JP2013189007A - 耐指紋性透明基材 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】有機金属化合物の加水分解及び重縮合によって得られる被膜中に、無機酸化物微粒子を含んだ凹凸構造を有する被膜を、基材表面に有する透明基材であって、該被膜の表面にさらに含フッ素シラン化合物から形成される防汚層を有し、該防汚層の表面における算術平均粗さRaが5〜100nmであり、前記基材のヘイズが0.01〜10%であることを特徴とする、指滑り性に優れたタッチパネル用耐指紋性透明基材を提供する。
【選択図】図1
Description
中でも、例えば一般式[2]や、
一般式[4]で表される構造を有するパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物
は特に好ましい化合物である。このような化合物を含有する市販品としては、ダイキン工業製オプツールDSXやオプツールAES4などのオプツールAESシリーズ、信越化学工業製KY130やKY108、フロロテクノロジー製フロロサーフFG−5020、東レ・ダウコーニング社製のDow2634Coatingなどが挙げられる。これらの市販品の中でもオプツールDSXやDow2634Coatingが好ましい。
得られた基材の撥水性と撥油性の評価として、基材表面に水またはオレイン酸約2μlを置き、液滴を置いた10秒後の液滴と基材表面とのなす角を、接触角計(CA−X200、協和界面科学製)を用いて室温(約20℃)で測定した。
得られた基材の耐指紋性の評価として、以下の(1)〜(3)を行った。
直径29mmのシリコンゴム栓の端面をJIS R6252に規定された基材Cw、研磨材A、粒度P240の研磨紙を用いて粗らして人工指として用い、アクリル基板上に膜厚0.5mmでスピンコーティングされたオレイン酸を人工指紋液として用いることで、定量的な擬似指紋付着試験を行った。アクリル基板に対して人工指を250g/cm2で垂直に押し付けることで人工指紋液を人工指に転写し、次いで、該人工指を評価する基材に対して同様に250g/cm2で垂直に押し付けることで、基材に擬似指紋を付着させた。
直径33mmの金属円柱底面に一般用タオル120匁を二枚重ねで固定し、加重40g/cm2で擬似指紋付着部を1往復させた。
擬似指紋付着時および擬似指紋拭き取り時において、耐指紋性を目視で評価した。(付着時:○目立たない、×未加工の基材と同等;拭き取り時:○指紋跡が残らない、△指紋跡が残る、×指紋跡が拡がる)
指で基材表面を10往復し、滑り性を評価した。(○比較例1の基板よりも良い、▲比較例1の基板と同等、×比較例1の基板よりも悪い)
静動摩擦測定機(トリニティラボ社製ハンディートライボマスターType TL201Ts)を用いて、基板の動摩擦係数を測定した。接触子には指の指紋を模したパターンを有する触覚接触子を用い、荷重20g、摩擦速度20mm/sec、摩擦距離50mmの条件で基板と接触子との摩擦力を測定し、該装置に付随した解析ソフトによって動摩擦係数を求めた。
JIS−B0601(2001年)に準拠して、得られた基材の算術平均粗さを評価した。走査型プローブ顕微鏡(島津製作所製SPM−9600)を用いて、10μm四方の表面形状を分析し、該装置に付随した汎用プログラムによって算術平均粗さ(Ra)を求めた。
JIS K7105(1981年)に準拠して、ヘイズメーター(日本電色工業製、NDH2000)を用いてヘイズと全光線透過率を測定した。
100mm角、厚み2mmの一般的なフロートガラス基材を清浄にし、後述の方法で調合したゾル溶液をスピンコーティング法により塗布した。塗布後160℃に保った電気炉の中に10分間保持することによりゾル溶液中の有機金属化合物に由来する成分の重縮合反応を進行させて、表面に凹凸構造を有する被膜を成膜した透明基材を得た。得られた被膜の膜厚は100nm程度であった。
市販のテトラエトキシシラン3.47gに5.33gのイソプロピルアルコール、1規定の硝酸水溶液1.2gを加え、溶液を室温で16時間撹拌することによりテトラエトキシシランの加水分解反応及び一部重縮合反応を進行させた後、さらにイソプロピルアルコールを40g加え、固形分濃度が2質量%のシリカゾル液を得た。また、コロイダルシリカ(MEK−ST、日産化学工業社製、平均粒径10〜15nm)1質量部とメチルエチルケトン14質量部を混合し、固形分濃度が2質量%のコロイダルシリカ溶液を得た。これらを、表1に示す無機酸化物微粒子(コロイダルシリカ)含有量(ここでの含有量は被膜の全質量に対する該コロイダルシリカの固形分の質量%である)になるように混合し、目的のゾル溶液を得た。
無機酸化物微粒子として、実施例4〜6、16では日産化学工業社製のコロイダルシリカ、MEK−ST−L(平均粒径40〜50nm)を用い、実施例7〜10では日産化学工業社製のコロイダルシリカ、MEK−ST−ZL(平均粒径70〜100nm)を、実施例11〜14では日産化学工業社製のコロイダルシリカ、MEK−ST−2040(平均粒径200nm)を用い、実施例15、17では実施例1〜3と同様のコロイダルシリカを用いた。実施例1〜3と同様にして凹凸構造を有する被膜を成膜した透明基材を得た後、実施例1〜3と同様の表面処理剤を用いて、防汚層を有する透明基材を得た。
100mm角、厚み2mmの一般的なフロートガラス基材を清浄にし、ゾル溶液を塗布しないで、実施例と同様の表面処理剤を用いて、防汚層を有する基材を得た。
無機酸化物微粒子として、日産化学工業社製のコロイダルシリカ、MEK−ST(平均粒径10〜15nm)を用いて、表1の条件でゾル溶液を調製し、さらに実施例1で用いた表面処理剤によって防汚層を形成し、算術平均粗さが2nmである被膜を成膜した透明基材を得た。
無機酸化物微粒子として、日産化学工業社製のコロイダルシリカ、MEK−ST−2040(平均粒径200nm)を用いて、表1の条件でゾル溶液を調製し、さらに実施例1で用いた表面処理剤によって防汚層を形成し、算術平均粗さが115nmである被膜を成膜した透明基材を得た。
2 無機酸化物微粒子
3 被膜
4 防汚層
Claims (4)
- 有機金属化合物の加水分解及び重縮合によって得られる被膜中に、無機酸化物微粒子を含んだ凹凸構造を有する被膜を、基材表面に有する透明基材であって、該被膜の表面にさらに含フッ素シラン化合物から形成される防汚層を有し、該防汚層の表面における算術平均粗さRaが5〜100nmであり、前記基材のヘイズが0.01〜10%であることを特徴とする、指滑り性に優れたタッチパネル用耐指紋性透明基材。
- 前記被膜が、平均粒径10〜200nmの無機酸化物微粒子を5〜95質量%含むことを特徴とする、請求項1に記載の耐指紋性透明基材。
- 前記無機酸化物微粒子がコロイダルシリカであり、前記有機金属化合物がケイ素化合物であることを特徴とする、請求項1又は2に記載の耐指紋性透明基材。
- 前記防汚層の含フッ素シラン化合物がパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物であることを特徴とする、請求項1〜3の何れかに記載の耐指紋性透明基材。
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