JP2013179048A - プラズマチャンバーのアーク検出方法および装置 - Google Patents

プラズマチャンバーのアーク検出方法および装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2013179048A
JP2013179048A JP2013036464A JP2013036464A JP2013179048A JP 2013179048 A JP2013179048 A JP 2013179048A JP 2013036464 A JP2013036464 A JP 2013036464A JP 2013036464 A JP2013036464 A JP 2013036464A JP 2013179048 A JP2013179048 A JP 2013179048A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
arc
plasma chamber
voltage
radio frequency
value
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2013036464A
Other languages
English (en)
Inventor
Sang Don Choi
チョイ,サン−ドン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
New Power Plasma Co Ltd
Original Assignee
New Power Plasma Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by New Power Plasma Co Ltd filed Critical New Power Plasma Co Ltd
Publication of JP2013179048A publication Critical patent/JP2013179048A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/24Testing of discharge tubes
    • G01R31/245Testing of gas discharge tubes
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R31/00Arrangements for testing electric properties; Arrangements for locating electric faults; Arrangements for electrical testing characterised by what is being tested not provided for elsewhere
    • G01R31/12Testing dielectric strength or breakdown voltage ; Testing or monitoring effectiveness or level of insulation, e.g. of a cable or of an apparatus, for example using partial discharge measurements; Electrostatic testing
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/0046Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof characterised by a specific application or detail not covered by any other subgroup of G01R19/00
    • G01R19/0061Measuring currents of particle-beams, currents from electron multipliers, photocurrents, ion currents; Measuring in plasmas
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R19/00Arrangements for measuring currents or voltages or for indicating presence or sign thereof
    • G01R19/165Indicating that current or voltage is either above or below a predetermined value or within or outside a predetermined range of values
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32009Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
    • H01J37/32082Radio frequency generated discharge
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/32917Plasma diagnostics
    • H01J37/32935Monitoring and controlling tubes by information coming from the object and/or discharge
    • H01J37/32944Arc detection
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/0006Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature
    • H05H1/0081Investigating plasma, e.g. measuring the degree of ionisation or the electron temperature by electric means
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01RMEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R27/00Arrangements for measuring resistance, reactance, impedance, or electric characteristics derived therefrom
    • G01R27/02Measuring real or complex resistance, reactance, impedance, or other two-pole characteristics derived therefrom, e.g. time constant
    • G01R27/08Measuring resistance by measuring both voltage and current

Abstract

【課題】プラズマチャンバーの内部で発生するアークに対し、より正確に感知できるプラズマチャンバーのアーク検出方法および装置を提供する。
【解決手段】 電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の電圧値を検出する電圧センサーと、前記無線周波数電力の電流値を検出する電流センサーと、前記電圧センサーおよび電流センサーによって検出された電圧値および電流値を受け入れ、電圧電流比値を演算する電圧電流比検出回路および前記電圧電流比検出回路から演算された電圧電流比値に基づき、前記プラズマチャンバーの内部でアーク発生の可否を判断する制御部を含む。
【選択図】図1

Description

本発明は電源を消費する負荷から発生するアークを検出するための方法および装置に関するもので、具体的には、無線周波数電源を使ってプラズマを発生させるプラズマチャンバーの内部で発生するアークを検出するための方法および装置に関するものである。
電源を消費する負荷から発生するアークは、電源供給装置や負荷の損傷を誘発することがある。アークの発生を基本的に遮断することが好ましいが、色々な原因によってアークが発生する可能性がある。それでアークが発生する場合、これを感知しアークが持続的に発生しないように遮断する技術的努力が続けられている。
特に、無線周波数電源を使うプラズマ工程の場合、アーク発生によってプラズマチャンバー内部の損傷と作業対象物に対する汚染が発生する可能性がある。それでプラズマチャンバー内部で発生するアークを迅速に感知し、これを遮断するための技術が提供されている。例えば急な反射電力の変化を感知し、アーク発生の可否を判断して供給される無線周波数電源を遮断したり減らす方法がある。しかし、プラズマチャンバー内部で発生するアークによって、必ず反射電力の増加が起きるのではないので実効性を高めるというのは容易ではない。
プラズマを利用する半導体製造工程は、非常に高い精密度が要求される。それでプラズマチャンバー内部で発生するアークに対する正確な感知と迅速な電源供給の制御が必要である。
本発明の目的は、プラズマチャンバーの内部で発生するアークに対し、より正確に感知できるプラズマチャンバーのアーク検出方法および装置を提供することにある。
前述した技術的課題を達成するための本発明の一面は、プラズマチャンバーのアーク検出装置に関するものである。本発明のプラズマチャンバーのアーク検出装置は、電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の電圧値を検出する電圧センサーと、前記無線周波数電力の電流値を検出する電流センサーと、前記電圧センサーおよび電流センサーによって検出された電圧値および電流値を受け入れ、電圧電流比値を演算する電圧電流比検出回路および前記電圧電流比検出回路から演算された電圧電流比値に基づき、前記プラズマチャンバーの内部でアーク発生の可否を判断する制御部を含む。
一実施例において、前記制御部は前記プラズマチャンバーの内部でアークが発生したと判断される場合、前記電源供給源の無線周波数電力の供給を減らす制御を遂行する。
一実施例において、前記制御部は前記プラズマチャンバーの内部でアークが発生したと判断される場合、前記電源供給源の無線周波数電力の供給を遮断する制御を遂行する。
一実施例において、前記制御部は前記プラズマチャンバーの内部でアークが発生したと判断される場合、先に前記電源供給源の無線周波数電力の供給を減らしてから電力供給を遮断する制御を遂行する。
一実施例において、前記電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の反射電力を検出する反射電力検出部と、前記反射電力検出部によって検出された反射電力値を基準値と比較する比較回路および、前記比較回路から比較された結果値と前記電圧電流比検出回路から出力される電圧電流比値を論理的に演算し、前記制御部から提供する論理回路をさらに含む。
一実施例において、前記制御部は前記論理回路から提供される論理演算値に基づき、前記電源供給源の制御を遂行する。
本発明の他の一面によるプラズマチャンバーのアーク検出方法は、電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の電圧値を検出する段階と、前記検出された電圧値と電流値で電圧電流比値を演算する段階および、前記演算された電圧電流比値に基づき、前記プラズマチャンバーの内部でアーク発生の可否を判断する段階を含む。
一実施例において、前記アーク発生の可否を判断する段階でアーク発生と判断される場合、前記電源供給の無線周波数電力供給を制御する段階をさらに含む。
一実施例において、前記無線周波数電力供給の制御は、供給される無線周波数電力を減少する制御である。
一実施例において、前記無線周波数電力供給の制御は、供給される無線周波数電力を遮断する制御である。
一実施例において、前記無線周波数電力供給の制御は、供給される無線周波数電力を減少させた以後に遮断する制御である。
一実施例において、電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の反射電力値を検出する段階をさらに含み、前記アーク発生の可否を判断する段階は前記検出された反射電力値を基礎として判断される。
本発明のプラズマチャンバーのアーク検出方法および装置は、プラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の電圧電流比率の変化を感知し、アーク発生を感知して電源供給の制御が必要な場合、速かに電源供給源に出力される無線周波数電力を減少させたり遮断し、アーク発生によってプラズマチャンバーの内部が損傷したり被処理対象物が汚染されることを防止する。
本発明の第1実施例に係るプラズマチャンバーのアーク検出装置を示すブロック図である。 図1のアーク検出装置の動作過程を示す順序図である。 本発明の第2実施例に係るプラズマチャンバーのアーク検出装置を示すブロック図である。 図3のアーク検出装置の動作過程を示す順序図である。
本発明を十分に理解するために本発明の好ましい実施例を添付図面に依拠して説明する。 本発明の実施例は色々な形態に変形され、本発明の範囲が後述で詳細に説明する実施例に限定されると解釈されてはならない。本実施例は、当業界で平均的な知識を持った者に本発明をより完全に説明するために提供されるものである。各図面で同じ構成は同じ参照符号で図示した場合があることを留意しなければならない。不必要に不明確にする可能性があると判断される公知機能および構成に対する詳細な技術は省略する。
図1は本発明の第1実施例に係るプラズマチャンバーのアーク検出装置を示すブロック図である。図1を参照し、本発明の第1実施例に係るアーク検出装置は、プラズマチャンバー40の内部で発生するアークを検出し、速かに電源供給源10を制御しアーク発生によってプラズマチャンバーの内部が損傷したり被処理対象物が汚染されることを防止する。
電源供給源10で発生する無線周波数電力は、インピーダンスマッチングユニット30を通してプラズマチャンバー40の内部に備わった上部および下部電極41,42に供給される。プラズマチャンバー40の内部で工程ガスが供給され、無線周波数電力が供給されれば上部電極41と下部電極42間でプラズマ43が発生する。無線周波数電力が供給される間にはプラズマチャンバー40の内部で発生するプラズマ43のインピーダンス変化によりインピーダンスマッチングユニット30が作動し、適切なインピーダンスマッチングを成す。しかし急激な電圧電流の変化、つまりアークが発生する場合にはインピーダンスマッチングユニット30による調節が難しいので、適切なアーク検出とアーク検出による電源供給源10の有機的な制御が必要である。
本発明のアーク検出装置は、電源供給源10からプラズマチャンバー40に供給される無線周波数電力の電圧および電流をそれぞれ感知し、感知された電圧および電流値の比率を検出して必要な電源供給の制御が行われる。
アーク検出装置は、電圧センサー20と電流センサー22を具備する。電圧センサーおよび電流センサー22は、電源供給源10からプラズマチャンバー40に供給される無線周波数電力の電圧および電流をそれぞれ検出する。電圧センサー20と電流センサー22によって検出された電圧値と電流値は、電圧電流比検出回路24で提供される。電圧電流比検出回路24は検出された電圧値と電流値の比率値を演算して制御部26で提供される。例えば、50オームの負荷で、正常な場合、50ボルトの電圧と1アンペアの電流が検出されることを正常状態にすることができる。
制御部26は正常状態の基準値と電圧電流比検出回路24で提供される電圧電流比値を比較しながらアーク発生の可否を判断する。アーク発生と判断される場合、制御部26は電源供給源10を制御し、電力供給を減らしたりアーク発生が続く場合、電力供給が中断されるようにする。
図2は図1のアーク検出装置の動作過程を示す順序図である。図2を参照して、以上説明した本発明の第1実施例に係るアーク検出装置は、段階S10で電圧センサー20および電流センサー22を利用して電流および電圧を検出する。段階S20では電圧電流比検出回路20によって検出された電圧および電流値に対する比率が演算されて制御部26で提供される。
段階S30で制御部26は、電圧電流比検出回路24から提供される電圧電流比値が基準値と比較してアーク発生の可否を判断する。アークが発生したと判断されれば制御部26は、電源供給源10を制御し無線周波数電力を減少させたり必要なら電力供給を遮断させる。
図3は本発明の第2実施例に係るプラズマチャンバーのアーク検出装置を示すブロック図で、図4は図3のアーク検出装置の動作過程を示す順序図である。図3および図4を参照にし、本発明の第2実施例に係るアーク検出装置は前述した第1実施例の構成と基本的に同様であるので、同じ構成に対する反復的な説明は省略する。第2実施例に他のアーク検出装置は、反射電力の変化の有無をさらに含んでアーク発生の可否を判断する。
反射電力検出回路27は、プラズマチャンバー40に供給されて反射する電力を検出する。検出された反射電力値は比較回路28で提供される。比較回路28は基準値設定部29に設定された基準値と反電力値を比較し、その結果を論理回路25で提供する。
論理回路25は比較回路28で入力される比較演算値と電圧電流比検出回路で提供される電圧電流比検出値を論理演算し、その結果を制御部26で提供する。制御部26は論理回路25で提供される論理演算値によって、アーク発生の可否を判断し、アークが発生したと判断されれば制御部26は電源供給源10を制御し、無線周波数電力を減少させたり必要なら電力供給を遮断させる。
以上説明した本発明のプラズマチャンバーのアーク検出方法および装置の実施例は、例示的なものに過ぎず、本発明が属した技術分野の通常の知識を持った者なら、これから多様な変形および均等な他の実施例が可能だということがよくわかるであろう。
それで、本発明は前記の詳細な説明で言及される形態にだけ限定されるものではないということをよく理解できるであろう。したがって、本発明の真の技術的保護範囲は添付された特許請求範囲の技術的思想によって決まらなければならないであろう。また、本発明は添付された請求範囲によって定義される本発明の精神とその範囲内にあるすべての変形物と均等物および代替物を含むことで理解されなければならない。
10 電源供給源
20 電圧センサー
22 電流センサー
24 電圧電流比検出回路
25 論理回路
26 制御部
27 反射電力検出回路
28 比較回路
29 基準値設定部
30 インピーダンスマッチングユニット
40 プラズマチャンバー
41 上部電極
42 下部電極
43 プラズマ

Claims (12)

  1. 電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の電圧値を検出する電圧センサーと、前記無線周波数電力の電流値を検出する電流センサーと、前記電圧センサーおよび電流センサーによって検出された電圧値および電流値を受け入れ、電圧電流比値を演算する電圧電流比検出回路および前記電圧電流比検出回路で演算された電圧電流比値に基づき前記プラズマチャンバーの内部でアーク発生の可否を判断する制御部を含むことを特徴とするプラズマチャンバーのアーク検出装置。
  2. 前記制御部は、前記プラズマチャンバーの内部でアークが発生したと判断される場合、前記電源供給源の無線周波数電力の供給を減らす制御を遂行することを特徴とする請求項1記載のプラズマチャンバーのアーク検出装置。
  3. 前記制御部は、前記プラズマチャンバーの内部でアークが発生したと判断される場合、前記電源供給源の無線周波数電力の供給を遮断させる制御を遂行することを特徴とする請求項1記載のプラズマチャンバーのアーク検出装置。
  4. 前記制御部は、前記プラズマチャンバーの内部でアークが発生したと判断される場合、先に前記電源供給源の無線周波数電力の供給を減らす制御を先に進めてから電力供給を遮断する制御を遂行することを特徴とする請求項1記載のプラズマチャンバーのアーク検出装置。
  5. 前記電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の反射電力を検出する反射電力検出部と、前記反射電力検出部によって検出された反射電力値を基準値と比較する比較回路と、前記比較回路で比較された結果値と前記電圧電流比検出回路で出力される低圧電流比値を論理的に演算して前記制御部で提供する論理回路とをさらに含むことを特徴とする請求項1記載のプラズマチャンバーのアーク検出装置。
  6. 前記制御部は、前記論理回路で提供される論理演算値に基づき前記電源供給源の制御を遂行することを特徴とする請求項5記載のプラズマチャンバーのアーク検出装置。
  7. 電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の電圧値を検出する段階と、前記検出された電圧値と電流値で電圧電流比値を演算する段階および、前記演算された電圧電流比値に基づき、前記プラズマチャンバーの内部でアーク発生の可否を判断する段階を含むことを特徴とするプラズマチャンバーのアーク検出方法。
  8. 前記アーク発生の可否を判断する段階でアーク発生と判断される場合、前記電源供給の無線周波数電力供給を制御する段階をさらに含むことを特徴とする請求項7記載のプラズマチャンバーのアーク検出方法。
  9. 前記無線周波数電力供給の制御は供給される無線周波数電力を減少する制御であることを特徴とする請求項8記載のプラズマチャンバーのアーク検出方法。
  10. 前記無線周波数電力供給の制御は、供給される無線周波数電力を遮断する制御であることを特徴とする請求項8記載のプラズマチャンバーのアーク検出方法。
  11. 前記無線周波数電力供給の制御は、供給される無線周波数電力を減少させた以後に遮断する制御であることを特徴とする請求項8記載のプラズマチャンバーのアーク検出方法。
  12. 電源供給源からプラズマチャンバーに供給される無線周波数電力の反射電力値を検出する段階をさらに含み、前記アーク発生の可否を判断する段階は、前記検出された反射電力値を基礎にして判断されることを特徴とする請求項7記載のプラズマチャンバーのアーク検出方法。
JP2013036464A 2012-02-28 2013-02-26 プラズマチャンバーのアーク検出方法および装置 Pending JP2013179048A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR10-2012-0020659 2012-02-28
KR1020120020659A KR101303040B1 (ko) 2012-02-28 2012-02-28 플라즈마 챔버의 아크 검출 방법 및 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2013179048A true JP2013179048A (ja) 2013-09-09

Family

ID=49002086

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2013036464A Pending JP2013179048A (ja) 2012-02-28 2013-02-26 プラズマチャンバーのアーク検出方法および装置

Country Status (5)

Country Link
US (1) US9170295B2 (ja)
JP (1) JP2013179048A (ja)
KR (1) KR101303040B1 (ja)
CN (1) CN103474321A (ja)
TW (1) TWI505319B (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101751611B1 (ko) * 2015-11-10 2017-06-28 한양대학교 산학협력단 플라스마 발생 장치 및 플라스마 발생 제어 방법
JP2017527092A (ja) * 2014-06-27 2017-09-14 トゥルンプフ ヒュッティンガー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Huettinger GmbH + Co. KG 電力発生器を動作させるための方法、及び、電力発生器
JP2020145038A (ja) * 2019-03-05 2020-09-10 日本電産株式会社 プラズマ処理装置
TWI821768B (zh) * 2020-11-04 2023-11-11 大陸商中微半導體設備(上海)股份有限公司 等離子體處理腔內的電弧的檢測方法及檢測裝置

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102013110883B3 (de) 2013-10-01 2015-01-15 TRUMPF Hüttinger GmbH + Co. KG Vorrichtung und Verfahren zur Überwachung einer Entladung in einem Plasmaprozess
CN104730372B (zh) * 2013-12-13 2018-08-10 朗姆研究公司 基于rf阻抗模型的故障检测
US9745660B2 (en) 2014-05-02 2017-08-29 Reno Technologies, Inc. Method for controlling a plasma chamber
US10431428B2 (en) 2014-01-10 2019-10-01 Reno Technologies, Inc. System for providing variable capacitance
EP2905801B1 (en) * 2014-02-07 2019-05-22 TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. Method of monitoring the discharge in a plasma process and monitoring device for monitoring the discharge in a plasma
WO2016127110A2 (en) * 2015-02-06 2016-08-11 Ionfield Holdings, Llc Methods and systems for generating plasma to clean objects
JP6814213B2 (ja) * 2015-12-04 2021-01-13 アプライド マテリアルズ インコーポレイテッドApplied Materials,Incorporated プラズマ処理のためのアーキング検出装置
CN105414728B (zh) * 2015-12-25 2017-09-15 华中科技大学 一种空气等离子切割机单传感器引弧电路及其控制方法
KR101718927B1 (ko) * 2016-03-24 2017-03-22 이심규 RPS(Remote Plasma Source)의 불량 발생 인자 모니터링 장치
CN107293465B (zh) * 2016-03-31 2019-02-26 中微半导体设备(上海)有限公司 一种等离子体电弧监测方法及装置
KR102544625B1 (ko) * 2017-02-16 2023-06-15 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 고온 환경에서 무선 주파수 전력을 측정하기 위한 전압-전류 프로브 및 이를 교정하는 방법
WO2018211585A1 (ja) * 2017-05-16 2018-11-22 株式会社Fuji プラズマ発生装置
KR102524810B1 (ko) 2017-12-26 2023-04-24 삼성전자주식회사 반도체 공정의 제어 방법
KR102376991B1 (ko) 2020-05-29 2022-03-22 충남대학교산학협력단 플라즈마 공정 장비 접지 전압 모니터링을 통한 아킹 예보 및 모니터링 시스템
CN111926308B (zh) * 2020-08-24 2022-08-12 湖南红太阳光电科技有限公司 一种等离子体放电异常的处理方法
US20220406581A1 (en) * 2021-06-18 2022-12-22 Applied Materials, Inc. Methods for detecting arcing in power delivery systems for process chambers

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007503096A (ja) * 2003-08-18 2007-02-15 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド スパッタ処理システムにおけるプラズマ遷移の制御
JP2007149596A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Daihen Corp プラズマ処理システムのアーク検出装置
JP2009059715A (ja) * 2008-11-14 2009-03-19 Shibaura Mechatronics Corp 電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置
JP2009176726A (ja) * 2007-12-24 2009-08-06 Huettinger Electronic Sp Z Oo プラズマ室と電源との間に流れる電流の電流変化を制限する方法、プラズマ室と電源との間に流れる電流の電流変化を制限するために電源とプラズマ室との間に設けられた電流変化分制限装置、ならびに電流変化分制限回路
JP2010519708A (ja) * 2007-02-22 2010-06-03 アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド シャントスイッチを用いるプラズマチャンバー電力供給のための過電圧のないアーク回復

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5770922A (en) * 1996-07-22 1998-06-23 Eni Technologies, Inc. Baseband V-I probe
US5971591A (en) * 1997-10-20 1999-10-26 Eni Technologies, Inc. Process detection system for plasma process
US6449568B1 (en) * 1998-02-27 2002-09-10 Eni Technology, Inc. Voltage-current sensor with high matching directivity
US6326584B1 (en) * 1999-12-31 2001-12-04 Litmas, Inc. Methods and apparatus for RF power delivery
US7960670B2 (en) * 2005-05-03 2011-06-14 Kla-Tencor Corporation Methods of and apparatuses for measuring electrical parameters of a plasma process
US8703249B2 (en) * 2002-04-17 2014-04-22 Lam Research Corporation Techniques for reducing arcing-related damage in a clamping ring of a plasma processing system
US6791274B1 (en) * 2003-07-15 2004-09-14 Advanced Energy Industries, Inc. RF power control device for RF plasma applications
US7115210B2 (en) * 2004-02-02 2006-10-03 International Business Machines Corporation Measurement to determine plasma leakage
US7292045B2 (en) * 2004-09-04 2007-11-06 Applied Materials, Inc. Detection and suppression of electrical arcing
US7305311B2 (en) * 2005-04-22 2007-12-04 Advanced Energy Industries, Inc. Arc detection and handling in radio frequency power applications
JP4842752B2 (ja) * 2006-09-28 2011-12-21 株式会社ダイヘン プラズマ処理システムのアーク検出装置、アーク検出装置を実現するためのプログラム及び記憶媒体
KR100935406B1 (ko) * 2007-06-08 2010-01-06 주식회사 플라즈마트 플라즈마 이상 감지 장치와 플라즈마 이상 감지 방법
WO2009023135A1 (en) * 2007-08-15 2009-02-19 Applied Materials, Inc. Apparatus for wafer level arc detection at an rf bias impedance match to the pedestal electrode
US8289029B2 (en) * 2008-02-14 2012-10-16 Mks Instruments, Inc. Application of wideband sampling for arc detection with a probabilistic model for quantitatively measuring arc events
KR101528528B1 (ko) * 2008-05-14 2015-06-12 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 Rf 전력 전달을 위한 시간 분해된 조정 방식을 이용하는 펄스화된 플라즈마 처리를 위한 방법 및 장치
CN102714167B (zh) * 2008-07-07 2015-04-22 朗姆研究公司 用于检测等离子处理室内的原位电弧放电事件的被动电容耦合静电(cce)探针装置
TWI475592B (zh) * 2008-07-07 2015-03-01 Lam Res Corp 用來偵測電漿處理腔室中之電漿不穩定性的被動電容耦合靜電探針裝置
US8674606B2 (en) * 2009-04-27 2014-03-18 Advanced Energy Industries, Inc. Detecting and preventing instabilities in plasma processes
JP5363281B2 (ja) * 2009-11-25 2013-12-11 株式会社アルバック 電源装置
US20120000765A1 (en) * 2010-06-30 2012-01-05 Primestar Solar, Inc. Methods of arc detection and suppression during rf sputtering of a thin film on a substrate
KR101675625B1 (ko) * 2011-01-04 2016-11-22 어드밴스드 에너지 인더스트리즈 인코포레이티드 플라즈마 처리 부하에 대한 시스템 레벨 전원 공급

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007503096A (ja) * 2003-08-18 2007-02-15 エム ケー エス インストルメンツ インコーポレーテッド スパッタ処理システムにおけるプラズマ遷移の制御
JP2007149596A (ja) * 2005-11-30 2007-06-14 Daihen Corp プラズマ処理システムのアーク検出装置
JP2010519708A (ja) * 2007-02-22 2010-06-03 アドバンスト・エナジー・インダストリーズ・インコーポレイテッド シャントスイッチを用いるプラズマチャンバー電力供給のための過電圧のないアーク回復
JP2009176726A (ja) * 2007-12-24 2009-08-06 Huettinger Electronic Sp Z Oo プラズマ室と電源との間に流れる電流の電流変化を制限する方法、プラズマ室と電源との間に流れる電流の電流変化を制限するために電源とプラズマ室との間に設けられた電流変化分制限装置、ならびに電流変化分制限回路
JP2009059715A (ja) * 2008-11-14 2009-03-19 Shibaura Mechatronics Corp 電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2017527092A (ja) * 2014-06-27 2017-09-14 トゥルンプフ ヒュッティンガー ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフトTRUMPF Huettinger GmbH + Co. KG 電力発生器を動作させるための方法、及び、電力発生器
KR101751611B1 (ko) * 2015-11-10 2017-06-28 한양대학교 산학협력단 플라스마 발생 장치 및 플라스마 발생 제어 방법
JP2020145038A (ja) * 2019-03-05 2020-09-10 日本電産株式会社 プラズマ処理装置
JP7059969B2 (ja) 2019-03-05 2022-04-26 日本電産株式会社 プラズマ処理装置
TWI821768B (zh) * 2020-11-04 2023-11-11 大陸商中微半導體設備(上海)股份有限公司 等離子體處理腔內的電弧的檢測方法及檢測裝置

Also Published As

Publication number Publication date
US20130221847A1 (en) 2013-08-29
US9170295B2 (en) 2015-10-27
TW201351470A (zh) 2013-12-16
CN103474321A (zh) 2013-12-25
TWI505319B (zh) 2015-10-21
KR101303040B1 (ko) 2013-09-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013179048A (ja) プラズマチャンバーのアーク検出方法および装置
JP4837368B2 (ja) プラズマ処理システムのアーク検出装置
JP5150045B2 (ja) プラズマチャンバにおいて、電気アークが発生しているかどうかを検出するための電気回路
JP2013511815A5 (ja)
US9316675B2 (en) Secondary plasma detection systems and methods
EP2594119A1 (en) Failure event detection in a plasma arc torch
KR20150020128A (ko) 챔버 데이터를 이용한 유리 파손과 아킹의 검출
JPWO2003103348A1 (ja) 放電用電源、スパッタリング用電源及びスパッタリング装置
US11437262B2 (en) Wafer de-chucking detection and arcing prevention
WO2019082564A1 (ja) アーク検出回路、ブレーカシステム、接続箱システム、パワーコンディショナ、マイクロインバータ、dcオプティマイザ及びアーク検出方法
US9618493B2 (en) Substrate processing apparatus and method for detecting an abnormality of an ozone gas concentration
JP5511599B2 (ja) 転流式遮断装置
US11004710B2 (en) Wafer placement error detection based on measuring a current through an electrostatic chuck and solution for intervention
JP4621177B2 (ja) アーク放電抑止装置および方法
KR101302158B1 (ko) 플라즈마 처리장치 제어방법
JP6084860B2 (ja) プラズマ処理装置
JP6359011B2 (ja) 大気圧プラズマ発生装置、およびプラズマ発生方法
KR20120113848A (ko) 아크 검출 전력제어 장치 및 방법
JP4251611B2 (ja) 電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置
JP4492974B2 (ja) 電源、スパッタ用電源及びスパッタ装置
WO2020008679A1 (ja) アーク溶接機
JP2006288009A (ja) 高周波電源装置
JP2006288009A5 (ja)
KR20140106141A (ko) 펄스 출력 모듈의 아크 차단 장치
JP2011052279A (ja) 放電状態検知装置および放電状態検知方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20140124

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20141111

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20150210

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20150311

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150410

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150325

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20150601

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20151020

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20160219

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20170119

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20170221