JP2013179046A - 光透過性導電性フィルム及びそれを有する静電容量型タッチパネル - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(A)光透過性支持層;及び(B)光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムであって、前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、前記光透過性導電層(B)が、光透過性導電物質を含有する粒子を含有し、かつ前記粒子の平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする、光透過性導電性フィルム。
【選択図】なし
Description
項1
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)が、光透過性導電物質を含有する粒子を含有し、かつ
前記粒子の平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする、
光透過性導電性フィルム。
項2
前記平均粒子径が、前記光透過性導電層(B)表面の2×2μm四方のSEM像において視認可能な無作為に選ばれた10個の粒子から、長軸方向長さについて上位2個及び下位2個の粒子を除いて得られる6個の粒子についての、長軸方向長さの数平均値である、項1に記載の光透過性導電性フィルム。
項3
前記光透過性導電物質が、酸化インジウムスズである、項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
項4
前記光透過性導電層(B)の厚さが、5〜50nmである、項1〜3のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項5
光透過性導電層(B)の厚さが18〜22nmであり、
前記光透過性導電物質がSnO2を8〜15重量%含有する酸化インジウムスズであり、かつ
光透過性導電物質を含有する前記粒子の平均粒子径が5〜8nmである、
項1〜3に記載の光透過性導電性フィルム。
項6
表面抵抗が100Ω/□以下である、項5に記載の光透過性導電性フィルム。
項7
さらに、
(C)光透過性下地層を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記光透過性下地層(C)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
項1〜6のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項8
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性下地層(C)に隣接して配置されている、項7に記載の光透過性導電性フィルム。
項9
前記光透過性下地層(C)が、SiOx(X=1〜2)を含む、項1〜8のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項10
さらに、
(D)ハードコート層を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
項1〜6のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項11
さらに、
(D)ハードコート層を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性下地層(C)が、少なくとも前記ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
項7〜9のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項12
前記光透過性下地層(C)が、前記ハードコート層(D)に隣接して配置されている、項11に記載の光透過性導電性フィルム。
項13
さらに、
(E)金属層を含有し、かつ
前記金属層(E)が、前記光透過性導電層(B)の前記光透過性支持層(A)とは反対側の面に隣接して配置されている、項1〜12のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
項14
項1〜13のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、静電容量型タッチパネル。
項15
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)が、光透過性導電物質を含有する粒子を含有し、かつ
前記粒子の平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムの製造方法であって、
前記光透過性導電層(B)を、前記粒子の平均粒子径が10nm以下となるように配置する工程を含む方法。
11 光透過性支持層(A)
12 光透過性導電層(B)
13 光透過性下地層(C)
14 ハードコート層(D)
本発明の光透過性導電性フィルムは、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)が、光透過性導電物質を含有する粒子を含有し、かつ
前記粒子の平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムである。
本発明において、各層の厚さは、Rigaku製 薄膜評価用試料水平型X線回折装置SmartLab、又はその同等品を用いて、X線反射率法により求める。
本発明において、光透過性導電性フィルムの表面抵抗は、表面抵抗計(MITSUBISHI CHEMICAL ANALYTECH 社製、商品名:Loresta−EP、又はその同等品)を用いて、4端子法により測定する。
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層(A)としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
光透過性導電層(B)は、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている。
光透過性導電物質として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム(III)(In2O3)に酸化スズ(IV)(SnO2)をドープしたもの(tin−dopedindium oxide;ITO)が好ましい。この場合、SnO2の添加量としては、特に限定されないが、例えば、1〜15重量%であり、光透過性導電層のエッチング液に対する溶解性を向上させるという点では好ましくは2〜10重量%、より好ましくは3〜8重量%であり、さらに同時に良好な表面抵抗を達成するという点では好ましくは8〜15重量%である。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、ITOにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層(B)の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。光透過性導電物質は、酸化インジウムと酸化亜鉛、酸化錫、酸化チタン及び酸化セレン等との混合物であってもよい。
光透過性導電層(B)は、上記の各種光透過性導電物質のうちいずれか単独を含有する粒子を含有するものであってもよいし、複数種を含有する粒子を含有するものであってもあってもよいし、複数種をそれぞれ別個に含有する複数種の粒子を含有するものであってもあってもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、好ましくは表面抵抗が100Ω/□以下である。そのような本発明の光透過性導電性フィルムの例として、例えば、
光透過性導電層(B)の厚さが18〜22nmであり、
光透過性導電物質がSnO2を8〜15重量%含有する酸化インジウムスズであり、かつ
光透過性導電物質を含有する粒子の平均粒子径が5〜8nmである
光透過性導電性フィルムを挙げることができる。
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(B)が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介して光透過性下地層(C)が配置されていてもよい。光透過性下地層(C)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記光透過性下地層(C)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性下地層(C)に隣接して配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の光透過性導電層(B)が配置されている面に、直接又は一以上の他の層を介してハードコート層(D)が配置されていてもよい。ハードコート層(D)は、好ましくは光透過性支持層(A)に隣接して配置されている。ハードコート層(D)が配置されている場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記光ハードコート層(D)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている。この場合、少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、前記ハードコート層(D)に隣接して配置されていてもよい。
ハードコート層(D)は、光透過性支持層(A)の両面に配置されていてもよい。
図7に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層(A)の一方の面にハードコート層(D)、光透過性下地層(C)及び光透過性導電層(B)がこの順で互いに隣接して配置されており、光透過性支持層(A)の他方の面に別のハードコート層(D)が直接配置されている。
本発明の光透過性導電性フィルムは、前記光透過性導電層(B)の光透過性支持層(A)とは反対側の面に、前記金属層(E)が隣接して配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層(A)の前記面上に、光透過性導電層(B)に加えて、光透過性下地層(C)、ハードコート層(D)、金属層(E)及びそれらと異なる少なくとも1種のその他の層(F)からなる群より選択される少なくとも1種の層がさらに配置されていてもよい。
本発明の光透過性導電性フィルムは、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。抵抗膜方式タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率(シート抵抗)が250〜1,000Ω/sq程度は必要であるとされる。これに対して静電容量型タッチパネルの製造のために用いられる光透過性導電性フィルムは一般に表面抵抗率が低いほうが有利である。本発明の光透過性導電性フィルムは、抵抗率が低減されており、これにより、静電容量型タッチパネルの製造のために好ましく用いられる。静電容量型タッチパネルについて詳細は、2で説明する通りである。
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
(1)保護層
(2)本発明の光透過性導電性フィルム(Y軸方向)
(3)絶縁層
(4)本発明の光透過性導電性フィルム(X軸方向)
(5)ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記(1)〜(5)、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法は、
(A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)が、光透過性導電物質を含有する粒子を含有し、かつ
前記粒子の平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする、
光透過性導電性フィルムの製造方法であって、
前記光透過性導電層(B)を、前記粒子の平均粒子径が10nm以下となるように配置する工程を含む方法である。
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性を有する光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたPETを用いた。ハードコート層の厚みは4μm、屈折率(n)は1.65であった。ハードコート層表面の平均表面粗さRaを走査型プローブ顕微鏡(株式会社島津製作所、SPM−9700)によって測定したところ、0.6nmであった。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の厚みは5〜10nmであった。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO26重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス98%、酸素ガス2%の混合ガスを導入し真空度3×10−1PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
得られた光透過性導電性フィルムについて、ITOからなる粒子の平均粒子径、ITO層の厚さ、フィルムの表面抵抗、及びITO層がエッチングされるまでの時間を測定した結果を表1に示す。
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性を有する光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたPETを用いた。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の厚みは25〜30nmであった。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO29重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス94%、酸素ガス6%の混合ガスを導入し真空度5×10−1PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
得られた光透過性導電性フィルムについて、ITOからなる粒子の平均粒子径、ITO層の厚さ、フィルムの表面抵抗、及びITO層がエッチングされるまでの時間を測定した結果を表1に示す。
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性を有する光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたPETを用いた。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO26重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス95%、酸素ガス5%の混合ガスを導入し真空度5×10−1PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
得られた光透過性導電性フィルムについて、ITOからなる粒子の平均粒子径、ITO層の厚さ、フィルムの表面抵抗、及びITO層がエッチングされるまでの時間を測定した結果を表1に示す。
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性を有する光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたPETを用いた。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO28重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス94%、酸素ガス6%の混合ガスを導入し真空度5×10−1PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
得られた光透過性導電性フィルムについて、ITOからなる粒子の平均粒子径、ITO層の厚さ、フィルムの表面抵抗、及びITO層がエッチングされるまでの時間を測定した結果を表1に示す。
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性を有する光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたPETを用いた。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO26重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス95%、酸素ガス5%の混合ガスを導入し真空度5×10−1PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
以下の製法により、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性を有する光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層されたPETを用いた。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO26重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス95%、酸素ガス5%の混合ガスを導入し真空度5×10−1PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
以下の製法により、光透過性導電性フィルムを得た。
平滑性の低い光透過性支持層として、両面にハードコート層が積層され、かつ片面のハードコート層上にジルコニアからなる薄膜層、さらにその上にシリコンからなる薄膜層を積層したPETを用いた。ハードコート層表面の平均表面粗さRaを走査型プローブ顕微鏡(株式会社島津製作所、SPM−9700)によって測定したところ、4.2nmであった。このハードコート層の上に、DCスパッタリング法により光透過性下地層としてSiOx層を積層した。SiOx層の厚みは5〜10nmであった。SiOx層の上に、連続してDCスパッタを用いて酸化インジウム及び酸化スズの混合物(ITO)を積層化した。具体的には次のように行った。SnO26重量%のITO焼結体ターゲットをカソードに設置し、アルゴンガス98%、酸素ガス2%の混合ガスを導入し真空度10−4PaでITO層を積層した。これを150℃で1時間熱処理した。
Claims (10)
- (A)光透過性支持層;及び
(B)光透過性導電層
を含有する光透過性導電性フィルムであって、
前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性支持層(A)の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されており、
前記光透過性導電層(B)が、光透過性導電物質を含有する粒子を含有し、かつ
前記粒子の平均粒子径が10nm以下であることを特徴とする、
光透過性導電性フィルム。 - 前記平均粒子径が、前記光透過性導電層(B)表面の2×2μm四方のSEM像において視認可能な無作為に選ばれた10個の粒子から、長軸方向長さについて上位2個及び下位2個の粒子を除いて得られる6個の粒子についての、長軸方向長さの数平均値である、請求項1に記載の光透過性導電性フィルム。
- 前記光透過性導電物質が、酸化インジウムスズである、請求項1又は2に記載の光透過性導電性フィルム。
- 前記光透過性導電層(B)の厚さが、5〜50nmである、請求項1〜3のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
- 光透過性導電層(B)の厚さが18〜22nmであり、
前記光透過性導電物質がSnO2を8〜15重量%含有する酸化インジウムスズであり、かつ
光透過性導電物質を含有する前記粒子の平均粒子径が5〜8nmである、
請求項1〜3に記載の光透過性導電性フィルム。 - さらに、
(C)光透過性下地層を含有し、かつ
少なくとも一方の前記光透過性導電層(B)が、少なくとも前記光透過性下地層(C)を介して前記光透過性支持層(A)の面に配置されている、
請求項1〜5のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。 - 前記光透過性導電層(B)が、前記光透過性下地層(C)に隣接して配置されている、請求項6に記載の光透過性導電性フィルム。
- 前記光透過性下地層(C)が、SiOx(X=1〜2)を含む、請求項1〜7のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。
- さらに、
(E)金属層を含有し、かつ
前記金属層(E)が、前記光透過性導電層(B)の前記光透過性支持層(A)とは反対側の面に隣接して配置されている、請求項1〜8のいずれかに記載の光透過性導電性フィルム。 - 請求項1〜9のいずれかに記載の光透過性導電性フィルムを含む、静電容量型タッチパネル。
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