JP2013198867A - 膜分離設備および膜分離設備の運転方法 - Google Patents
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【課題】循環流が安定してスムーズに形成され、膜面の洗浄効果が向上する膜分離設備を提供する。
【解決手段】処理槽2内に、複数の膜ユニット3a〜3dと、上下方向に循環する循環流4を発生させる散気装置14a〜14dとが設けられ、各膜ユニット3a〜3dは循環流4の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメント8を有し、少なくとも一台の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路に下向流20が流れるとともに残りの膜ユニット3b,3dの膜エレメント間流路に上向流21が流れる膜分離設備1であって、下向流20が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流21が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内にある。
【選択図】図1
【解決手段】処理槽2内に、複数の膜ユニット3a〜3dと、上下方向に循環する循環流4を発生させる散気装置14a〜14dとが設けられ、各膜ユニット3a〜3dは循環流4の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメント8を有し、少なくとも一台の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路に下向流20が流れるとともに残りの膜ユニット3b,3dの膜エレメント間流路に上向流21が流れる膜分離設備1であって、下向流20が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流21が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内にある。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えば下廃水や浄水等の処理対象液を固液分離する逆曝気方式の膜分離設備および膜分離設備の運転方法に関する。尚、逆曝気とは、下向流が膜エレメント間に流れている状態で、膜エレメントの下方より曝気して膜エレメント間に気泡を上昇させることをいう。
従来、この種の膜分離設備としては、例えば図27に示すように、処理槽101の内部に浸漬型の膜ユニット102と、上下方向に循環する循環流103を発生させる複数の散気装置104,109とを設置したものがある。膜ユニット102は、上下が開口した箱状のケーシング105と、ケーシング105内に上下方向に配置され且つ所定間隔で並列に並べられた複数の膜エレメント106とを有している。
洗浄用散気装置104は膜エレメント106の下方に配置され、循環流用散気装置109は、処理槽101内の底部で且つ膜ユニット102の外側に配置されている。
これによると、駆動用空気を循環流用散気装置109から処理槽101内の活性汚泥混合液中に散気することにより、膜ユニット102の外側に上向流107が生起し、これらの上向流107は液面付近で反転して下向流108となり、この下向流108は、膜ユニット102の上部から流入して膜ユニット102内を流れた後、処理槽101内の底部で反転し、膜ユニット102の下部から外側へ流出する。このような上向流107と下向流108とによって、処理槽101内に循環流103が発生する。
これによると、駆動用空気を循環流用散気装置109から処理槽101内の活性汚泥混合液中に散気することにより、膜ユニット102の外側に上向流107が生起し、これらの上向流107は液面付近で反転して下向流108となり、この下向流108は、膜ユニット102の上部から流入して膜ユニット102内を流れた後、処理槽101内の底部で反転し、膜ユニット102の下部から外側へ流出する。このような上向流107と下向流108とによって、処理槽101内に循環流103が発生する。
この際、少量の洗浄用空気を洗浄用散気装置104から散気することにより、少量の空気のエアリフト作用により膜ユニット102に上向流が生起するが、この上向流は循環流用散気装置104による下向流108よりも劣るため、膜ユニット102内には下向流108が生じる。この下向流108は膜エレメント106間に形成されている膜間流路を流れる。この際、洗浄用散気装置104から下向流108中に供給された少量の洗浄用空気の気泡は、下向流108に抗して逆方向に上昇することで上昇速度が遅速し、膜間流路をろ過膜の膜面に沿って上昇しながら上方向のみならず斜め方向や横方向へも漂流する。このような気泡の存在により、下向流108の流れが乱れるとともに、膜間流路における液中の気泡保持量が増加する。これにより、ろ過膜の膜面が良好に洗浄されるとともに、総曝気量を低減できる。
尚、上記のような逆曝気方式の膜分離設備は例えば下記特許文献1に記載されている。
上記の従来形式では、図27に示すように処理槽101内に浸漬型の膜ユニット102を一台設置しているが、図28に示すように複数台の膜ユニット102を設置してもよい。この場合、膜ユニット102間の設置間隔Aや膜ユニット102と処理槽101の壁面101aとの間隔B等の条件によっては、処理槽101内に循環流103がスムーズに形成されず、膜エレメント106のろ過膜の膜面の洗浄効果が低下することがある。
特に、処理槽101が大型で、上記各間隔A,Bが大きい場合、上記のような洗浄効果の低下が顕著であり、また、逆に、処理槽101が小型で、上記各距離A,Bが狭い場合であっても、循環流103が不安定になって洗浄効果の低下を招くことがある。
本発明は、循環流が安定してスムーズに形成され、膜面の洗浄効果が向上する膜分離設備および膜分離設備の運転方法を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本第1発明は、処理槽内に、浸漬型の複数台の膜ユニットと、上下方向に循環する循環流を発生させる散気装置とが設けられた膜分離設備であって、
各膜ユニットは循環流の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメントを有し、
少なくとも一台の膜ユニットの膜エレメント間流路に下向流が流れるとともに残りの膜ユニットの膜エレメント間流路に上向流が流れ、
下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内にあるものである。
各膜ユニットは循環流の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメントを有し、
少なくとも一台の膜ユニットの膜エレメント間流路に下向流が流れるとともに残りの膜ユニットの膜エレメント間流路に上向流が流れ、
下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内にあるものである。
これによると、散気装置で散気することにより、処理槽内に循環流が形成され、少なくとも一台の膜ユニットの膜エレメント間に下向流が流れるとともに残りの膜ユニットの膜エレメント間に上向流が流れる。このとき、ボイド率の比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内となるように散気を行うことで、循環流が安定してスムーズに流れ、下向流中の気泡保持量が増加すると共に気泡の動きの乱れが増加するため、膜エレメントの膜面の洗浄効果が向上する。
尚、ボイド率とは、気液二相流の中のある領域における気体の占める体積比率をいう。
本第2発明における膜分離設備は、下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdは0.07以上で0.12以下の範囲内であるものである。
本第2発明における膜分離設備は、下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdは0.07以上で0.12以下の範囲内であるものである。
これによると、循環流がより一段と安定してスムーズに流れ、膜エレメントの膜面の洗浄効果がさらに向上する。
本第3発明における膜分離設備は、膜エレメントを配置した部分での処理槽の水平方向断面において、循環流が流れる流路のうちの下向流流路の総断面積Dと上向流流路の総断面積Rとの面積比D/Rが0.63以上で3.33以下の範囲内にあるものである。
本第3発明における膜分離設備は、膜エレメントを配置した部分での処理槽の水平方向断面において、循環流が流れる流路のうちの下向流流路の総断面積Dと上向流流路の総断面積Rとの面積比D/Rが0.63以上で3.33以下の範囲内にあるものである。
これによると、循環流がより一段と安定してスムーズに流れ、膜エレメントの膜面の洗浄効果がさらに向上する。
本第4発明における膜分離設備は、下向流の流速を速くするための水流促進機構を備えたものである。
本第4発明における膜分離設備は、下向流の流速を速くするための水流促進機構を備えたものである。
これによると、循環流がより一段と安定してスムーズに流れ、膜エレメントの膜面の洗浄効果がさらに向上する。
本第5発明は、処理槽内に、浸漬型の複数台の膜ユニットと、上下方向に循環する循環流を発生させる散気装置とが設けられ、
各膜ユニットは循環流の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメントを有し、散気装置の散気量を異ならせることにより、上向流と下向流とを発生させる膜分離設備の運転方法であって、
散気量を調節することで、下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内に調節するものである。
本第5発明は、処理槽内に、浸漬型の複数台の膜ユニットと、上下方向に循環する循環流を発生させる散気装置とが設けられ、
各膜ユニットは循環流の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメントを有し、散気装置の散気量を異ならせることにより、上向流と下向流とを発生させる膜分離設備の運転方法であって、
散気量を調節することで、下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内に調節するものである。
以上のように本発明によると、循環流が安定してスムーズに流れ、下向流中の気泡保持量が増加すると共に気泡の動きの乱れが増加するため、膜エレメントの膜面の洗浄効果が向上する。
以下、本発明における実施の形態を、図面を参照して説明する。
(第1の実施の形態)
本発明の逆曝気方式の膜分離設備は例えば下廃水や浄水等の水処理に用いるものであり、本第1の実施の形態では、膜分離活性汚泥処理に用いる膜分離設備について説明する。
(第1の実施の形態)
本発明の逆曝気方式の膜分離設備は例えば下廃水や浄水等の水処理に用いるものであり、本第1の実施の形態では、膜分離活性汚泥処理に用いる膜分離設備について説明する。
図1〜図3に示すように、膜分離設備1は、処理槽2と、浸漬型の複数の膜ユニット3a〜3dと、上下方向に循環する循環流4を発生させる散気設備5とを有している。
各膜ユニット3a〜3dはそれぞれ、処理槽2内に設置され且つ上下両端が開放された四角箱型の膜ケース7と、膜ケース7内に設けられた複数の膜エレメント8とを有している。各膜エレメント8は、樹脂製のろ板9と、ろ板9の両表面に取り付けられたろ過膜10とを有している。これら各膜エレメント8は、ろ過膜10を透過した透過液を導出する透過液導出系12に連通している。
各膜ユニット3a〜3dはそれぞれ、処理槽2内に設置され且つ上下両端が開放された四角箱型の膜ケース7と、膜ケース7内に設けられた複数の膜エレメント8とを有している。各膜エレメント8は、樹脂製のろ板9と、ろ板9の両表面に取り付けられたろ過膜10とを有している。これら各膜エレメント8は、ろ過膜10を透過した透過液を導出する透過液導出系12に連通している。
各膜エレメント8は、ろ過膜10の膜面を上下方向に沿わせて、膜ケース7内に所定間隔C(一般的に約5〜8mm程度)をあけて平行に配列されている。膜エレメント8の厚さ方向において隣り合う膜エレメント8のろ過膜10の膜面間には膜エレメント間流路11が形成されている。
散気設備5は、処理槽2内の底部に設置された散気ケース13と、散気ケース13内に設置された複数の散気装置14a〜14dと、各散気装置14a〜14dに散気用の空気を供給する給気装置(図示省略)とを有している。膜ユニット3a〜3dは散気ケース13の上部に設けられ、各膜ケース7の下端部は散気ケース13内に連通している。また、各散気装置14a〜14dはそれぞれ、各膜ユニット3a〜3dの下方に配置されており、複数の散気管等から構成されている。尚、給気装置は、ブロワや、各散気装置14a〜14dの散気量(空気噴出量)を調節するバルブ等を有している。
また、散気ケース13の内部は、複数の仕切板15によって、複数のドラフト部17a〜17dに仕切られている。尚、各仕切板15の下端と処理槽2の底面との間には連通部16が形成されており、仕切板15を介して隣接するドラフト部17a〜17d同士は連通部16を介して連通している。
各散気装置14a〜14dの散気量を調節することにより、処理槽2内の処理対象液19が流動して、処理槽2内に上下方向の循環流4が発生し、この際、少なくとも一台の膜ユニットの膜エレメント間流路11に下向流20を形成するとともに残りの膜ユニットの膜エレメント間流路11に上向流21を形成する。
例えば、図1に示すように、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を第1および第3の散気装置14a,14cの散気量よりも増やして大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に循環流4の一部である上向流21が生起し、上向流21が液面付近で反転して下向流20となり、下向流20は、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1および第3のドラフト部17a,17cから底部の連通部16を通って隣の第2および第4のドラフト部17b,17dに流入して循環する。
図2に示すように、各膜ユニット3a〜3dの膜ケース7の内部における内側縦寸法をL1とし、内側横寸法をL2とすると、一台の膜ケース7の内側横断面積SはL1×L2となる。この内側横断面積SのE%を膜エレメント間流路11が占めているとすると(以下、上記Eを膜エレメント間流路率という)、膜ユニット3a〜3dの一台当りの膜エレメント間流路11の流路断面積S1は下記式のように示される。
S1=S×E/100=L1×L2×E/100
例えば、内側縦寸法L1=2000mm、内側横寸法L2=500mmとすると、内側横断面積Sは2000mm×500mm=1m2となる。このうちの50%が膜エレメント間流路11とすると、各膜ユニット3a〜3dの一台当りの流路断面積S1は0.5m2となる。
S1=S×E/100=L1×L2×E/100
例えば、内側縦寸法L1=2000mm、内側横寸法L2=500mmとすると、内側横断面積Sは2000mm×500mm=1m2となる。このうちの50%が膜エレメント間流路11とすると、各膜ユニット3a〜3dの一台当りの流路断面積S1は0.5m2となる。
循環流4が流れる流路のうちの下向流20が流れる下向流流路の総断面積をDとし、上向流21が流れる上向流流路の総断面積をRとすると、上記図1では、第2および第4の膜ユニット3b,3dに上向流21が生起され、第1および第3の膜ユニット3a,3cに下向流20が生起されているため、総断面積Dと総断面積Rとの面積比D/Rは以下のようになる。
面積比D/R=(第1の膜ユニット3aの流路断面積S1+第3の膜ユニット3cの流路断面積S1)/(第2の膜ユニット3bの流路断面積S1+第4の膜ユニット3dの流路断面積S1)=(0.5m2+0.5m2)/(0.5m2+0.5m2)=1
また、循環流4が流れる膜エレメント間流路11のうちの下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率をεd、上向流21が流れる膜エレメント間流路11のボイド率をεrとすると、両者のボイド率の比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内なるように、各散気装置14a〜14dの散気量を調節する。尚、各ボイド率εd,εrは、膜エレメント間流路11に、日本カノマックス製の気液流計測システム(光ファイバボイド率計)を設置することで、測定できる。
また、循環流4が流れる膜エレメント間流路11のうちの下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率をεd、上向流21が流れる膜エレメント間流路11のボイド率をεrとすると、両者のボイド率の比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内なるように、各散気装置14a〜14dの散気量を調節する。尚、各ボイド率εd,εrは、膜エレメント間流路11に、日本カノマックス製の気液流計測システム(光ファイバボイド率計)を設置することで、測定できる。
以下、上記構成における作用を説明する。
ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第1および第3の散気装置14a,14cから放出された気泡の上昇速度が遅くなり、気泡は、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11を流れる下向流20中を、横方向へ揺動しながら低速で上昇する。このような気泡の存在により、下降流20の流れが乱れ、気泡同士が接触して適度に気泡径が大きくなることで、膜面と気泡との接触機会が増加し、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。尚、このような作用効果は逆曝気によって顕著に生じるものである。
ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第1および第3の散気装置14a,14cから放出された気泡の上昇速度が遅くなり、気泡は、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11を流れる下向流20中を、横方向へ揺動しながら低速で上昇する。このような気泡の存在により、下降流20の流れが乱れ、気泡同士が接触して適度に気泡径が大きくなることで、膜面と気泡との接触機会が増加し、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。尚、このような作用効果は逆曝気によって顕著に生じるものである。
また、第2および第4の膜ユニット3b,3dのろ過膜10の膜面は上向流21中の大量の気泡により十分に洗浄される。
図4に示すグラフは、面積比D/Rと膜ユニット3a〜3dの膜間ボイド率との関係を示すものであり、グラフGdは下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εd、グラフGrは上向流21が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εrを示す。
図4に示すグラフは、面積比D/Rと膜ユニット3a〜3dの膜間ボイド率との関係を示すものであり、グラフGdは下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εd、グラフGrは上向流21が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εrを示す。
図4のグラフにおいては、処理槽2内に5〜8台の膜ユニットを設け、下向流20が流れる膜ユニットの台数と上向流21が流れる膜ユニットの台数との比を、2対3,3対3,4対2,6対2,4対1に切り換えることにより、面積比D/Rを0.67,1,2,3,4とした。
また、各々の曝気量の総量(総曝気量)が同じになるようにして、面積比D/R=0.67,1,2,3,4に対応する小曝気量と大曝気量との比を、13対87,19対81,32対68,39対61,49対51とした場合、グラフGdの下向流20の膜間流速は0.2〜0.08m/秒となった。例えば、面積比D/Rが0.67(すなわち上記台数比が2対3)で小曝気量と大曝気量との比が13対87の場合、下向流20が流れる2台の膜ユニットの1台当りの曝気量が6.5(=13/2)となり、上向流21が流れる3台の膜ユニットの1台当りの曝気量が29(=87/3)となる。
図4に示すとおり、下向流20を形成する膜ユニットの曝気量は上向流21を形成する膜ユニットの曝気量よりも少ないが、下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率は上向流が流れる膜エレメント間流路11のボイド率と同等にすることができる。上向流21が流れる膜エレメント間流路11のボイド率は、上向流21の流速、気泡径の因子が影響し、面積比D/Rが4のときのように、曝気量は多いが上向流21の流速が低下することでボイド率も低下する場合があることが分かった。
また、図5に示すグラフは、膜分離設備1の運転経過日数(日)と膜エレメント8の膜汚れ比率(kPa/kPa)との関係を示すものである。尚、膜汚れ比率は、清浄な新しい膜エレメント8の膜間差圧に対する所定の経過日数運転した膜エレメント8の膜間差圧の比である。
図5に示すグラフにおいて、第1のグラフG1は、ボイド率の比εd/εrが0.65であり、このときの下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εdが0.05の場合を示す。同様に、第2のグラフG2はボイド率の比εd/εrが0.7でボイド率εdが0.07であり、第3のグラフG3はボイド率の比εd/εrが1.0でボイド率εdが0.08であり、第4のグラフG4はボイド率の比εd/εrが1.2でボイド率εdが0.12であり、第5のグラフG5はボイド率の比εd/εrが1.25でボイド率εdが0.13で運転した場合を示す。また、第6のグラフG6は、全ての膜ユニットに対する曝気量を大曝気量にして、全ての膜ユニットに上向流21を発生させる上向流運転を行った場合を示す。尚、上記第1〜第6のグラフG1〜G6は上記面積比D/Rが1の場合のデータである。
これによると、第2〜第4のグラフG2〜G4は0.7≦εd/εr≦1.2の条件を満たしており、第2〜第4のグラフG2〜G4の膜汚れ比率は第1および第5のグラフG1,G5の膜汚れ比率に比べて低くなり、特に第3のグラフG3の膜汚れ比率は第6のグラフG6の膜汚れ比率とほぼ同等に保たれる。これにより、上記の条件を満たすことで、循環流が安定してスムーズに流れ、膜エレメントの膜面の洗浄効果が向上することが明らかである。
このとき、第1および第3の散気装置14a,14cから放出された気泡の上昇速度が適度になり、気泡は、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11を流れる下向流20中を、横方向へ揺動しながら低速で上昇している。このような気泡の存在により、下降流20の流れが乱れるとともに、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11における処理対象液19中の気泡保持量が増加して膜面と気泡との接触機会が増加することで洗浄効果を向上させている。
ボイド率の比εd/εrが0.07より小さくなると、循環流4の流速は速くなるが、下向流20が流れる膜エレメント間流路11の気泡量が少ないために膜面の洗浄効果は低下する。ボイド率の比εd/εrが1.2より大きくなると、上向流21が流れる膜エレメント間流路11の気泡量が少なくなって上向流21の流速が遅くなるため、膜面の洗浄効果は低下する。
尚、膜分離設備1の実運転に際して、所定時間毎に下向流20と上向流21とを切り替える運転を行なってもよい。例えば、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dに下向流20を発生させ、第2の膜ユニット3bに上向流21を発生させた運転を行なう。このとき、面積比D/Rは3となる。そして、所定時間経過後に第1,第2,第4の膜ユニット3a,3b,3dに下向流20を発生させ、第3の膜ユニット3cに上向流21を発生させた運転に切り替え、さらに所定時間経過後に第1,第2,第3の膜ユニット3a,3b,3cに下向流20を発生させ、第4の膜ユニット3dに上向流21を発生させた運転に切り替え、さらに所定時間経過後に第2,第3,第4の膜ユニット3b,3c,3dに下向流20を発生させ、第1の膜ユニット3aに上向流21を発生させた運転に切り替え、これを繰り返す運転を行なうこともできる。
(第2の実施の形態)
第2の実施の形態では、上記0.7≦ボイド率の比εd/εr≦1.2の条件を満たしつつ、下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εdを0.07以上で0.12以下にしている。
第2の実施の形態では、上記0.7≦ボイド率の比εd/εr≦1.2の条件を満たしつつ、下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εdを0.07以上で0.12以下にしている。
以下、上記構成における作用を説明する。
例えば、上記第1の実施の形態と同様に、図1に示すように、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を大曝気量として、第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21を生起させ、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11に下向流20を生起させる。
例えば、上記第1の実施の形態と同様に、図1に示すように、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を大曝気量として、第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21を生起させ、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11に下向流20を生起させる。
下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εdが0.07以上の場合、径が適度に増大した気泡と第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10との接触機会が増加し、気泡の乱れが膜面に作用する機会が増加するため、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜面に対する洗浄効果がさらに向上する。
尚、下向流20が流れる膜エレメント間流路11のボイド率εdが0.07未満に低下してしまうと、膜エレメント8のろ過膜10の膜面への気泡の作用が低下するため、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜面に対する洗浄効果が低下する。
図6に示すグラフは、膜分離設備1の運転経過日数(日)と膜エレメント8の膜汚れ比率(kPa/kPa)との関係を示すものである。
このグラフにおいて、第1のグラフG1はボイド率εdが0.1であり下向流20の流速が0.25m/秒、第2のグラフG2はボイド率εdが0.075であり下向流20の流速が0.2m/秒、第3のグラフG3はボイド率εdが0.07であり下向流20の流速が0.15m/秒、第4のグラフG4はボイド率εdが0.05であり下向流20の流速が0.1m/秒で運転した場合を示す。また、第5のグラフG5は、全ての膜ユニットに対する曝気量を大曝気量にして、全ての膜ユニットに上向流21を発生させる上向流運転を行ったときにおけるボイド率εrが0.06の場合を示す。
このグラフにおいて、第1のグラフG1はボイド率εdが0.1であり下向流20の流速が0.25m/秒、第2のグラフG2はボイド率εdが0.075であり下向流20の流速が0.2m/秒、第3のグラフG3はボイド率εdが0.07であり下向流20の流速が0.15m/秒、第4のグラフG4はボイド率εdが0.05であり下向流20の流速が0.1m/秒で運転した場合を示す。また、第5のグラフG5は、全ての膜ユニットに対する曝気量を大曝気量にして、全ての膜ユニットに上向流21を発生させる上向流運転を行ったときにおけるボイド率εrが0.06の場合を示す。
尚、膜エレメント間流路11を流れる下向流20の流速は、散気ケース13内の各ドラフト部17a〜17dの特定の水平断面における下向きの流速を電磁流速計等で測定し、測定された流速に、各ドラフト部17a〜17dの水平断面積と下向流20が流れる膜エレメント間流路11の総断面積との比を乗じることにより、求めることができる。また、上向流21の流速も同様にして求めることができる。
上記図6に示すグラフにおいて、第1〜第3のグラフG1〜G3は、0.07≦ボイド率εd≦0.12の条件を満たしている。第1〜第3のグラフG1〜G3の膜汚れ比率は、第4のグラフG4の膜汚れ比率に比べて低くなり、特に、第1のグラフG1は第5のグラフG5の膜汚れ比率とほぼ同等に保たれる。これにより、上記の条件を満たすことで、循環流が安定してスムーズに流れ、気泡保持量が増加すると共に気泡の動きの乱れが増加するため、膜エレメントの膜面の洗浄効果がさらに向上することが明らかである。
(第3の実施の形態)
第3の実施の形態では、上記第1の実施の形態におけるボイド率の比の条件に加えて、下向流20が流れる下向流流路の総断面積Dと、上向流21が流れる上向流流路の総断面積Rとの面積比D/Rを、0.63以上で3.33以下の範囲内にしている。
第3の実施の形態では、上記第1の実施の形態におけるボイド率の比の条件に加えて、下向流20が流れる下向流流路の総断面積Dと、上向流21が流れる上向流流路の総断面積Rとの面積比D/Rを、0.63以上で3.33以下の範囲内にしている。
尚、本実施の形態では、各膜ユニット3a〜3d間のスペース22に発生する下向流および各膜ユニット3a〜3dと処理槽2の側壁面2aとの間のスペース23に発生する下向流は、途中で散気ケース13により遮断されるため、各膜ユニット3a〜3dの下方に連通せず、循環流4にはならない。このような循環流4にならない下向流が発生する各スペース22,23は、下向流流路とみなさず、総断面積Dには含まない。また、上向流についても同様である。
以下、上記構成における作用を説明する。
例えば、上記第1の実施の形態と同様に、図1に示すように、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dの膜エレメント間流路11に上向流21を発生させ、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11に下向流20を発生させる。
例えば、上記第1の実施の形態と同様に、図1に示すように、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dの膜エレメント間流路11に上向流21を発生させ、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11に下向流20を発生させる。
この際、上記0.7≦ボイド率の比εd/εr≦1.2の条件のもと、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることで、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11における処理対象液19中の気泡保持量のばらつきが小さくなり、ボイド率の比が安定する。また、気泡同士が接触して適度に気泡径が大きくなることで、膜面と気泡との接触機会が増加し、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
図7に示すグラフは、面積比D/Rと膜ユニット3a〜3dの膜間流速(m/秒)との関係を示すものであり、グラフGdは下向流20の膜間流速、グラフGrは上向流21の膜間流速を示す。尚、下向流20の膜間流速とは膜エレメント間流路11を流れる下向流20の流速であり、上向流21の膜間流速とは膜エレメント間流路11を流れる上向流21の流速である。
尚、図7に示すグラフは上記図4に示すグラフと同じ条件で得られたものである。
面積比D/Rが4(すなわち上記台数比が4対1)で小曝気量と大曝気量との比が49対51の場合、上向流21が流れる膜ユニットの1台当りの曝気量が51となり、流れの推進力が高まって上向流21の流速が早くなると予想されるが、実験では流速が遅くなる傾向が見られた。この原因は、ボイド率が大きくなるとドラフト部から膜エレメント間流路への流入部で滞留する気泡が増えて抵抗が大きくなることが一因と考えられる。そして、上向流21の流速が低下するため、結果として下向流20の流速も低下した。
面積比D/Rが4(すなわち上記台数比が4対1)で小曝気量と大曝気量との比が49対51の場合、上向流21が流れる膜ユニットの1台当りの曝気量が51となり、流れの推進力が高まって上向流21の流速が早くなると予想されるが、実験では流速が遅くなる傾向が見られた。この原因は、ボイド率が大きくなるとドラフト部から膜エレメント間流路への流入部で滞留する気泡が増えて抵抗が大きくなることが一因と考えられる。そして、上向流21の流速が低下するため、結果として下向流20の流速も低下した。
図8,図9に示すグラフは、膜分離設備1の運転経過日数(日)と膜エレメント8の膜汚れ比率(kPa/kPa)との関係を示すものである。尚、膜汚れ比率は、清浄な新しい膜エレメント8の膜間差圧に対する所定の経過日数運転した膜エレメント8の膜間差圧の比である。
図8に示すグラフにおいて、第1のグラフG1は面積比D/Rが1であり下向流20の流速が0.22m/秒、第2のグラフG2は面積比D/Rが1であり下向流20の流速が0.08m/秒、第3のグラフG3は面積比D/Rが0.67であり下向流20の流速が0.19m/秒、第4のグラフG4は面積比D/Rが0.67であり下向流20の流速が0.08m/秒で運転した場合を示す。また、第5のグラフG5は、全ての膜ユニットに対する曝気量を大曝気量にして、全ての膜ユニットに上向流21を発生させる上向流運転を行った場合を示す。
また、図9に示すグラフにおいて、第6のグラフG6は面積比D/Rが2であり下向流20の流速が0.2m/秒、第7のグラフG7は面積比D/Rが3であり下向流20の流速が0.22m/秒、第8のグラフG8は面積比D/Rが3であり下向流20の流速が0.16m/秒、第9のグラフG9は面積比D/Rが3であり下向流20の流速が0.12m/秒、第10のグラフG10は面積比D/Rが4であり下向流20の流速が0.14m/秒で運転した場合を示す。また、第5のグラフG5は、図8に示したグラフと同じものであり、全ての膜ユニットに対する曝気量を大曝気量にして、全ての膜ユニットに上向流21を発生させる上向流運転を行った場合を示す。
上記図8のグラフにおいて、第1および第3のグラフG1,G3は0.63≦面積比D/R≦3.33の条件を満たしており、第1および第3のグラフG1,G3の膜汚れ比率は、第2および第4のグラフG2,G4の膜汚れ比率に比べて低くなり、第5のグラフG5の膜汚れ比率とほぼ同等に保たれる。
また、上記図9のグラフにおいて、第6〜第8のグラフG6〜G8も0.63≦面積比D/R≦3.33の条件を満たしており、第6〜第8のグラフG6〜G8の膜汚れ比率は、第9および第10のグラフG9,G10の膜汚れ比率に比べて低くなり、第5のグラフG5の膜汚れ比率とほぼ同等に保たれる。これにより、上記の条件を満たすことで、循環流が安定してスムーズに流れ、膜エレメントの膜面の洗浄効果が向上することが明らかである。
尚、図8及び図9において、膜汚れ比率が良好なとき下向流流速は0.15m/s以上で0.25m/s以下の範囲にある。仮に、下向流20の流速が0.25m/秒を超えてしまうと、第1および第3の散気装置14a,14cから放出された気泡の一部が上昇せずに下向流20と共に下降してしまうため、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面の洗浄効率が低下してしまう。
また、反対に、下向流20の流速が0.15m/秒よりも低いと、第1および第3の散気装置14a,14cから放出された気泡の上昇速度があまり遅くならず、下向流20中における気泡の横方向へ揺動が不足するため、第1および第3の膜ユニット3a,3cの膜エレメント間流路11における処理対象液19中の気泡保持量が低下し、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面の洗浄効率が低下してしまう。
(第4の実施の形態)
上記第1の実施の形態では、図1に示すように、各膜ユニット3a〜3dの下方に一台の共通した散気ケース13を設けたが、本第4の実施の形態では、図10,図11に示すように、各膜ユニット3a〜3d毎に複数の散気ケース13a〜13dを設けている。各散気装置14a〜14dは各散気ケース13a〜13d内に設置されている。各膜ユニット3a〜3dは各散気ケース13a〜13dの上部に設けられ、各膜ケース7の下端部は各散気ケース13a〜13d内に連通している。
上記第1の実施の形態では、図1に示すように、各膜ユニット3a〜3dの下方に一台の共通した散気ケース13を設けたが、本第4の実施の形態では、図10,図11に示すように、各膜ユニット3a〜3d毎に複数の散気ケース13a〜13dを設けている。各散気装置14a〜14dは各散気ケース13a〜13d内に設置されている。各膜ユニット3a〜3dは各散気ケース13a〜13dの上部に設けられ、各膜ケース7の下端部は各散気ケース13a〜13d内に連通している。
互いに隣り合う膜ユニット3a〜3dの下部間は上部遮蔽板26で遮蔽されている。各散気ケース13a〜13dの下端部には連通口27が形成されている。このうち、互いに隣り合う散気ケース13a〜13d同士が向い合う面の連通口27以外の連通口27は下部遮蔽板28で閉じられている。
これによると、上記第1および第2の実施の形態と同様な作用、効果が得られる。
(第5の実施の形態)
本第5の実施の形態は、上記第4の実施の形態の変形例であり、図12,図13に示すように、互いに隣り合う膜ユニット3a〜3dの下部間が上部遮蔽板26で遮蔽されており、さらに、各膜ユニット3a〜3dの下部と処理槽2の壁面2aとの間も上部遮蔽板26で遮蔽されている。
(第5の実施の形態)
本第5の実施の形態は、上記第4の実施の形態の変形例であり、図12,図13に示すように、互いに隣り合う膜ユニット3a〜3dの下部間が上部遮蔽板26で遮蔽されており、さらに、各膜ユニット3a〜3dの下部と処理槽2の壁面2aとの間も上部遮蔽板26で遮蔽されている。
これによると、上記第1および第2の実施の形態と同様な作用、効果が得られる。
(第6の実施の形態)
本第6の実施の形態では、図14〜図16に示すように、膜分離設備1は、処理槽2と、浸漬型の複数の膜ユニット3a〜3dと、上下方向に循環する循環流4を発生させる散気設備5とを有している。
(第6の実施の形態)
本第6の実施の形態では、図14〜図16に示すように、膜分離設備1は、処理槽2と、浸漬型の複数の膜ユニット3a〜3dと、上下方向に循環する循環流4を発生させる散気設備5とを有している。
各膜ユニット3a〜3dは隣接しており、各膜ユニット3a〜3dの上部領域および下部領域は処理槽2内において相互に連通している。各膜ユニット3a〜3dはそれぞれ、処理槽2内に設置された膜ケース32と、膜ケース32内に設けられた複数の膜エレメント8とを有している。膜ケース32は、上部領域が膜充填部をなし、下部領域がドラフト部をなす。膜エレメント8は、ろ過膜10の膜面を上下方向に沿わせて、膜充填部に所定間隔Cをあけて平行に配列されている。
散気設備5は、各膜ユニット3a〜3dの膜エレメント8の下方に設置された複数の散気装置14a〜14dと、各散気装置14a〜14dに散気用の空気を供給する給気装置(図示省略)とを有している。
これによると、例えば、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21が生起し、上向流21は液面付近で反転して下向流20となる。この下向流20は、第2および第4の膜ユニット3b,3dの上部領域から第1および第3の膜ユニット3a,3cの上部領域に流れ、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1および第3の膜ユニット3a,3cの下部領域から第2および第4の膜ユニット3b,3dの下部領域に流入して循環する。この場合、膜エレメント8を配置した部分での処理槽2の水平方向断面において、下向流20は第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11に流れ、上向流21は第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に流れる。
このとき、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。また、第2および第4の膜ユニット3b,3dのろ過膜10の膜面は上向流21中の大量の気泡により十分に洗浄される。
また、各膜ユニット3a〜3dの内側縦寸法L1=1500mmとし、内側横寸法L2=500mmとし、各膜ユニット3a〜3dの膜エレメント間流路率Eを50%とすると、面積比D/Rは以下のようになる。
D/R=(0.75m2×0.5+0.75m2×0.5)/(0.75m2×0.5+0.75m2×0.5)=1
このように、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
D/R=(0.75m2×0.5+0.75m2×0.5)/(0.75m2×0.5+0.75m2×0.5)=1
このように、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第1および第3の膜ユニット3a,3cのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
(第7の実施の形態)
本第7の実施の形態は、上記第6の実施の形態の変形例であり、図17に示すように、処理槽2内に、複数の膜ユニット3a〜3d,34a〜34dが上下二段(複数段)積みで設置されている。
本第7の実施の形態は、上記第6の実施の形態の変形例であり、図17に示すように、処理槽2内に、複数の膜ユニット3a〜3d,34a〜34dが上下二段(複数段)積みで設置されている。
これによると、上記第1および第2の実施の形態と同様な作用、効果が得られる。
上記第7の実施の形態では、膜ユニット3a〜3d,34a〜34dを上下二段で設置したが、三段以上であってもよい。また、上段の膜ユニット3a〜3dを四台、下段の膜ユニット34a〜34dを四台設置したが、それぞれ四台以外の複数台設置してもよい。
上記第7の実施の形態では、膜ユニット3a〜3d,34a〜34dを上下二段で設置したが、三段以上であってもよい。また、上段の膜ユニット3a〜3dを四台、下段の膜ユニット34a〜34dを四台設置したが、それぞれ四台以外の複数台設置してもよい。
(第8の実施の形態)
本第8の実施の形態は、図10に示した上記第4の実施の形態の変形例であり、第4の実施の形態における上部および下部遮蔽板26,28を無くしたものである。図18,図19に示すように、互いに隣り合った各膜ユニット3a〜3d間および各散気ケース13a〜13d間にはそれぞれ、所定の間隔を有する流通路37が形成されている。また、各膜ユニット3a〜3dおよび各散気ケース13a〜13dと処理槽2の壁面2aとの間にはそれぞれ、所定の間隔を有する流通路38が形成されている。
本第8の実施の形態は、図10に示した上記第4の実施の形態の変形例であり、第4の実施の形態における上部および下部遮蔽板26,28を無くしたものである。図18,図19に示すように、互いに隣り合った各膜ユニット3a〜3d間および各散気ケース13a〜13d間にはそれぞれ、所定の間隔を有する流通路37が形成されている。また、各膜ユニット3a〜3dおよび各散気ケース13a〜13dと処理槽2の壁面2aとの間にはそれぞれ、所定の間隔を有する流通路38が形成されている。
各散気ケース13a〜13dの内部は連通口27を介して散気ケース13a〜13dの外部に連通している。
これによると、例えば、第2の散気装置14bの散気量を小曝気量とし、第1,第3,第4の散気装置14a,14c,14dの散気量を大曝気量とした場合、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21が生起し、第1,第3,第4のユニット3a,3c,3d内を通過した上向流21が液面付近で反転して下降流20となり、下向流20は、第2のユニット3b内と各流通路37,38とを流れた後、連通口27を通って第1,第3,第4の散気ケース13a,13c,13d内に流れ込んで循環する。
これによると、例えば、第2の散気装置14bの散気量を小曝気量とし、第1,第3,第4の散気装置14a,14c,14dの散気量を大曝気量とした場合、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21が生起し、第1,第3,第4のユニット3a,3c,3d内を通過した上向流21が液面付近で反転して下降流20となり、下向流20は、第2のユニット3b内と各流通路37,38とを流れた後、連通口27を通って第1,第3,第4の散気ケース13a,13c,13d内に流れ込んで循環する。
このとき、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第2の膜ユニット3bのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。また、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dのろ過膜10の膜面は上向流21中の大量の気泡により十分に洗浄される。
また、各膜ユニット3a〜3dの内側縦寸法L1=2000mmとし、内側横寸法L2=500mmとし、処理槽2の内側縦寸法L3=2200mmとし、内側横寸法L4=2500mmとすると、下向流20が流れる下向流流路の総断面積Dは第2のユニット3bの流路断面積S1に各流通路37,38の流路断面積S2(横断面積)を加えた値になる。すなわち、膜エレメント間流路率Eを50%とすると、面積比D/Rは以下のようになる。
面積比D/R=(第2のユニット3bの流路断面積S1+流通路37,38の流路断面積S2)/(第1のユニット3aの流路断面積S1+第3のユニット3cの流路断面積S1+第4のユニット3dの流路断面積S1)=(1m2×0.5+(5.5m2−4m2))/(1m2×0.5×3)=1.33
このように、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第2の膜ユニット3bのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
面積比D/R=(第2のユニット3bの流路断面積S1+流通路37,38の流路断面積S2)/(第1のユニット3aの流路断面積S1+第3のユニット3cの流路断面積S1+第4のユニット3dの流路断面積S1)=(1m2×0.5+(5.5m2−4m2))/(1m2×0.5×3)=1.33
このように、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第2の膜ユニット3bのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
尚、各流通路37,38を流れる下向流20は、連通口27を通って第1,第3,第4の散気ケース13a,13c,13d内に流れ込み、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dの下方に連通して上下に循環する。このように循環流4の一部となる下向流20が流れる流通路37,38は、下向流流路とみなして、総断面積Dに含む。
(第9の実施の形態)
本第9の実施の形態は、上記第4の実施の形態の変形例であり、図20,図21に示すように、各流通路37,38の底部にそれぞれ、下向流20の流速を早くするための水流促進用散気装置41(水流促進機構の一例)が設置されている。
本第9の実施の形態は、上記第4の実施の形態の変形例であり、図20,図21に示すように、各流通路37,38の底部にそれぞれ、下向流20の流速を早くするための水流促進用散気装置41(水流促進機構の一例)が設置されている。
これによると、例えば、第1,第3,第4の散気装置14a,14c,14dの散気量を小曝気量とし、第2の散気装置14bの散気量と水流促進用散気装置41の散気量とを大曝気量とした場合、第2のユニット3bの各膜エレメント間流路11と各流通路37,38とに上向流21が生起し、上向流21が液面付近で反転して下降流20となり、下向流20は、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dを流れた後、連通口27を通って第2の散気ケース13b内と各流通路37,38の底部とに流れ込んで循環する。
この際、水流促進用散気装置41からの曝気により、各流通路37,38に上向流21が形成され、上向流21の流量が増す。これに伴って、下降流20の流量が増え、その結果、下降流20の流速が増す。
このとき、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。また、第2の膜ユニット3bのろ過膜10の膜面は上向流21中の大量の気泡により十分に洗浄される。
また、上向流21が流れる上向流流路の総断面積Rは第2のユニット3bの流路断面積S1に各流通路37,38の流路断面積S2を加えた値になる。すなわち、面積比D/Rは以下のようになる。
面積比D/R=(第1のユニット3aの流路断面積S1+第3のユニット3cの流路断面積S1+第4のユニット3dの流路断面積S1)/(第2のユニット3bの流路断面積S1+流通路37,38の流路断面積S2)=(1m2×0.5×3)/(1m2×0.5+(5.5m2−4m2))=0.75
このように、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
面積比D/R=(第1のユニット3aの流路断面積S1+第3のユニット3cの流路断面積S1+第4のユニット3dの流路断面積S1)/(第2のユニット3bの流路断面積S1+流通路37,38の流路断面積S2)=(1m2×0.5×3)/(1m2×0.5+(5.5m2−4m2))=0.75
このように、面積比D/Rを0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3dのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
尚、各流通路37,38を流れる上向流21は、液面付近で反転し、上方から第1,第3,第4の膜ユニット3a,3c,3d内に流れ込んで上下に循環する。このように循環流4の一部となる上向流21が流れる流通路37,38は、上向流流路とみなして、総断面積Rに含む。
(第10の実施の形態)
本第10の実施の形態は、図14に示した上記第6の実施の形態の変形例であり、図22,図23に示すように、処理槽2内に、第1および第2の膜ユニット3a,3bと、第1および第2の散気装置14a,14bと、水流促進用散気装置41(水流促進機構の一例)とが設置されている。第1の膜ユニット3aと第2の膜ユニット3bとの間には、所定の間隔を有する流通路44が形成されており、水流促進用散気装置41は流通路44の底部に設置されている。
本第10の実施の形態は、図14に示した上記第6の実施の形態の変形例であり、図22,図23に示すように、処理槽2内に、第1および第2の膜ユニット3a,3bと、第1および第2の散気装置14a,14bと、水流促進用散気装置41(水流促進機構の一例)とが設置されている。第1の膜ユニット3aと第2の膜ユニット3bとの間には、所定の間隔を有する流通路44が形成されており、水流促進用散気装置41は流通路44の底部に設置されている。
また、流通路44の下部領域と第1および第2の膜ユニット3a,3bの下部領域とは連通しており、流通路44の上部領域と第1および第2の膜ユニット3a,3bの上部領域とは連通している。
尚、一例として、各膜ユニット3a,3bの内側縦寸法L1を2000mm、内側横寸法L2を500mm、流通路44の幅Wを150mm、膜エレメント間流路率Eを50%とする。
以下、上記構成における作用を説明する。
例えば、図22に示すように、第1運転として、第1および第2の散気装置14a,14bの散気量を小曝気量とし、水流促進用散気装置41の散気量を大曝気量とすることにより、流通路44に上向流21が生起し、流通路44の上部領域において上向流21が液面付近で反転して下降流20となる。この下向流20は、第1および第2の膜ユニット3a,3bの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1および第2の膜ユニット3a,3bの下部領域から流通路44の下部領域に流れ込んで循環する。
例えば、図22に示すように、第1運転として、第1および第2の散気装置14a,14bの散気量を小曝気量とし、水流促進用散気装置41の散気量を大曝気量とすることにより、流通路44に上向流21が生起し、流通路44の上部領域において上向流21が液面付近で反転して下降流20となる。この下向流20は、第1および第2の膜ユニット3a,3bの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1および第2の膜ユニット3a,3bの下部領域から流通路44の下部領域に流れ込んで循環する。
この場合、面積比D/Rは以下のようになる。
面積比D/R=(第1のユニット3aの流路断面積S1+第2のユニット3bの流路断面積S1)/(流通路44の流路断面積S2)=(1m2×0.5+1m2×0.5)/(0.3m2)=3.33
上記第1運転を所定時間実施した後、第1運転から以下のような第2運転に切換える。
面積比D/R=(第1のユニット3aの流路断面積S1+第2のユニット3bの流路断面積S1)/(流通路44の流路断面積S2)=(1m2×0.5+1m2×0.5)/(0.3m2)=3.33
上記第1運転を所定時間実施した後、第1運転から以下のような第2運転に切換える。
第1の散気装置14aの散気量を小曝気量とし、水流促進用散気装置41の散気量と第2の散気装置14bの散気量とを大曝気量とすることにより、流通路44と第2の膜ユニット3bの各膜エレメント間流路11とに上向流21が生起し、上向流21が液面付近で反転して下降流20となり、下向流20は、第1の膜ユニット3aの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1の膜ユニット3aの下部領域から流通路44の下部領域と第2の膜ユニット3bの下部領域とに流れ込んで循環する。
この場合、面積比D/Rは以下のようになる。
面積比D/R=(第1のユニット3aの流路断面積S1)/(第2のユニット3bの流路断面積S1+流通路44の流路断面積S2)=(1m2×0.5)/(1m2×0.5+0.3m2)=0.63
上記第2運転を所定時間実施した後、第2運転から以下のような第3運転に切換える。
面積比D/R=(第1のユニット3aの流路断面積S1)/(第2のユニット3bの流路断面積S1+流通路44の流路断面積S2)=(1m2×0.5)/(1m2×0.5+0.3m2)=0.63
上記第2運転を所定時間実施した後、第2運転から以下のような第3運転に切換える。
第2の散気装置14bの散気量を小曝気量とし、水流促進用散気装置41の散気量と第1の散気装置14aの散気量とを大曝気量とすることにより、流通路44と第1の膜ユニット3aの各膜エレメント間流路11とに上向流21が生起し、上向流21が液面付近で反転して下降流20となり、下向流20は、第2の膜ユニット3bの各膜エレメント間流路11を流れた後、第2の膜ユニット3bの下部領域から流通路44の下部領域と第1の膜ユニット3aの下部領域とに流れ込んで循環する。
この場合、面積比D/Rは、上記第2運転時と同様であり、0.63となる。
上記第1運転〜第3運転を所定時間毎に切り換えて実施する際、各運転において、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第1および第2の膜ユニット3a,3bのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。また、面積比D/Rをほぼ0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第1および第2の膜ユニット3a,3bのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
上記第1運転〜第3運転を所定時間毎に切り換えて実施する際、各運転において、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることで、第1および第2の膜ユニット3a,3bのろ過膜10の膜面が良好に洗浄される。また、面積比D/Rをほぼ0.63以上で3.33以下の範囲内にすることにより、第1および第2の膜ユニット3a,3bのろ過膜10の膜面がさらに良好に洗浄される。
(第11の実施の形態)
本第11の実施の形態は、上記第10の実施の形態の変形例であり、図24に示すように、上記第10の実施の形態において記載した第1および第2の膜ユニット3a,3bと第1および第2の散気装置14a,14bと水流促進用散気装置41(水流促進機構の一例)と流通路44とを膜分離ユニット46とすると、このような膜分離ユニット46が処理槽2内に複数台設置されている。
本第11の実施の形態は、上記第10の実施の形態の変形例であり、図24に示すように、上記第10の実施の形態において記載した第1および第2の膜ユニット3a,3bと第1および第2の散気装置14a,14bと水流促進用散気装置41(水流促進機構の一例)と流通路44とを膜分離ユニット46とすると、このような膜分離ユニット46が処理槽2内に複数台設置されている。
これによると、上記第10の実施の形態と同様な作用、効果が得られる。
尚、上記第11の実施の形態では、膜分離ユニット46を処理槽2内に三台設置したが、三台以外の複数台設置してもよい。
尚、上記第11の実施の形態では、膜分離ユニット46を処理槽2内に三台設置したが、三台以外の複数台設置してもよい。
尚、上記第9〜第11の実施の形態では、水流促進機構の一例として水流促進用散気装置41を用いたが、水流促進用散気装置41の代りに攪拌装置等を設けて流れを促進してもよい。
(第12の実施の形態)
本第12の実施の形態では、図25に示すように、処理槽の一例である膜分離槽55内に、上記第1の実施の形態で示した膜ユニット3a〜3dと散気設備5とが設けられている。膜分離槽55の上流側には生物処理槽56(上流側槽の一例)が設置され、膜分離槽55の下流側には汚泥貯留槽57(下流側槽の一例)が設置されている。尚、生物処理槽56は、曝気槽、硝化槽、嫌気性消化槽等である。また、下流側槽の一例として汚泥貯留槽57を設けたが、汚泥貯留槽57の代わりに汚泥濃縮槽を設けてもよい。
本第12の実施の形態では、図25に示すように、処理槽の一例である膜分離槽55内に、上記第1の実施の形態で示した膜ユニット3a〜3dと散気設備5とが設けられている。膜分離槽55の上流側には生物処理槽56(上流側槽の一例)が設置され、膜分離槽55の下流側には汚泥貯留槽57(下流側槽の一例)が設置されている。尚、生物処理槽56は、曝気槽、硝化槽、嫌気性消化槽等である。また、下流側槽の一例として汚泥貯留槽57を設けたが、汚泥貯留槽57の代わりに汚泥濃縮槽を設けてもよい。
生物処理槽56の上部と膜分離槽55の上部とは供給口59を介して連通し、生物処理槽56内の処理対象液19は供給口59からオーバーフローして膜分離槽55内に供給される。また、散気設備5の散気ケース13内と汚泥貯留槽57の下部とは排出管60を介して連通している。また、汚泥貯留槽57には、槽内の処理対象液19(汚泥)を引き抜いて生物処理槽56へ返送する引抜きポンプ61と返送路64とが設けられている。尚、供給口59と排出管60と引抜きポンプ61と返送路64とによって、膜分離槽55内の下向流の流速を速くする水流促進機構が構成されている。
以下、上記構成における作用を説明する。
例えば、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を第1および第3の散気装置14a,14cの散気量よりも増やして大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21が生起し、上向流21が液面付近で反転して下向流20となり、下向流20は、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1および第3のドラフト部17a,17cから連通部16を通って第2および第4のドラフト部17b,17dに流入して循環する。
例えば、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を第1および第3の散気装置14a,14cの散気量よりも増やして大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dの各膜エレメント間流路11に上向流21が生起し、上向流21が液面付近で反転して下向流20となり、下向流20は、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れた後、第1および第3のドラフト部17a,17cから連通部16を通って第2および第4のドラフト部17b,17dに流入して循環する。
この際、引抜きポンプ61を駆動して汚泥貯留槽57内の処理対象液19を引き抜いて生物処理槽56へ返送することにより、生物処理槽56内の処理対象液19は、供給口59からオーバーフローして膜分離槽55内に供給され、膜分離槽55内を下向きに流れた後、排出管60を通って汚泥貯留槽57内へ排出され、引抜きポンプ61により生物処理槽56へ返送される。これにより、処理対象液19が各槽55、56、57に亘って循環する。
この際、排出管60は供給口59よりも下位にあるため、供給口59から膜分離槽55内に供給された処理対象液19は、下向流となって、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れる。これにより、第1および第3の膜ユニット3a,3cには、曝気により生起された下向流に加えて、供給口59から排出管60に向って下向流が流れることになる。このため、第1および第3の膜ユニット3a,3cを流れる下向流20の流量が増加し、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れる下向流20の流速が増大する。これにより、第2および第4の散気装置14b,14dの曝気量(大曝気量)を低減しても、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることが可能であり、散気設備5の総曝気量を低減して消費電力を節約することができる。
(第13の実施の形態)
本第13の実施の形態は、上記第12の実施の形態の変形例であり、図26に示すように、汚泥貯留槽57が設置されていない。また、膜分離槽55には、散気ケース13内の処理対象液19を引き抜いて生物処理槽56へ返送する引抜きポンプ61と返送路64とが設けられている。尚、供給口59と引抜きポンプ61と返送路64とによって、膜分離槽55内の下向流の流速を速くする水流促進機構が構成されている。また、引抜きポンプ61は引抜き管61aを介して膜分離槽55の底部に接続されている。
本第13の実施の形態は、上記第12の実施の形態の変形例であり、図26に示すように、汚泥貯留槽57が設置されていない。また、膜分離槽55には、散気ケース13内の処理対象液19を引き抜いて生物処理槽56へ返送する引抜きポンプ61と返送路64とが設けられている。尚、供給口59と引抜きポンプ61と返送路64とによって、膜分離槽55内の下向流の流速を速くする水流促進機構が構成されている。また、引抜きポンプ61は引抜き管61aを介して膜分離槽55の底部に接続されている。
以下、上記構成における作用を説明する。
例えば、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を第1および第3の散気装置14a,14cの散気量よりも増やして大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dに上向流21を生起させ、第1および第3の膜ユニット3a,3cに下向流20を生起させる。
例えば、第1および第3の散気装置14a,14cの散気量を減らして小曝気量とし、第2および第4の散気装置14b,14dの散気量を第1および第3の散気装置14a,14cの散気量よりも増やして大曝気量とすることにより、第2および第4の膜ユニット3b,3dに上向流21を生起させ、第1および第3の膜ユニット3a,3cに下向流20を生起させる。
この際、引抜きポンプ61を駆動して散気ケース13内の処理対象液19を引き抜いて生物処理槽56へ返送することにより、生物処理槽56内の処理対象液19は、供給口59からオーバーフローして膜分離槽55内に供給され、引抜きポンプ61により膜分離槽55内から生物処理槽56へ返送される。これにより、処理対象液19が各槽55、56に亘って循環する。
この際、供給口59から膜分離槽55内に供給された処理対象液19は、下向流となって、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れる。これにより、第1および第3の膜ユニット3a,3cには、曝気により生起された下向流に加えて、供給口59から引抜き管61aに向って下向流が流れることになる。このため、第1および第3の膜ユニット3a,3cの各膜エレメント間流路11を流れる下向流20の流速が増大し、これにより、第2および第4の散気装置14b,14dの曝気量(大曝気量)を低減しても、ボイド率の比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内にすることが可能であり、散気設備5の総曝気量を低減して消費電力を節約することができる。
上記第12および第13の実施の形態では、膜分離槽55内に、上記第1の実施の形態で示した膜ユニット3a〜3dと散気設備5とを設けたが、膜分離槽55内に、上記第2〜第11の実施の形態で示したものを設けてもよい。
上記第1の実施の形態では、図1に示すように、第1および第3の膜ユニット3a,3cに下向流20を発生させ、第2および第4の膜ユニット3b,3dに上向流21を発生させたが、下向流20と上向流21とが逆になるように切り換えてもよい。また、下向流20と上向流21との組み合わせを適宜変更してもよい。尚、その他の実施の形態においても同様である。
上記各実施の形態では、処理槽2内に四台の膜ユニット3a〜3dを設置したが、四台以外の複数台設置したものであってもよい。この場合、少なくとも一台の膜ユニットの膜エレメント間流路に下向流20が流れ、残りの膜ユニットの膜エレメント間流路に上向流が流れるものであればよい。
上記各実施の形態では、膜エレメント8は平膜形式のものを用いたが、中空糸形式の膜エレメント8であってもよい。
膜分離装置を設置する水槽の容量(断面積)や形状は、膜分離装置のレイアウトを優先することができないことが多い。すなわち、生物処理槽と兼用する場合はBOD−MLSS負荷、BOD容積負荷、総窒素−MLSS負荷等の条件によって水槽容量が決まり、設備を設置する敷地形状によって水槽の形状に制約を受けることもある。また、最近は既設プラントの改造工事が増加しているが、既設改造工事では既設水槽に膜分離装置を設置することになり、自由度は全くない。本発明は、水槽容量や水槽形状に捉われずに設置することができる膜分離装置の開発が望まれる中、その期待に応えることができるものである。
膜分離装置を設置する水槽の容量(断面積)や形状は、膜分離装置のレイアウトを優先することができないことが多い。すなわち、生物処理槽と兼用する場合はBOD−MLSS負荷、BOD容積負荷、総窒素−MLSS負荷等の条件によって水槽容量が決まり、設備を設置する敷地形状によって水槽の形状に制約を受けることもある。また、最近は既設プラントの改造工事が増加しているが、既設改造工事では既設水槽に膜分離装置を設置することになり、自由度は全くない。本発明は、水槽容量や水槽形状に捉われずに設置することができる膜分離装置の開発が望まれる中、その期待に応えることができるものである。
1 膜分離設備
2 処理槽
3a〜3d,34a〜34d 膜ユニット
4 循環流
8 膜エレメント
11 膜エレメント間流路
14a〜14d 散気装置
20 下向流
21 上向流
41 水流促進用散気装置(水流促進機構)
55 膜分離槽(処理槽)
2 処理槽
3a〜3d,34a〜34d 膜ユニット
4 循環流
8 膜エレメント
11 膜エレメント間流路
14a〜14d 散気装置
20 下向流
21 上向流
41 水流促進用散気装置(水流促進機構)
55 膜分離槽(処理槽)
Claims (5)
- 処理槽内に、浸漬型の複数台の膜ユニットと、上下方向に循環する循環流を発生させる散気装置とが設けられた膜分離設備であって、
各膜ユニットは循環流の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメントを有し、
少なくとも一台の膜ユニットの膜エレメント間流路に下向流が流れるとともに残りの膜ユニットの膜エレメント間流路に上向流が流れ、
下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrが0.7以上で1.2以下の範囲内にあることを特徴とする膜分離設備。 - 下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdは0.07以上で0.12以下の範囲内であることを特徴とする請求項1記載の膜分離設備。
- 膜エレメントを配置した部分での処理槽の水平方向断面において、循環流が流れる流路のうちの下向流流路の総断面積Dと上向流流路の総断面積Rとの面積比D/Rが0.63以上で3.33以下の範囲内にあることを特徴とする請求項1又は請求項2記載の膜分離設備。
- 下向流の流速を速くするための水流促進機構を備えたことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の膜分離設備。
- 処理槽内に、浸漬型の複数台の膜ユニットと、上下方向に循環する循環流を発生させる散気装置とが設けられ、
各膜ユニットは循環流の流路となる空間をあけて配列された複数の膜エレメントを有し、散気装置の散気量を異ならせることにより、上向流と下向流とを発生させる膜分離設備の運転方法であって、
散気量を調節することで、下向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εdと、上向流が流れる膜エレメント間流路のボイド率εrとの比εd/εrを0.7以上で1.2以下の範囲内に調節することを特徴とする膜分離設備の運転方法。
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US9333464B1 (en) | 2014-10-22 | 2016-05-10 | Koch Membrane Systems, Inc. | Membrane module system with bundle enclosures and pulsed aeration and method of operation |
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2012
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US10702831B2 (en) | 2014-10-22 | 2020-07-07 | Koch Separation Solutions, Inc. | Membrane module system with bundle enclosures and pulsed aeration and method of operation |
USD779632S1 (en) | 2015-08-10 | 2017-02-21 | Koch Membrane Systems, Inc. | Bundle body |
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