)のアルミナ基板6を積層させた構造を有する多層アルミナ基板を備えた構造になっている。なお、アルミナ基板6を、セラミクス基板、アルミナセラミクス基板、あるいは、誘電体基板ともいう。また、金属ベース5を、金属板、放熱部材又は接地導体層ともいう。ここでは、下側から5層目までのアルミナ基板6の厚さを約0.25mmとし、6層目のアルミナ基板6の厚さを約0.38mmとしている。このように、ここでは、第1多層基板1には、HTCC基板6を用いたHTCC技術を採用している。
具体的には、第1多層基板1を構成する複数(ここでは6層)のアルミナ基板6のそれぞれに開口部が設けられている。そして、下側から1層目のアルミナ基板6に設けられた開口部のサイズよりも2層目〜4層目のアルミナ基板6に設けられた開口部のサイズが大きくなっている。また、2層目〜4層目のアルミナ基板6に設けられた開口部のサイズよりも5層目のアルミナ基板6に設けられた開口部のサイズが大きくなっている。また、5層目のアルミナ基板6に設けられた開口部のサイズよりも6層目のアルミナ基板6に設けられた開口部のサイズが大きくなっている。このようにして、複数の送信用又は受信用半導体チップ3、及び、第2多層基板2を実装するための開口部1Xとして、階段状の壁面1Yを有する開口部が設けられている。
また、これらの半導体チップ3A、3Bは、下側から1層目のアルミナ基板6の開口部のサイズよりも2層目のアルミナ基板6の開口部のサイズが大きくなっていることによって、1層目のアルミナ基板6の開口部側の端部の上面に露出している高周波信号配線8に、それぞれ、ワイヤ9(ワイヤボンディング)によって電気的に接続されている。この場合、金属ベース5が高周波接地配線として機能する。このように、1層目のアルミナ基板6の表面に設けられた高周波信号配線8(線路導体)と、1層目のアルミナ基板6の裏面に接する金属ベース5によって構成される高周波接地配線(接地導体層)とによって構成される、高周波信号を伝送する伝送線路10に、これらの半導体チップ3A、3Bが電気的に接続されている。つまり、第1多層基板1に備えられる伝送線路10、即ち、第1多層基板1の下方に備えられる伝送線路10に、第1半導体チップ3としての半導体チップ3A、3Bが電気的に接続されている。なお、この伝送線路10を、第3伝送線路という。
また、第1多層基板1の下側から4層目のアルミナ基板6の開口部のサイズよりも5層目のアルミナ基板6の開口部のサイズが大きくなっていることによって、4層目のアルミナ基板6の表面側、即ち、5層目のアルミナ基板6の裏面側に設けられた高周波接地配線17(接地導体層)が、4層目のアルミナ基板6の開口部側の端部の上面で露出している。つまり、第1多層基板1の下側から4層目のアルミナ基板6の開口部のサイズよりも5層目のアルミナ基板6の開口部のサイズが大きくなっていることによって設けられた段部1Z、即ち、第1多層基板1の開口部1Xの階段状の壁面1Yに設けられた段部1Zの表面に、高周波接地配線17が露出している。
また、上述のように、第1多層基板1の開口部1Xの階段状の壁面1Yに設けられた段部1Z上に、第2多層基板2が支持されている。そして、第1多層基板1に備えられる第1接地導体層17が露出している段部1Z上に、第2多層基板2に備えられる第2接地導体層14が露出している突出部2Xの裏面が接合され、第1接地導体層17と第2接地導体層14とが電気的に接続されている。ここでは、第1多層基板1の開口部1Xの階段状の壁面1Yに設けられた段部1Zの表面に露出している第1接地導体層17と、第2多層基板2の突出部2Xの裏面に露出している第2接地導体層14とがはんだ接合されている。
したがって、本実施形態にかかる積層モジュールによれば、小型化を実現しながら、低損失化、広帯域化を実現することができるという利点がある。
なお、このシミュレーションでは、上述の実施形態において示した積層モジュールの寸法を用いて、第1多層基板1と第2多層基板2の接続部20の伝送特性として、反射特性S11及び通過特性S21を計算した。図5、図6では、反射特性S11は丸でプロットした実線で示しており、通過特性S21は四角でプロットした実線で示している。また、第1多層基板1の高周波信号配線16と第2多層基板2の高周波信号配線12との間は、直径約25μmのワイヤ19を用いたワイヤボンディングによって接続し、第1多層基板1の高周波接地配線17(接地導体層)と第2多層基板2の高周波接地配線14(接地導体層)との間は、理想的に電気的に接続されていると仮定して計算した。
つまり、反射特性S11は、入力信号に対して反射して戻ってきた信号の割合であり、その値(dB)が0dBに近くなると反射して戻ってきた信号が多く、伝送特性が劣化していることになる。また、通過特性S21は、利得(又は損失)を表しており、その値(dB)が0dBに近くなるほど、良好な伝送特性を維持していることになる。そして、上述の比較例(図4参照)の積層モジュールでは、伝送特性の劣化の基準を反射特性−18dBとしたところ、図6に示すように、良好な伝送特性が得られる帯域は約5GHz程度であった。また、約5GHzを超えると、通過特性S21の値が0dBから遠くなり、損失が大きくなった。このように、上述の比較例(図4参照)の積層モジュールでは、良好な伝送特性が得られる帯域は約5GHz程度であった。
つまり、本実施形態の積層モジュールでは、伝送特性の劣化の基準を反射特性−18dBとしたところ、図5に示すように、良好な伝送特性が得られる帯域は約27GHz程度まで広帯域化することを確認できた。また、約27GHz程度までは、通過特性S21の値が0dBに近く、低損失であることを確認できた。このように、本実施形態の積層モジュールでは、良好な伝送特性が得られる帯域は約27GHz程度まで広帯域化し、低損失化を図ることができることを確認できた。
例えば、上述の実施形態では、半導体チップ3、4が実装された2つの多層基板1、2を積層した積層モジュールを例に挙げて説明しているが、これに限られるものではなく、例えば半導体チップが実装された3つ以上の多層基板を積層した積層モジュールに本発明を適用することもできる。
まず、第1変形例について、図7、図8を参照しながら説明する。
第1変形例では、図7に示すように、第1多層基板1に備えられる第1伝送線路18を構成する第1接地導体層17が露出している段部1Z上に、第2多層基板2に備えられる第2伝送線路15を構成する第2接地導体層14に電気的に接続された第4接地導体層30が露出している突出部2Xの裏面が接合され、第1接地導体層17と第2接地導体層14とが電気的に接続されている。
つまり、第2多層基板2は、下側2層のアルミナ基板11のサイズよりも上側3層のアルミナ基板11のサイズが大きくなっており、上側3層のアルミナ基板11の外周部が下側2層のアルミナ基板11よりも外側へ突出している。つまり、下側2層のアルミナ基板11は、上側3層のアルミナ基板11の下面の内側部分に設けられている。このため、第2多層基板2は、下に凸の形状になっている。このように、第2多層基板2は、外周部の積層数が少なくなっており、表面側部分(ここでは上側3層のアルミナ基板11)が裏面側部分(ここでは下側2層のアルミナ基板11)よりも外側へ突出した突出部2Xを備える。そして、この突出部2Xの裏面、即ち、下側から3層目のアルミナ基板11の外周部の裏面には、高周波接地配線14(第2接地導体層)にビア31を介して電気的に接続されている接地配線30(第4接地導体層)が露出している。なお、第4接地導体層30は、伝送線路を構成する接地導体層以外の接地導体層である。ここでは、第4接地導体層30は、第2接地導体層14に対してアルミナ基板2層分下側に設けられている。
第2変形例では、図9に示すように、上述の第1変形例の場合と同様に、第1多層基板1に備えられる第1伝送線路18を構成する第1接地導体層17が露出している段部1Z上に、第2多層基板2に備えられる第2伝送線路15を構成する第2接地導体層14に電気的に接続された第4接地導体層30が露出している突出部2Xの裏面が接合され、第1接地導体層17と第2接地導体層14とが電気的に接続されている。
つまり、第2多層基板2は、厚さ約0.125mmのアルミナ基板11を6層積層した構造になっている。つまり、上述の実施形態及び第1変形例では、5層目(最上層)のアルミナ基板11の厚さを約0.25mmとしていたのに対し、第2変形例では、これを2層に分割して5層目、6層目(最上層)のアルミナ基板11とし、これらの厚さを約0.125mmとしている。このため、第2多層基板2に備えられる伝送線路15(第2伝送線路)は、6層目(最上層)のアルミナ基板11(第2基板)の表面側に設けられた高周波信号配線12(第2線路導体)及び6層目のアルミナ基板11の裏面側に設けられた高周波接地配線14(第2接地導体層)によって構成される。この場合、第1多層基板1に備えられる伝送線路18(第1伝送線路)は、上述の実施形態と同様である。このため、第2多層基板2に備えられる伝送線路15を表面及び裏面に備えるアルミナ基板11(第2基板)の厚さは、第1多層基板1に備えられる伝送線路18を表面及び裏面に備えるアルミナ基板6(第1基板)の厚さよりも薄くなっている。また、ここでは、6層目のアルミナ基板11の裏面側、即ち、5層目のアルミナ基板11の表面側に設けられた高周波接地配線14(第2接地導体層)には、ビア31を介して、伝送線路を構成する接地配線以外の接地配線30(第4接地導体層)が電気的に接続されている。つまり、第2多層基板2に備えられる伝送線路15(第2伝送線路)を構成する高周波接地配線14(第2接地導体層)の下側の5層目のアルミナ基板11を挟んで高周波接地配線14の反対側に、伝送線路を構成する接地配線以外の接地配線30(第4接地導体層)が設けられている。このように、第4接地導体層30は、第2接地導体層14の下側の第1基板6よりも薄い基板11を挟んで第2接地導体層14の反対側に設けられている。このように、第2多層基板2を構成する5層目、6層目のアルミナ基板11の厚さを薄くして、第2伝送線路15及び第4接地導体層を設けることで、グランドを強化することが可能となる。このため、第4接地導体層30は、第2接地導体層14に対してアルミナ基板1層分下側に設けられている。
第3変形例では、図11に示すように、第1多層基板1に備えられる第1伝送線路18を構成する第1接地導体層17の下側の基板6を挟んで第1接地導体層17の反対側に設けられ、第1接地導体層17に電気的に接続された第3接地導体層32が露出している段部1Z上に、第2多層基板2に備えられる第2伝送線路15を構成する第2接地導体層14が露出している突出部2Xの裏面が接合され、第1接地導体層17と第2接地導体層14とが電気的に接続されている。
つまり、第1多層基板1は、金属ベース5上に、複数(ここでは7層)のアルミナ基板6を積層させた構造を有する多層アルミナ基板を備えた構造になっており、下側から6層目までのアルミナ基板6の厚さを約0.25mmとし、7層目のアルミナ基板6の厚さを約0.38mmとしている。
第4変形例では、図13に示すように、第1多層基板1に備えられる第1伝送線路18を構成する第1接地導体層17に電気的に接続された第3接地導体層32が露出している段部1Z上に、第2多層基板2に備えられる第2伝送線路15を構成する第2接地導体層14に電気的に接続された第4接地導体層30が露出している突出部2Xの裏面が接合され、第1接地導体層17と第2接地導体層14とが電気的に接続されている。
このため、第1多層基板1の下側から4層目のアルミナ基板6の開口部のサイズよりも5層目のアルミナ基板6の開口部のサイズが大きくなっていることによって設けられた段部1Z、即ち、第1多層基板1の開口部1Xの階段状の壁面1Yに設けられた段部1Zの表面に、高周波接地配線17(第1接地導体層)の下側の5層目のアルミナ基板6を挟んで高周波接地配線17の反対側に設けられ、高周波接地配線17(第1接地導体層)にビア33を介して電気的に接続された接地配線32(第3接地導体層)が露出している。なお、第3接地導体層32は、伝送線路を構成する接地導体層以外の接地導体層である。ここでは、第3接地導体層32は、第1接地導体層17に対してアルミナ基板1層分下側に設けられている。
第5変形例では、図15に示すように、第1多層基板1に備えられる第1伝送線路18を構成する第1接地導体層17が露出している段部1Z上に、第2多層基板2に備えられる第2伝送線路15を構成する第2接地導体層14に電気的に接続された接地導体層(第4接地導体層)21が露出している第2多層基板2の裏面が接合され、第1接地導体層17と第2接地導体層14とが電気的に接続されている。
また、第2多層基板2に突出部が設けられていない点が異なるだけで、その他の構成は上述の実施形態の場合と同様である。
また、例えば、上述の実施形態では、半導体チップや第2多層基板などの実装部品を、例えばAuSnなどのはんだを用いて実装する場合を例に挙げて説明しているが、これに限られるものではなく、例えば導電性接着剤などを用いて実装しても良い。
(付記1)
階段状の壁面を有する開口部と、第1基板の表面側に設けられた第1線路導体及び前記第1基板の裏面側に設けられた第1接地導体層によって構成される第1伝送線路とを備える第1多層基板と、
前記開口部の階段状の壁面に設けられた段部上に支持されており、第2基板の表面側に設けられた第2線路導体及び前記第2基板の裏面側に設けられた第2接地導体層によって構成される第2伝送線路を備える第2多層基板と、
前記第1多層基板の前記開口部の底面に実装され、前記第1多層基板に備えられる第3伝送線路に電気的に接続された第1半導体チップと、
前記第2多層基板の表面に実装され、前記第2伝送線路に電気的に接続された第2半導体チップとを備え、
前記第1接地導体層、又は、前記第1接地導体層の下側の基板を挟んで前記第1接地導体層の反対側に設けられ、前記第1接地導体層に電気的に接続された第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層、又は、前記第2接地導体層に電気的に接続された第4接地導体層が露出している面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする積層モジュール。
前記第2多層基板は、外側部分の積層数が少なくなっており、表面側部分が裏面側部分よりも外側へ突出した突出部を備え、
前記第2接地導体層又は前記第4接地導体層が露出している面が、前記突出部の裏面であることを特徴とする、付記1に記載の積層モジュール。
前記第1接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、付記2に記載の積層モジュール。
(付記4)
前記第1接地導体層が露出している前記段部上に、前記第4接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、付記2に記載の積層モジュール。
前記第2基板の厚さは、前記第1基板の厚さよりも薄く、
前記第4接地導体層は、前記第2接地導体層の下側の前記第1基板よりも薄い基板を挟んで前記第2接地導体層の反対側に設けられていることを特徴とする、付記4に記載の積層モジュール。
前記第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、付記2に記載の積層モジュール。
(付記7)
前記第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第4接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、付記2に記載の積層モジュール。
前記第1接地導体層が露出している前記段部上に、前記第4接地導体層が露出している前記第2多層基板の底面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、付記1に記載の積層モジュール。
(付記9)
前記第1接地導体層又は前記第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層又は前記第4接地導体層が露出している面がはんだ接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、付記1〜8のいずれか1項に記載の積層モジュール。
前記第2多層基板の裏面に接地導体層が形成されていることを特徴とする、付記1〜9のいずれか1項に記載の積層モジュール。
(付記11)
前記第1半導体チップとして、送信用又は受信用半導体チップを備え、
前記第2半導体チップとして、送信用又は受信用半導体チップを備えることを特徴とする、付記1〜10のいずれか1項に記載の積層モジュール。
1X 開口部
1Y 壁面
1Z 段部
2 第2多層基板
2X 突出部
3 第1半導体チップ(送信用又は受信用半導体チップ)
3A ドライバー増幅器(送信用又は受信用半導体チップ)
3B 高出力増幅器(送信用又は受信用半導体チップ)
4 第2半導体チップ(送信用又は受信用半導体チップ)
4A 低雑音増幅器(送信用又は受信用半導体チップ)
4B 高利得増幅器(送信用又は受信用半導体チップ)
4C 前置増幅器(送信用又は受信用半導体チップ)
4D 制御回路(送信用又は受信用半導体チップ)
5 金属ベース(接地導体層)
6 アルミナ基板(第1基板)
7、9 ワイヤ
8 高周波信号配線(線路導体)
10 伝送線路(第3伝送線路)
11 アルミナ基板(第2基板)
12 高周波信号配線(線路導体;第2線路導体)
13 ワイヤ
14 高周波接地配線(接地導体層;第2接地導体層)
15 伝送線路(第2伝送線路)
16 高周波信号配線(線路導体;第1線路導体)
17 高周波接地配線(接地導体層;第1接地導体層)
18 伝送線路(第1伝送線路)
19 ワイヤ
20 接続部
21 接地導体層(第4接地導体層)
22 電源配線
23 金属キャビティ
24 メタルフレーム
25 フタ
26 電源配線
27 高周波信号配線
30 接地配線(第4接地導体層)
31 ビア
32 接地配線(第3接地導体層)
33、34 ビア
50 接地導体層
51、52 ビア
Claims (10)
- 階段状の壁面を有する開口部と、第1基板の表面側に設けられた第1線路導体及び前記第1基板の裏面側に設けられた第1接地導体層によって構成される第1伝送線路とを備える第1多層基板と、
前記開口部の階段状の壁面に設けられた段部上に支持されており、第2基板の表面側に設けられた第2線路導体及び前記第2基板の裏面側に設けられた第2接地導体層によって構成される第2伝送線路を備える第2多層基板と、
前記第1多層基板の前記開口部の底面に実装され、前記第1多層基板に備えられる第3伝送線路に電気的に接続された第1半導体チップと、
前記第2多層基板の表面に実装され、前記第2伝送線路に電気的に接続された第2半導体チップとを備え、
前記第1接地導体層、又は、前記第1接地導体層の下側の基板を挟んで前記第1接地導体層の反対側に設けられ、前記第1接地導体層に電気的に接続された第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層、又は、前記第2接地導体層に電気的に接続された第4接地導体層が露出している面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする積層モジュール。 - 前記第2多層基板は、外側部分の積層数が少なくなっており、表面側部分が裏面側部分よりも外側へ突出した突出部を備え、
前記第2接地導体層又は前記第4接地導体層が露出している面が、前記突出部の裏面であることを特徴とする、請求項1に記載の積層モジュール。 - 前記第1接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、請求項2に記載の積層モジュール。
- 前記第1接地導体層が露出している前記段部上に、前記第4接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、請求項2に記載の積層モジュール。
- 前記第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、請求項2に記載の積層モジュール。
- 前記第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第4接地導体層が露出している前記突出部の裏面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、請求項2に記載の積層モジュール。
- 前記第1接地導体層が露出している前記段部上に、前記第4接地導体層が露出している前記第2多層基板の底面が接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、請求項1に記載の積層モジュール。
- 前記第1接地導体層又は前記第3接地導体層が露出している前記段部上に、前記第2接地導体層又は前記第4接地導体層が露出している面がはんだ接合され、前記第1接地導体層と前記第2接地導体層とが電気的に接続されていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の積層モジュール。
- 前記第2多層基板の裏面に接地導体層が形成されていることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか1項に記載の積層モジュール。
- 前記第1半導体チップとして、送信用又は受信用半導体チップを備え、
前記第2半導体チップとして、送信用又は受信用半導体チップを備えることを特徴とする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の積層モジュール。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11508646B2 (en) | 2018-04-12 | 2022-11-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6015508B2 (ja) | 2013-03-18 | 2016-10-26 | 富士通株式会社 | 高周波モジュール |
US9583811B2 (en) * | 2014-08-07 | 2017-02-28 | Infineon Technologies Ag | Transition between a plastic waveguide and a semiconductor chip, where the semiconductor chip is embedded and encapsulated within a mold compound |
US10502987B2 (en) * | 2015-04-07 | 2019-12-10 | Lumentum Operations Llc | High bandwidth RF or microwave interconnects for optical modulators |
US9842813B2 (en) * | 2015-09-21 | 2017-12-12 | Altera Corporation | Tranmission line bridge interconnects |
WO2017098741A1 (ja) | 2015-12-07 | 2017-06-15 | 三菱電機株式会社 | マイクロ波モジュール |
KR102542594B1 (ko) * | 2016-12-16 | 2023-06-14 | 삼성전자 주식회사 | 다층 인쇄 회로 기판 및 이를 포함하는 전자 장치 |
WO2018186154A1 (ja) * | 2017-04-04 | 2018-10-11 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール及び通信装置 |
US10321555B1 (en) * | 2018-09-04 | 2019-06-11 | Raytheon Company | Printed circuit board based RF circuit module |
JP2021164017A (ja) * | 2020-03-31 | 2021-10-11 | 株式会社村田製作所 | 高周波モジュール及び通信装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000174204A (ja) * | 1998-12-09 | 2000-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | Rf回路モジュール |
JP2002359340A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Kyocera Corp | 多層回路基板 |
JP2005026263A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Nec Compound Semiconductor Devices Ltd | 混成集積回路 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2705368B2 (ja) * | 1991-05-31 | 1998-01-28 | 株式会社デンソー | 電子装置 |
US5650662A (en) | 1993-08-17 | 1997-07-22 | Edwards; Steven F. | Direct bonded heat spreader |
DE4338706A1 (de) | 1993-08-24 | 1995-05-04 | Schulz Harder Juergen | Mehrschicht-Substrat |
US5633530A (en) * | 1995-10-24 | 1997-05-27 | United Microelectronics Corporation | Multichip module having a multi-level configuration |
JP3618046B2 (ja) | 1998-04-27 | 2005-02-09 | 京セラ株式会社 | 高周波回路用パッケージ |
JP3725983B2 (ja) | 1998-12-17 | 2005-12-14 | 京セラ株式会社 | 高周波回路用パッケージ |
WO2005067359A1 (ja) | 2003-12-26 | 2005-07-21 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | セラミック多層基板 |
WO2005076351A1 (ja) | 2004-02-09 | 2005-08-18 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 部品内蔵モジュールおよびその製造方法 |
-
2012
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2013
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Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000174204A (ja) * | 1998-12-09 | 2000-06-23 | Mitsubishi Electric Corp | Rf回路モジュール |
JP2002359340A (ja) * | 2001-05-31 | 2002-12-13 | Kyocera Corp | 多層回路基板 |
JP2005026263A (ja) * | 2003-06-30 | 2005-01-27 | Nec Compound Semiconductor Devices Ltd | 混成集積回路 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11508646B2 (en) | 2018-04-12 | 2022-11-22 | Mitsubishi Electric Corporation | Semiconductor device |
DE112018007457B4 (de) | 2018-04-12 | 2024-02-08 | Mitsubishi Electric Corporation | Halbleitervorrichtung |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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US8981881B2 (en) | 2015-03-17 |
CN103367349A (zh) | 2013-10-23 |
US20130257565A1 (en) | 2013-10-03 |
JP5870808B2 (ja) | 2016-03-01 |
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