JP2013162044A5

JP2013162044A5 -

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Publication number: JP2013162044A5
Application number: JP2012024492A
Authority: JP
Filing date: 2012-02-07
Publication date: 2015-03-05
Anticipated expiration: 2032-02-07

Description

前記リンス水は、例えば純水（脱イオン水）またはガス溶存水である。ガス溶存水としては、純水に水素を溶存させた水素水や、純水に窒素を溶存させた窒素水等が挙げられる。

上部ロールホルダ１０には、円柱状で長尺状に延びる、例えばＰＶＡや発泡ポリウレタンからなる上部ロール洗浄部材（ロールスポンジ）１４が回転自在に支承されている。下部ロールホルダ１２には、円柱状で長尺状に延びる、例えばＰＶＡや発泡ポリウレタンからなる下部ロール洗浄部材（ロールスポンジ）１６が回転自在に支承されている。

右側第１〜第３リンス水供給ノズル２４ａ〜２４ｃは、リンス水供給源４０から延び、流量計４２及び主流量調整弁４４を介装したリンス水供給ライン４６から分岐した各分岐ラインに接続され、各分岐ラインには、開閉弁４８ａ〜４８ｃが介装されている。左側第１〜第３リンス水供給ノズル２６ａ〜２６ｃも、リンス水供給源４０から延び、流量計４２及び主流量調整弁４４を介装したリンス水供給ライン４６から分岐した各分岐ラインに接続され、各分岐ラインには、開閉弁５０ａ〜５０ｃが介装されている。

リンス水としては、例えば純水（脱イオン水）や、純水に水素を溶存させた水素水や、純水に窒素を溶存させた窒素水等のガス溶存水が使用される。リンス水としてガス溶存水を使用することで、リンス水への酸素の混入を防止して、基板表面が腐食しにくくすることができる。

図３は、図１及び図２に示す基板洗浄装置を使用して、例えばＣＭＰ後の基板Ｗの表面を洗浄する例をステップ順に示す。図３において、上段は、基板Ｗの表面への洗浄液供給ノズル２０ａ〜２０ｃ，２２ａ〜２２ｃからの洗浄液の供給を、下段は、基板Ｗの表面へのリンス水供給ノズル２４ａ〜２４ｃ，２６ａ〜２６ｃからのリンス水の供給をそれぞれ示している。

左側第１〜第３洗浄液供給ノズル２２ａ〜２２ｃから基板Ｗの表面に供給される洗浄液は、図５に示すように、基板Ｗの回転方向Ｅとロール洗浄部材１４の回転方向Ｆ１が互いに異なる方向（逆方向）で両者が接触する逆方向接触部に供給されてスクラブ洗浄に使用される。このため、基板Ｗとロール洗浄部材１４の相対移動速度が大きくなって、高い洗浄強度が得られるものの、スクラブ洗浄によって除去されたパーティクルは、逆方向接触部に堰き止められ滞留する。

Claims

基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄装置において、
基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置に洗浄液をそれぞれ供給する複数の洗浄液供給ノズルと、
基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水をそれぞれ供給する複数のリンス水供給ノズルと、
前記各洗浄液供給ノズルから基板表面に供給される洗浄液の流量をそれぞれ規制する流量制御弁と、
前記各リンス水供給ノズルから基板表面に供給されるリンス水の流量をそれぞれ規制する流量制御弁と、
前記各洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液の流量をそれぞれ規制する流量制御弁及び前記各リンス水供給ノズルから供給されるリンス水の流量をそれぞれ規制する流量制御弁をそれぞれ制御する制御部を有することを特徴とする基板洗浄装置。
前記各洗浄液供給ノズルから供給される洗浄液の流量をそれぞれ規制する流量制御弁及び前記各リンス水供給ノズルから供給されるリンス水の流量をそれぞれ規制する流量制御弁は、開閉弁であることを特徴とする請求項１に記載の基板洗浄装置。
前記ロール洗浄部材の少なくとも表面部は、吸水性に富んだスポンジ素材で形成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の基板洗浄装置。
前記吸水性に富んだスポンジ素材は、ＰＶＡであることを特徴とする請求項３に記載の基板洗浄装置。
前記リンス水は、純水またはガス溶存水であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一項に記載の基板洗浄装置。
基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板表面に前記ロール洗浄部材を接触させつつ、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置に洗浄液をそれぞれ供給する複数の洗浄液供給ノズルの内の任意の洗浄液供給ノズルから基板表面に洗浄液を供給して該表面を洗浄する工程と、
基板表面から前記ロール洗浄部材を離した状態で、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給して該表面をリンスする工程を有することを特徴とする基板洗浄方法。
基板の直径のほぼ全長に亘って直線状に水平に延びるロール洗浄部材と基板とを共に一方向に回転させつつ、洗浄液の存在下で、前記ロール洗浄部材と基板表面とを互いに接触させて該表面をスクラブ洗浄する基板洗浄方法において、
基板表面から前記ロール洗浄部材を離した状態で、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給して該表面をリンスし、
リンス水の供給を停止し、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置に洗浄液をそれぞれ供給する複数の洗浄液供給ノズルの内の任意の洗浄液供給ノズルから基板表面に洗浄液を供給して該表面のリンス水を洗浄液に置換した後、前記ロール洗浄部材を基板表面に接触させて該表面を洗浄し、
前記ロール洗浄部材を基板表面から離間させ洗浄液の供給を停止した後、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給して該表面をリンスすることを特徴とする基板洗浄方法。
前記ロール洗浄部材を基板表面に接触させて該表面を洗浄したまま、基板表面の前記ロール洗浄部材を挟んだ両側の複数位置にリンス水を供給する複数のリンス水供給ノズルの内の任意のリンス水供給ノズルから基板表面にリンス水を供給し、しかる後、前記ロール洗浄部材を基板表面から離間させることを特徴とする請求項７に記載の基板洗浄方法。