JP2013186260A - 電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置 - Google Patents

Abstract

【課題】高い光疲労耐性を有する電子写真感光体を提供すること。
【解決手段】導電性支持体と、導電性支持体上に設けられ、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が２０％以下である下引層と、前記下引層上に設けられた電荷発生層と、前記電荷発生層上に設けられ、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が３０％以下である電荷輸送層と、を有する電子写真感光体である。
【選択図】なし

Description

本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ、及び画像形成装置に関するものである。

電子写真方式の画像形成は、近年、複写機及びレーザープリンター等の画像形成装置に幅広く利用されている。

例えば、特許文献１には、「電性基体上に、金属化合物粒子およびバインダー樹脂を含有する下引層と、感光層を有する電子写真感光体において、該下引層表面の平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以上、凹凸の平均間隔（ＲＳｍ）が１５０μｍ以下であって、且つ、下引層全体の７８０ｎｍにおける、透過率および拡散反射率が、ともに１５％以下であることを特徴とする電子写真感光体」が提案されている。

また、特許文献２には、「電子写真装置の露光波長に対する中間層の透過率が２０％以上である電子写真感光体」が提案されている。

特許４４６６４０６号 特開２０００−０６６４３０号公報

本発明の課題は、高い光疲労耐性を有する電子写真感光体を提供することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性支持体と、
導電性支持体上に設けられ、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が２０％以下である下引層と、
前記下引層上に設けられた電荷発生層と、
前記電荷発生層上に設けられ、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が３０％以下である電荷輸送層と、
を有する電子写真感光体。

請求項２に係る発明は、
前記電荷輸送層が、下記一般式（１）で表される電荷輸送材料を含む請求項１に記載の電子写真感光体。

（一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は、置換もしくは未置換の炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。ｎ及びｍはそれぞれ独立して１又は２を表す。）

請求項３に係る発明は、
前記下引層が、下記一般式（２）で示される電子受容性化合物を含む請求項１又は２に記載の電子写真感光体。

（一般式（２）中、Ｒ^１１は、水素原子、又はアルキル基を表す。ｎ１は、０又は１の整数を表す。）

請求項４に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、
画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。

請求項５に係る発明は、
請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
前記静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写媒体に転写する転写手段と、
を少なくとも備える画像形成装置。

請求項１、２、３に係る発明によれば、下引層及び電荷輸送層が波長４５０ｎｍに対する透過率が上記範囲を満たさない場合に比べ、高い光疲労耐性を有する電子写真感光体が提供できる。

請求項４、５に係る発明によれば、下引層及び電荷輸送層が波長４５０ｎｍに対する透過率が上記範囲を満たさない電子写真感光体を備えた場合に比べ、電子写真感光体の光疲労に起因する画像欠陥が抑制された画像が得られるプロセスカートリッジ、及び画像形成装置が提供できる。

本実施形態に係る電子写真感光体の一部の断面を示す概略図である。 第１実施形態の画像形成装置の基本構成を示す概略図である。 第２実施形態の画像形成装置の基本構成を示す概略図である。 本実施形態に係るプロセスカートリッジの基本構成を示す概略図である。 実施例の評価で形成した画像を示す模式図である。

以下、実施形態について詳細に説明する。なお、図面中、同一又は相当部分には同一符号を付することとし、重複する説明は省略する場合がある。

＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性支持体と、導電性支持体上に設けられた下引層と、下引層上に設けられた電荷発生層と、電荷発生層上に設けられた電荷輸送層と、を有して構成されている。
下引層は、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が２０％以下である。
一方、電荷輸送層は、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が３０％以下である。

近年、画像形成装置の小型化、低価格化で、電子写真感光体を遮光する遮光部材を削除することも検討されているが、電子写真感光体の電荷発生層は、目的とする光が照射されると電荷を発生する機能を持つ層である。この電荷発生層は、主に波長４５０ｎｍの光に暴露されると、光疲労を起し、電荷発生能が低下することがわかってきた。

そこで、本実施形態に係る電子写真感光体では、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が３０％以下である電荷輸送層を適用し、電子写真感光体の外部から照射される波長４５０ｎｍの光の電荷発生層への暴露を抑制する。
一方で、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が２０％以下である下引層を適用し、感光層（電荷発生層及び電荷輸送層）と共に下引層を透過した波長４５０ｎｍの光が導電性支持体から反射して、再度、電荷発生層に暴露されることを抑制する。
つまり、電荷発生層を挟む電荷輸送層及び下引層により、電荷発生層の光疲労の原因となる波長４５０ｎｍ及びその周囲の波長帯（例えば３５０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下）の光の電荷発生層への暴露を抑制する。

このため、本実施形態に係る電子写真感光体では、上記構成により、高い光疲労耐性を有する電子写真感光体が実現される。
そして、本実施形態に係る電子写真感光体を備える画像形成装置等では、電子写真感光体の光疲労に起因する画像欠陥（例えば画像濃度ムラ）が抑制された画像が得られる。

特に、本実施形態に係る電子写真感光体において、電荷発生層がフタロシアニン系の顔料をを含んだ構成であると、電荷発生層自体の光疲労耐性がそれほど高くないことから、このような電荷発生層を有する電子写真感光体であっても、高い光疲労耐性を有することとなる。

以下、本実施形態に係る電子写真感光体について図面を参照しつつ説明する。
図１は本実施形態に係る電子写真感光体の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体１は、例えば、電荷発生層５と電荷輸送層６とが別個に設けられた機能分離型の感光層３を備え、導電性支持体２上に、下引層４、電荷発生層５、電荷輸送層６がこの順序で積層された構造を有している。
なお、本明細書において、絶縁性とは、体積抵抗率で１０^１２Ωｃｍ以上の範囲を意味する。一方、導電性とは、体積抵抗率で１０^１０Ωｃｍ以下の範囲を意味する。

以下、電子写真感光体１の各要素について説明する。
−導電性支持体−
導電性支持体２としては、従来から使用されているものであれば、如何なるものを使用してもよい。例えば、アルミニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼等の金属類、及びアルミニウム、チタニウム、ニッケル、クロム、ステンレス鋼、金、バナジウム、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ等の薄膜を設けたプラスチックフィルム等、導電性付与剤を塗布又は含浸させた紙、プラスチックフィルム等が挙げられる。
導電性支持体２の形状はドラム状に限られず、シート状、プレート状としてもよい。

導電性支持体２として金属パイプを用いる場合、表面は素管のままであってもよいし、予め鏡面切削、エッチング、陽極酸化、粗切削、センタレス研削、サンドブラスト、ウエットホーニングなどの処理が行われていてもよい。

−下引層−
下引層４は、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下（望ましくは１７μｍ以上３８μｍ以下、より望ましくは２０μｍ以上３５μｍ以下）である。
そして、下引層４は、少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が２０％以下（望ましくは５％以上１５％以下、より望ましくは１０％以上 １５％以下）である。
下引層４の光透過率を上記範囲とすることにより、感光層（電荷発生層５及び電荷輸送層６）と共に下引層４を透過した波長４５０ｎｍの光が導電性支持体２から反射して、再度、電荷発生層５に暴露されることを抑制する。

なお、下引層４は、少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が上記範囲を満たすことは、下引層４の厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下のいずれのときも、下引層４の当該光透過率が上記範囲を満たすことを意味している。

下引層４の光透過率を実現する方法としては、例えば、波長４５０ｎｍの光に対する吸収能が高い化合物を配合する方法が挙げられる。
特に、波長４５０ｎｍの光に対する吸収能が高い化合物としては、例えば、一般式（２）で示される電子受容性化合物が好適に挙げられる。

下引層４の光透過率の測定方法は、以下の通りである。
まず最初に下引層４に用いる塗液を用いてガラスプレート上に１５μｍの塗膜を形成する。この時の乾燥条件は電子写真感光体を形成する時の条件に準ずるものとする。さらにそのプレートの分光スペクトルを測定する事で求められる４５０ｎｍの光に対する吸光度から１５μｍの塗膜の４５０ｎｍの光に対する透過率を算出する。この時に用いる塗布方法は特に指定されるものではなく、平滑な塗膜が得られるものであればよい。
また、異なる２種類以上の膜厚の塗膜を形成し、それぞれの透過率から１５μｍ相当の透過率を算出することも可能である。

下引層４は、例えば、結着樹脂と、金属酸化物粒子と、電子受容性材料と、必要に応じてその他の材料と、を含んで構成される。
下引層４は、具体的には、例えば、金属酸化物粒子と、電子受容性材料と、必要に応じてその他の材料と、が結着樹脂中に分散して形成されている。
なお、下引層４は、上記構成に限られず、金属酸化物粒子に代えて、金属粉体（例えば、アルミニウム、銅、ニッケル、銀等）、又は他の導電性物質（例えばカーボンファイバ、カーボンブラック、グラファイト等）と、を含んで構成されていてもよい。

（金属酸化物粒子）
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化ジルコニウム等が挙げられ、２種以上混合して用いてもよい。
金属酸化物粒子の体積平均粒径としては、例えば５０μｍ以上２００μｍ以下が挙げられ、６０μｍ以上１８０μｍ以下であることが好ましく、７０μｍ以上１２０μｍ以下であることが好ましい。

なお、上記金属酸化物粒子の体積平均粒径の測定は、例えばレーザ回析式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００：堀場製作所製）を用いて測定を行う。測定法としては、分散液となっている状態の試料を固形分で２ｇになるように調整し、これにイオン交換水を添加して、４０ｍｌにする。これをセルに適当な濃度になるまで投入し、２分待ったところで測定する。得られたチャンネルごとの体積平均粒径を小さい方から累積し、累積５０％になったところを体積平均粒径とする。

下引層４中に含まれる金属酸化物粒子の含有量としては、例えば、下引層全体に対し、２．５質量％以上の範囲が挙げられ、１０質量％以上７０質量％以下の範囲であることが好ましく、３０質量％以上５０質量％以下の範囲であることが好ましい。

金属酸化物粒子は、表面処理されていてもよい。
表面処理をする表面処理剤としては、周知の表面処理剤（例えばカップリング剤）が挙げられ、特に、アミノ基を有するカップリング剤以外のカップリング剤が好適に挙げられる。
アミノ基を有するカップリング剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤などが挙げられる。特に、抵抗を調整することでカブリが抑制される表面処理剤として、シランカップリング剤が挙げられる。

シランカップリング剤は、有機シラン化合物（ケイ素原子を含有する有機化合物）であり、具体的には、例えば、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。

金属酸化物粒子が、アミノ基を有するカップリング剤によって表面処理されているかの確認は、ＦＴ−ＩＲ、ラマン分光法、ＸＰＳなどによる分子構造解析よって行われる。

金属酸化物粒子の表面処理の方法は、特に限定されないが、例えば乾式法又は湿式法が挙げられる。
乾式法にて表面処理を施す場合には、例えば、金属酸化物粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接表面処理剤を滴下するか、又は有機溶媒に溶解させた表面処理剤を滴下し、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させる。滴下又は噴霧は、例えば溶剤の沸点以下の温度で行われる。滴下又は噴霧の後、さらに１００℃以上に加熱して焼き付けを行ってもよい。

湿式法としては、例えば、金属酸化物粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミルなどを用いて分散し、表面処理剤溶液を添加し攪拌又は分散したのち、溶剤を除去する。溶剤除去方法としては、例えば、ろ過又は蒸留が挙げられる。溶剤除去後には、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。湿式法においては表面処理剤を添加する前に金属酸化物粒子含有水分を除去してもよく、その例としては、例えば、表面処理剤溶液に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、又は溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。

金属酸化物粒子１００質量部の表面に付着した表面処理剤の量（以下「表面処理量」と称する場合がある）は、例えば０．５質量部以上３質量部以下の量が挙げられ、０．５質量部以上２．０質量部以下であることが好ましく、０．７５質量部以上１．３０質量部以下であることがより好ましい。
上記表面処理量（すなわち、金属酸化物粒子に付着した表面処理剤の量）を測定する方法としては、例えば、ＦＴ−ＩＲ、ラマン分光法、ＸＰＳなどによる分子構造解析する方法が挙げられる。

（電子受容性化合物）
電子受容性化合物としては、例えば、アントラキノン構造を有する電子受容性化合物が挙げられる。ここで、「アントラキノン構造を有する化合物」は、具体的には、アントラキノン及びアントラキノン誘導体から選択される少なくとも１種（例えば、アントラキノン、プルプリン及びアリザリン等のヒドロキシアントラキノン化合物、エチルアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等）である。
なお、電子受容性化合物としては、その他、有機顔料（例えば、特開昭47-30330号公報に記載のペリレン顔料、ビスベンズイミダゾールペリレン顔料、多環キノン顔料、インジゴ顔料、キナクリドン顔料等）、電子吸引性の置換基（例えば、シアノ基、ニトロ基、ニトロソ基、ハロゲン原子等）を有するビスアゾ顔料、フタロシアニン顔料も挙げられる。

これらの中でも、電子受容性化合物としては、波長４５０ｎｍの光に対する吸収能が高い下記一般式（２）で表される電子受容性化合物であることがよい。

一般式（２）中、Ｒ^１１は、水素原子、又はアルキル基を表す。ｎ１は、０又は１の整数を表す。
ここで、アルキル基としてはメチル基、エチル基が好ましい。

なお、下引層４がアントラキノン構造を有する電子受容性化合物を含有していることの確認は、ガスクロマトグラフィー、液体クロマトグラフィー、ＦＴ−ＩＲ、ラマン分光法、ＸＰＳなどの分析方法によって行われる。

下引層４中に含まれる電子受容性化合物の含有量としては、下引層４に含まれる金属酸化物粒子１００質量部に対し、１質量部以上５質量部以下であり、２質量部以上４質量部以下であることが好ましい。

電子写真感光体の下引層４中に含まれる金属酸化物粒子と電子受容性化合物の含有比率は、ＮＭＲスペクトル、ＸＰＳ、原子吸光分析法、電子線マイクロアナライザなどの分析方法によって確認される。

（結着樹脂）
結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂などの高分子化合物、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂などが用いられる。

結着樹脂の含有量としては、例えば、下引層全体に対し、５質量％以上６０質量％以下の範囲が挙げられ、１０質量％以上５５質量％以下であることが好ましく、３０質量％以上５０質量％以下であることがより好ましい。

（その他添加物）
下引層４には、表面粗さ調整のために樹脂粒子を添加してもよい。樹脂粒子としては、例えば、シリコーン樹脂粒子、架橋型ＰＭＭＡ樹脂粒子等が挙げられる。
また、表面粗さ調整のために下引層４の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、例えば、バフ研磨、サンドブラスト処理、ウエットホーニング、研削処理等が挙げられる。

さらに下引層４には、硬化剤や硬化触媒を添加してもよい。硬化剤および硬化触媒を添加すると、硬化反応が十分となって下引層４からの不要な溶出が抑えられ、残留電位の上昇や感度低下が抑えられる。

硬化剤としては、ブロック化イソシアネート化合物、メラミン樹脂などが挙げられ、ブロック化イソシアネート化合物が好適に用いられる。ブロックイソシアネート化合物はイソシアネート基がブロック化剤でマスクされているため、塗工液が経時でゲル化し増粘するのが抑えられ、作業性に優れる。

硬化触媒としては、一般に用いられている公知の材料が挙げられ、その中でも酸触媒、アミン系触媒、金属化合物系触媒から選択することが好ましい。なお、硬化剤としてメラミン樹脂を用いた場合には酸触媒が、ブロックイソシアネート化合物を用いた場合にはアミン系触媒又は金属化合物系触媒を用いることが好ましい。金属化合物系触媒としては、例えば、酸化第一錫、ジオクチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、ナフテン酸亜鉛、三塩化アンチモン、カリウムオレート、ナトリウムＯ−フェニルフェネート、硝酸蒼鉛、塩化第二鉄、テトラ−ｎ−ブチルチン、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、コバルト２−エチルヘキソエート、第二２−エチルヘキソエート鉄等が挙げられる。
硬化触媒の添加量は、硬化剤に対して０．０００１質量％以上０．１質量％以下が好ましく、０．００１質量％以上０．０１質量％以下がより好ましい。

（下引層の形成）
下引層４の形成の際には、上記成分を溶媒に加えた塗布液（下引層形成用の塗布液）が使用される。
溶媒としては、例えば有機溶剤が挙げられ、具体的には、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤；メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ―ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤；アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状又は直鎖状エーテル系溶剤；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤；等が挙げられる。上記溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよく、特に限定されないが、上記結着樹脂を溶解する溶剤を用いることがよい。

下引層形成用の塗布液に用いる溶媒の量は、上記結着樹脂が溶解する量であれば特に限定されないが、例えば、結着樹脂１質量部に対し、０．０５質量部以上２００質量部以下が挙げられる。

下引層形成用の塗布液中に金属酸化物粒子等を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機等が挙げられる。また、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などの方法を用いてもよい。
得られる下引層４の体積抵抗率を後述の規定の範囲内とするために、適切な分散方法を選択することが望ましく、具体的には、ガラスビーズを用いたサンドミル、ボールミルなどで分散することが好適である。ガラスビーズの粒径は、用いる金属酸化物粒子や結着樹脂などの成分に応じて調節され、具体的には、０．１ｍｍ以上１０ｍｍ以下の粒径が挙げられる。

下引層形成用の塗布液を導電性支持体２上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。

下引層形成用の塗布液を導電性支持体２上に塗布した後、乾燥や硬化のための加熱を行うことが好ましい。硬化剤や硬化触媒を用いた場合の硬化温度および加熱時間は、用いた硬化剤や硬化触媒の種類に応じて調整することが望ましく、具体的には例えば、１６０℃以上２００℃以下の温度で、１５分以上４０分以下加熱することが挙げられる。

−中間層−
電気特性向上、画質向上、画質維持性向上、感光層接着性向上などのために、下引層４上に必要に応じて中間層（図示せず）をさらに設けてもよい。中間層に用いられる結着樹脂としては、ポリビニルブチラールなどのアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂などの高分子樹脂化合物のほかに、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素原子などを含有する有機金属化合物などがある。
中間層の形成は、例えば上記結着樹脂を溶媒に溶解させた塗布液を用いる。塗布液の塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の公知の方法が用いられる。
中間層の厚さは例えば０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。

−電荷発生層−
電荷発生層５は、例えば、結着樹脂と、電荷発生材料と、必要に応じてその他の材料と、を含んで構成される。
電荷発生層５は、具体的には、例えば、電荷発生材料と必要に応じてその他の材料が結着樹脂中に分散して形成されている。

電荷発生材料としては、例えば、無金属フタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニン、ジクロロスズフタロシアニン、チタニルフタロシアニン等のフタロシアニン顔料が使用され、特に、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．７゜、９．３゜、１６．９゜、１７．５゜、２２．４゜及び２８．８゜に強い回折ピークを有する無金属フタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも９．６゜、２４．１゜及び２７．２゜に強い回折ピークを有するチタニルフタロシアニン結晶等が使用される。その他、電荷発生材料としては、キノン顔料、ペリレン顔料、インジゴ顔料、ビスベンゾイミダゾール顔料、アントロン顔料、キナクリドン顔料等が使用される。これらの電荷発生材料は、単独又は２種以上を混合して使用される。

結着樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡタイプ又はビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール樹脂等が用いられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いられる。
電荷発生材料と結着樹脂の配合比（質量比）は、使用する材料にもよるが例えば１０：１から１：１０の範囲である。

電荷発生層５の形成の際には、上記成分を溶剤に加えた塗布液が使用される。
電荷発生材料を結着樹脂中に分散させるために、塗布液には分散処理が施される。分散手段としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。さらに、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や、液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

このようにして得られる電荷発生層形成用の塗布液を下引層４上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
電荷発生層５の厚さは、望ましくは０．０１μｍ以上５μｍ以下の範囲に設定される。

−電荷輸送層−
電荷輸送層６は、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下（望ましくは１７μｍ以上３８μｍ以下、より望ましくは２０μｍ以上３５μｍ以下）である。
そして、電荷輸送層６は、少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が３０％以下（望ましくは１０％以上２５％以下、より望ましくは１５％以上２０％以下）である。
電荷輸送層６の光透過率を上記範囲とすることにより、電子写真感光体１の外部から照射される波長４５０ｎｍの光の電荷発生層５への暴露を抑制する。

なお、電荷輸送層６は、少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が上記範囲を満たすことは、電荷輸送層６の厚みが１５μｍ以上４０μｍのいずれのときも、電荷輸送層６の当該光透過率が上記範囲を満たすことを意味している。

電荷輸送層６の光透過率を実現する方法としては、例えば、波長４５０ｎｍの光に対する吸収能が高い化合物を配合する方法が挙げられる。
特に、波長４５０ｎｍの光に対する吸収能が高い化合物としては、例えば、一般式（１）で示される電荷輸送材料が好適に挙げられる。

電荷輸送層６の光透過率の測定方法は、以下の通りである。
電荷輸送層６に用いる塗液を用い、下引層４と同様の方法で、サンプル作製および光透過率を測定する。

電荷輸送層６は、例えば、結着樹脂と、電荷輸送材料と、必要に応じてその他の材料と、を含んで構成される。
電荷輸送層６は、具体的には、例えば、電荷輸送材料を結着樹脂中に分散して形成される。

電荷輸送材料としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾールおよびその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロアントラキノン等のキノン系化合物、テトラアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、および上記した化合物からなる基を主鎖または側鎖に有する重合体などが挙げられる。これらの電荷輸送材料は、１種または２種以上を組み合わせて使用する。

これらの中でも、電荷輸送材料としては、波長４５０ｎｍの光に対する吸収能が高い下記一般式（１）で表される電荷輸送材料が好適である。

一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は、置換もしくは未置換の炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。
ｎ及びｍはそれぞれ独立して１又は２を表す。

一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６が表すハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、これらの中でもフッ素、塩素が望ましい。

一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６が表すアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基などの直鎖のものや、イソプロピル基、ｔ−ブチル基などの分岐鎖が挙げられ、これらの中でもメチル基、エチル基、イソプロピル基等比較的低分子量のものが望ましい。

一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６が表すアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基などが挙げられ、これらの中でもメトキシ基が望ましい。

一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６が表すアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基などが挙げられ、これらの中でもフェニル基、ナフチル基が望ましい。

なお、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６が表す上記各置換基は、さらに置換基を有していてもよく、当該置換基としては、上記例示したハロゲン原子やアルコキシ基、アルキル基、アリール基などが挙げられる。

一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６の隣接する同士同士二つの置換基（例えばＲ^１及びＲ^２同士、Ｒ^３及びＲ^４同士、Ｒ^５及びＲ^６同士）が連結した炭化水素環構造における、当該置換基同士を連結する基としては、単結合、２，２’−メチレン基、２，２’−エチレン基、２，２’−ビニレン基などが挙げられ、これらの中でも単結合、２，２’−メチレン基が望ましい。

一般式（１）において、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６としては、上記の中でも水素原子、又はメチル基が望ましい。

以下に、一般式（１）で表される電荷輸送材料の具体例を示すが、これに限定されるわけではない。

電荷輸送層６における結着樹脂としては、例えば、ビフェニル共重合型ポリカーボネート樹脂、ビスフェノールＡタイプ又はビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、およびポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられ、単独又は２種以上混合して用いる。

また、電荷輸送層６が電子写真感光体の表面層（感光層の導電性支持体２から最も遠い側に配置される層）である場合、電荷輸送層６に潤滑性粒子（例えば、シリカ粒子、アルミナ粒子、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）等のフッ素系樹脂粒子、シリコーン系樹脂粒子）を含有させてもよい。これらの潤滑性粒子は、２種以上を混合して用いてもよい。

さらに、電荷輸送層６が電子写真感光体の表面層である場合、電荷輸送層６にフッ素変性シリコーンオイルを添加してもよい。フッ素変性シリコーンオイルとしては、例えばフルオロアルキル基を有する化合物が挙げられる。

なお、電荷輸送層６中における電荷輸送材料と結着樹脂との質量比としては、例えば１０：１から１：５の範囲が挙げられる。すなわち、電荷輸送層６全体に対する電荷輸送材料の含有量としては、例えば１７質量％以上９１質量％以下の範囲が挙げられる。

電荷輸送層６は、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用の塗布液を用いて形成される。
上記溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶剤、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール等の脂肪族アルコール系溶剤、アセトン、シクロヘキサノン、２−ブタノン等のケトン系溶剤、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状又は直鎖状エーテル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル系溶剤等が挙げられる。また、これらの溶剤は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。混合して使用される溶剤は、混合溶剤として結着樹脂を溶解するものであれば、いかなるものでもよい。

上記電荷輸送層形成用の塗布液中に潤滑性粒子を分散させるための分散方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー等のメディアレス分散機を利用する方法が挙げられる。さらに、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。

電荷輸送層６の形成方法としては、例えば、下引層４及び電荷発生層５が形成された導電性支持体２の電荷発生層５上に、上記電荷輸送層形成用の塗布液を塗布し、乾燥することにより、電荷発生層６を形成する方法が挙げられる。
上記電荷輸送層形成用の塗布液を電荷発生層５上に塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
そして上記塗布液を電荷発生層５上に塗布した後、加熱乾燥工程により塗布液中の溶剤を除去することにより、電荷発生層６を形成することができる。

画像形成装置中で発生するオゾンや窒素酸化物、又は光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、感光層３を構成する各層中に酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。例えば、酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機リン化合物等が挙げられる。光安定剤の例としては、ベンゾフェノン、ベンゾアゾール、ジチオカルバメート、テトラメチルピペン等の誘導体が挙げられる。

なお、本実施形態に係る電子写真感光体１は、電荷輸送層６が最表面層であるが、電荷輸送層上にさらに保護層が形成された構成であってもよい。

＜画像形成装置＞
次に、本実施形態に係る電子写真感光体を備えた画像形成装置について説明する。
−第１実施形態−
図２は、第１実施形態の画像形成装置の基本構成を概略的に示している。
図２に示す画像形成装置２００は、例えば、上記実施形態の電子写真感光体１と、電源２０９に接続され、電子写真感光体１を帯電させる接触帯電方式の帯電装置２０８（帯電手段）と、帯電装置２０８により帯電された電子写真感光体１を露光して静電潜像を形成する露光装置２１０（静電潜像形性手段）と、露光装置２１０により形成された静電潜像を、トナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像装置２１１（現像手段）と、電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像を被転写媒体５００に転写する転写装置２１２（転写手段）と、転写後、電子写真感光体１の表面に残留するトナーを除去するトナー除去装置２１３（トナー除去手段）と、被転写媒体５００に転写されたトナー像を被転写媒体５００に定着させる定着装置２１５（定着手段）と、を備える。
また、図２に示す画像形成装置２００は、電子写真感光体表面のトナー像が転写された後、電子写真感光体表面に残留した電荷を除去する除電手段を備えない、イレーズレス方式の画像形成装置であるが、除電手段を備えていてもよい。

帯電装置２０８は帯電部材を有しており、感光体１を帯電させる際には帯電部材に電圧が印加される。
帯電部材としては、例えば、ローラ、ブラシ、フィルム等が挙げられる。その中でもローラ状の帯電部材（以下、「帯電ローラ」と称する場合がある）としては、例えば電気抵抗が１０^３Ω以上１０^８Ω以下の範囲に調整された材料から構成されるものが挙げられる。また帯電ローラは、単層でもよく、複数の層から構成されていてもよい。
帯電部材として帯電ローラを用いる場合、感光体１に接触する圧力としては、例えば、２５０ｍｇｆ以上６００ｍｇｆ以下の範囲が挙げられる。

帯電部材を構成する材質としては、例えば、ウレタンゴム、シリコーンゴム、フッ素ゴム、クロロプレンゴム、ブタジエンゴム、ＥＰＤＭ（エチレン−プロピレン−ジエン共重合ゴム）、エピクロルヒドリンゴム等の合成ゴムやポリオレフィン、ポリスチレン、塩化ビニル等で構成されるエラストマーを主材料とし、導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の導電性付与剤を適量配合したもの等が挙げられる。
さらにナイロン、ポリエステル、ポリスチレン、ポリウレタン、シリコーン等の樹脂を塗料化し、そこに導電性カーボン、金属酸化物、イオン導電剤等の導電性付与剤を適量配合し、得られた塗料をデイッピング、スプレー、ロールコート等の手法により、積層して用いてもよい。

帯電部材として帯電ロールを用いる場合、帯電ロールを感光体１の表面に接触させることにより、帯電手段が駆動手段を有していなくても感光体１に従動して回転するが、帯電ロールに駆動手段を取り付け、感光体１と異なる周速度で回転させてもよい。

なお、帯電装置２０８としては、コロトロン、スコロトロン等の非接触方式の装置であってもよい。

露光装置２１０としては、公知の露光手段が用いられる。具体的には、例えば、半導体レーザ、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）、液晶シャッター等の光源により露光する光学系装置等が用いられる。書きこみ時の光量としては、例えば、感光体表面上で０．５ｍＪ／ｍ^２以上５．０ｍＪ／ｍ^２の範囲が挙げられる。

現像装置２１１としては、例えば、キャリアとトナーとを含む現像剤が付着した現像ブラシ（現像剤保持体）を静電潜像保持体に接触させて現像させる二成分現像方式の現像手段、導電ゴム弾性体搬送ロール（現像剤保持体）上にトナーを付着させ静電潜像保持体にトナーを現像する接触式一成分現像方式の現像手段等が挙げられる。
トナーとしては、公知のトナーであれば特に限定されない。具体的には、例えば、少なくとも結着樹脂が含まれ、必要に応じて着色剤、離型剤等が含まれたトナーであってもよい。

トナーを製造する方法は、特に制約されるものではないが、例えば、通常の粉砕法、分散媒中で作製する湿式溶融球形化法、懸濁重合、分散重合、乳化重合凝集法等の既知の重合法によるトナー製造法等が挙げられる。

現像剤がトナーとキャリアとを含む二成分現像剤である場合、キャリアとしては特に制限はなく、例えば、酸化鉄、ニッケル、コバルト等の磁性金属、フェライト、マグネタイト等の磁性酸化物などの芯材のみからなるキャリア（ノンコートキャリア）、これら芯材の表面に樹脂層を設けた樹脂コートキャリア等が挙げられる。二成分現像剤では、例えばトナーとキャリアとの混合比（質量比）として、トナー：キャリア＝１：１００から３０：１００の範囲が挙げられ、３：１００から２０：１００の範囲であってもよい。

転写装置２１２としては、ローラ状の接触型帯電部材の他、ベルト、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、又はコロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等、が挙げられる。

トナー除去装置２１３は、転写工程後の電子写真感光体１の表面に付着する残存トナーを除去するためのもので、これにより清浄面化された電子写真感光体１は上記の画像形成プロセスに繰り返し供される。トナー除去装置２１３としては、異物除去部材（クリーニングブレード）の他、ブラシクリーニング、ロールクリーニング等が用いられるが、これらの中でもクリーニングブレードを用いることが望ましい。また、クリーニングブレードの材質としてはウレタンゴム、ネオプレンゴム、シリコーンゴム等が挙げられる。
なお、例えば感光体１の表面にトナーが残留しにくい場合など、残留トナーが問題にならない場合は、トナー除去装置２１３は設ける必要がない。

画像形成装置２００の基本的な作像プロセスについて説明する。
まず、帯電装置２０８が感光体１の表面を、定められた電位に帯電させる。次に、帯電された感光体１の表面を、画像信号に基づいて、露光装置２１０によって露光して静電潜像を形成する。

次に、現像装置２１１の現像剤保持体上に現像剤が保持され、保持された現像剤が感光体１まで搬送され、現像剤保持体と感光体１とが近接（又は接触）する位置で静電潜像に供給される。これによって静電潜像は顕像化されてトナー像となる。
現像されたトナー像は、転写装置２１２の位置まで搬送され、転写装置２１２によって被転写媒体５００に直接転写される。

次いで、トナー像が転写された被転写媒体５００は、定着装置２１５まで搬送され、定着装置２１５によってトナー像が被転写媒体５００に定着される。定着温度としては、例えば１００℃以上１８０℃以下が挙げられる。

一方、トナー像が被転写媒体５００に転写された後、転写されずに感光体１に残留したトナー粒子がトナー除去装置２１３との接触位置まで運ばれ、トナー除去装置２１３によって回収される。
以上のようにして、画像形成装置２００による画像形成が行われる。

−第２実施形態−
図３は第２実施形態の画像形成装置の基本構成を概略的に示している。図３に示す画像形成装置２２０は中間転写方式の画像形成装置であり、ハウジング４００内において４つの電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄが中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。例えば、感光体１ａがイエロー、感光体１ｂがマゼンタ、感光体１ｃがシアン、感光体１ｄがブラックの色の画像をそれぞれ形成する。
また、図３に示す画像形成装置２２０は、電子写真感光体表面のトナー像が転写された後、電子写真感光体表面に残留した電荷を除去する除電手段を備えない、イレーズレス方式の画像形成装置である。

ここで、画像形成装置２２０に搭載されている電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄは、それぞれ本実施形態の電子写真感光体である。
電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄはそれぞれ一方向（紙面上は反時計回り）に回転し、その回転方向に沿って帯電ロール４０２ａ，４０２ｂ，４０２ｃ，４０２ｄ、現像装置４０４ａ，４０４ｂ，４０４ｃ，４０４ｄ、１次転写ロール４１０ａ，４１０ｂ，４１０ｃ，４１０ｄ、クリーニングブレード４１５ａ，４１５ｂ，４１５ｃ，４１５ｄが配置されている。現像装置４０４ａ，４０４ｂ，４０４ｃ，４０４ｄはそれぞれトナーカートリッジ４０５ａ，４０５ｂ，４０５ｃ，４０５ｄに収容されたブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーを供給し、また、１次転写ロール４１０ａ，４１０ｂ，４１０ｃ，４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに接している。

さらに、ハウジング４００内にはレーザ光源（露光装置）４０３が配置されており、レーザ光源４０３から出射されたレーザ光を帯電後の電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの表面に照射する。これにより、電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの回転工程において帯電、露光、現像、１次転写、クリーニング（トナー等の異物除去）の各工程が順次行われ、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。そして、中間転写ベルト４０９上にトナー像が転写された後の電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄは、表面の電荷を除去する工程を経ずに次の画像形成プロセスが行われる。

中間転写ベルト４０９は駆動ロール４０６、背面ロール４０８及び支持ロール４０７によって張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転する。また、２次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介して背面ロール４０８と接するように配置されている。背面ロール４０８と２次転写ロール４１３とに挟まれた位置を通った中間転写ベルト４０９は、例えば駆動ロール４０６と対向して配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。

また、ハウジング４００内には被転写媒体を収容する容器４１１が設けられており、容器４１１内の紙などの被転写媒体５００が移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と２次転写ロール４１３とに挟まれた位置、さらには相互に接する２個の定着ロール４１４に挟まれた位置に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排出される。

なお、上述の説明においては中間転写体として中間転写ベルト４０９を使用する場合について説明したが、中間転写体は、上記中間転写ベルト４０９のようにベルト状であってもよいし、ドラム状であってもよい。ベルト状とする場合、中間転写体の基材を構成する樹脂材料としては、公知の樹脂が用いられる。例えば、ポリイミド樹脂、ポリカーボネート樹脂（ＰＣ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリアルキレンテレフタレート（ＰＡＴ）、エチレンテトラフルオロエチレン共重合体（ＥＴＦＥ）／ＰＣ、ＥＴＦＥ／ＰＡＴ、ＰＣ／ＰＡＴのブレンド材料、ポリエステル、ポリエーテルエーテルケトン、ポリアミド等の樹脂材料及びこれらを主原料としてなる樹脂材料が挙げられる。さらに、樹脂材料と弾性材料をブレンドして用いてもよい。

また、上記実施形態にかかる被転写媒体とは、電子写真感光体上に形成されたトナー像を転写する媒体であれば特に制限はない。
また上記実施形態においては、帯電ロール４０２ａ，４０２ｂ，４０２ｃ，４０２ｄは、直流電圧のみを印加する方式が採用される。

＜プロセスカートリッジ＞
図４は、本実施形態の電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジの一例の基本構成を概略的に示している。このプロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体１と共に、電子写真感光体１を帯電させる接触帯電方式の帯電装置２０８、露光により電子写真感光体１上に形成された静電潜像をトナーを含む現像剤により現像してトナー像を形成する現像装置２１１、転写後、電子写真感光体１の表面に残留するトナーを除去するトナー除去装置２１３、及び露光のための開口部２１８を、取り付けレール２１６を用いて組み合わせて一体化したものである。

そして、このプロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体１の表面に形成されたトナー像を被転写媒体５００に転写する転写装置２１２と、被転写媒体５００に転写されたトナー像を被転写媒体５００に定着させる定着装置２１５と、図示しない他の構成部分とからなる画像形成装置本体に対して着脱自在としたものであり、画像形成装置本体とともに画像形成装置を構成する。
プロセスカートリッジ３００は、電子写真感光体１、帯電装置２０８、現像装置２１１、トナー除去装置２１３、及び露光のための開口部２１８のほかに、電子写真感光体１の表面を露光する露光装置（図示せず）を備えていてもよい。
なお、本実施形態のプロセスカートリッジでは、電子写真感光体１を少なくとも備えていればよい。

以下に実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「％」は質量基準である。

［電子写真感光体の作製］
（実施例１）
−感光体の作製−
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ^２／ｇ）１００質量部をメタノール５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製）１．０質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、メタノールを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
金属酸化物粒子として表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と、電子受容性化合物としてアリザリン（一般式（２）中、ｎ１が０の化合物）１質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュールＢＬ３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径２ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて２４時間の分散を行い分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部とを添加し、下引層塗布用液を得た。この塗布液を、浸漬塗布法にて直径３０ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、２５分の乾燥を行い厚さ３０μｍの下引層を得た。

次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．４゜、１６．６゜、２５．５゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するクロロガリウムフタロシアニン結晶１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部およびｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散して電荷発生層用の塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を前記下引層上に浸漬塗布し、乾燥して、厚みが０．２μｍの電荷発生層を得た。

次に、電荷輸送物質としてトリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミン（一般式（１）の例示化合物１−１）４質量部、バインダー樹脂としてビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：４０，０００）６質量部、酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール１質量部を混合してテトラヒドロフラン２４質量部及びトルエン１１質量部を混合溶解したのち、フッ素変性シリコーンオイル（商品名：ＦＬ−１００ 信越シリコーン社製）を１０ｐｐｍ添加し、十分に撹拌して電荷輸送層形成用塗布液を得た。
この塗布液を電荷発生層上に塗布して１４０℃で２５分間乾燥し、膜厚が２５μｍの電荷輸送層を形成し。

このようにして、目的の電子写真感光体を得た。

―下引層、電荷輸送層における厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率−
得られた電子写真感光体の下引層、電荷輸送層における厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率について、既述の方法により測定した。結果を表１に記す。

―画像濃度ムラ―
まず、得られた電子写真感光体の半面をマスクし、室内用白色蛍光灯（照射光波長４００ｎｍ以上６５０ｎｍ以下）を用いて、６２０ルクス（ｌｘ）の光を１０分間照射した。
光照射後の得られた電子写真感光体を富士ゼロックス社製ＤｏｃｕＰｒｉｎｔ Ｃ２１１０改造機に装着し、電子写真感光体の光照射面と非光照射面との双方に、帯電、露光、転写の各工程を順に実施して、図５に示す画像（ベタ画像（画像能動１００％）、ハーフトーン画像（画像濃度３０％））を出力し、図５に示すハーフトーン部分の画像濃度ムラを官能評価にて評価した。結果を表１に記す。なお、用紙としては、富士ゼロックス社製Ｃ２紙を使用した。
評価基準は、以下の通りである。
◎：濃度ムラ未発生
○：合格レベルの軽微なムラ発生
×：濃淡のエッジは無いがＮＧレベルのムラ発生
××：濃淡のエッジが分かるＮＧレベルのムラ発生

（実施例２）
アリザリンに代えて、プルプリン（一般式（２）中、ｎ１が１で、Ｒ^１１が水素原子を表す化合物）を用いた以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（実施例３）
トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンに代えて、トリス［４−（１−メチル−４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミン（（一般式（１）の例示化合物１−６）を用いた以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（実施例４）
アリザリンを２質量部、下引層の膜厚を１５μｍにした以外は実施例と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（実施例５）
アリザリンを０．３質量部、下引層の膜厚を４０μｍにした以外は実施例と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（比較例１）
アリザリンの添加量を１．０質量部にし、トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンに代えて、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンを用いた以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（比較例２）
アリザリンの添加量を１．０質量部にし、トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンに代えて、ビス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンを用いた以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（比較例３）
アリザリンの添加量を０．５質量部にした以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（比較例４）
アリザリンの添加量を０．５質量部にし、トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンに代えて、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミンを用いた以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

（比較例５）
トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンに代えて、ビス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミンを用いた以外は実施例１と同様にして感光体を作製し、同様に評価を行った。

上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、画像濃度ムラの評価について良好な結果が得られていることがわかる。

１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ 電子写真感光体、２ 導電性支持体、３ 感光層、４下引層、５ 電荷発生層、６電荷輸送層、２００ 画像形成装置、２０８ 帯電装置、２１０ 露光装置、２１１ 現像装置、２１２ 転写装置、２１３ トナー除去装置、２１５定着装置、２２０ 画像形成装置、４０４ａ，４０４ｂ，４０４ｃ，４０４ｄ 現像装置、５００ 被転写媒体

Claims (5)

1. 導電性支持体と、
   導電性支持体上に設けられ、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が２０％以下である下引層と、
   前記下引層上に設けられた電荷発生層と、
   前記電荷発生層上に設けられ、厚みが１５μｍ以上４０μｍ以下で、且つ少なくとも厚みが１５μｍのときの波長４５０ｎｍの光に対する光透過率が３０％以下である電荷輸送層と、
   を有する電子写真感光体。
2. 前記電荷輸送層が、下記一般式（１）で表される電荷輸送材料を含む請求項１に記載の電子写真感光体。
   
   
   （一般式（１）中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、及びＲ^６はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は、置換もしくは未置換の炭素数６以上３０以下のアリール基を表し、隣接する２つの置換基同士が結合して炭化水素環構造を形成してもよい。ｎ及びｍはそれぞれ独立して１又は２を表す。）
3. 前記下引層が、下記一般式（２）で示される電子受容性化合物を含む請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
   
   （一般式（２）中、Ｒ^１１は、水素原子、又はアルキル基を表す。ｎ１は、０又は１の整数を表す。）
4. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体を少なくとも備え、
   画像形成装置に着脱されるプロセスカートリッジ。
5. 請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電手段と、
   帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
   前記静電潜像を現像剤により現像してトナー像を形成する現像手段と、
   前記トナー像を前記電子写真感光体から被転写媒体に転写する転写手段と、
   を少なくとも備える画像形成装置。