JP2013156619A - Irカット機能付きndフィルタ - Google Patents
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Abstract
【課題】光学装置に組み込まれた時に、適切な過渡的光量調節に貢献することのできるIRカット機能付きNDフィルタを提供しようとするものである。
【解決手段】本発明に係るNDフィルタ1は、光透過性を有する基材10と、基材10の表面に形成されて可視光の透過光量を調節するND膜20と、ND膜20が形成された基材10における基材10の表面またはND膜20の表面に形成されて赤外線の透過光量を調節するIRカット膜22と、を備え、ND膜20は、基材の全面を覆うように形成され、光透過率を漸次変化させるよう透過率に勾配を持たせている。
【選択図】図1
【解決手段】本発明に係るNDフィルタ1は、光透過性を有する基材10と、基材10の表面に形成されて可視光の透過光量を調節するND膜20と、ND膜20が形成された基材10における基材10の表面またはND膜20の表面に形成されて赤外線の透過光量を調節するIRカット膜22と、を備え、ND膜20は、基材の全面を覆うように形成され、光透過率を漸次変化させるよう透過率に勾配を持たせている。
【選択図】図1
Description
本発明は、主に可視光領域において光量を調節するND(Neutral Density)フィルタに関し、特に赤外線をカットする機能を備えるIR(InfraRed)カット機能付きNDフィルタに関する。
撮像素子は赤外線にも感度を持つため、一般の撮影に使われるカメラなどでは、余分な赤外線情報をカットするために、赤外線カットフィルタが用いられる。
一方、昨今、撮像素子の高感度化に伴い、これまでのレンズ系では光の量が多すぎるため、光の減衰が必要となってきた。
このような背景の下で、本件出願人は、スチルカメラやビデオカメラといった撮像装置における光量調節のためのNDフィルタに、不要な赤外線をカットする赤外線カットフィルタを併せて一体に設けたIRカット機能付きNDフィルタを提案し、これは、特許出願し、登録されている。
一方、昨今、撮像素子の高感度化に伴い、これまでのレンズ系では光の量が多すぎるため、光の減衰が必要となってきた。
このような背景の下で、本件出願人は、スチルカメラやビデオカメラといった撮像装置における光量調節のためのNDフィルタに、不要な赤外線をカットする赤外線カットフィルタを併せて一体に設けたIRカット機能付きNDフィルタを提案し、これは、特許出願し、登録されている。
この特許出願においては、基材一面の一部,例えば、中央部に部分的に円形のND膜を設け、その外周部分にはND膜を設けないND−IRも提案し、それは、先の出願から分割され特許庁に継続中である(特許文献2)。
このような部分的にND膜を設けたIRカット機能付きNDフィルタは、光学装置に組み込まれて使用されるが、その際、昼から夜に変わるときなど、被写体からの光量により、絞り装置などに連動して、ND膜が存在する部分と、ND膜が存在しない部分とを使い分け、光量調整をする。すなわち、絞り装置を絞ったとき、ND膜の光路に介在する比率を相対的に大きくし、絞り装置を開いたとき、ND膜の光路に介在する比率を相対的に小さくする。この手の装置として、特許第4671410号記載の装置が存在する(特許文献3)。
このような部分的にND膜を設けたIRカット機能付きNDフィルタは、光学装置に組み込まれて使用されるが、その際、昼から夜に変わるときなど、被写体からの光量により、絞り装置などに連動して、ND膜が存在する部分と、ND膜が存在しない部分とを使い分け、光量調整をする。すなわち、絞り装置を絞ったとき、ND膜の光路に介在する比率を相対的に大きくし、絞り装置を開いたとき、ND膜の光路に介在する比率を相対的に小さくする。この手の装置として、特許第4671410号記載の装置が存在する(特許文献3)。
しかしながら、上記IRカット機能付きNDフィルタでは、ND膜の径より絞り径を大きくして、光量を多くする際に、ND膜での光の遮り部分から、いきなりND膜による光の遮りの無くなる領域が開放されるので、絞りを通過する光量が急激に変化し、撮像素子側での電気信号変換がカバーしきれなくなり、一瞬、画像が暗く、または明るくなってしまうという現象が発生する。
特に近年では、撮像素子の感度が著しく向上していることから、絞りの通過光量の急激な変化は、撮像した画像に敏感に表れ、好ましい状態とは必ずしも言えない。
本発明は、斯かる実情に鑑みなされたもので、光学装置に組み込まれた時に、適切な過渡的光量調節に貢献することのできるIRカット機能付きNDフィルタを提供しようとするものである。
(1)本発明は、前記課題を解決するため、光透過性を有する基材と、可視光の透過光量を調節するND膜と、赤外線の透過光量を調節するIRカット膜と、を積層してなるIRカット機能付きNDフィルタを構成するにあたり、前記ND膜は、フィルタ全面を覆うように形成され、かつ、その光透過率が、ある一点から他の一点に向かって漸次変化するような透過率勾配を有するようにした点に特徴を有する。基材は、光透過性を有する例えばポリエチレンテレフタレートなどの樹脂製で、肉眼において透明である材質が好適である。
ここで、本発明は、基材と、ND膜と、IRカット膜の積層順は、任意に変更可能であり、光透過性を有する基材の表面の全領域にND膜を形成し、前記ND膜が形成された前記基材における前記基材の表面、すなわち、ND膜とは反対側の基材表面にIRカット膜を形成すること、または、ND膜が形成された前記基材における前記ND膜の表面にIRカット膜を形成することが可能である。光透過性を有する基材の表面の全領域にND膜を形成することは、フィルタ全面をND膜で覆うということと同義である。本発明において、前記ND膜が、前記基材の表面において部分的に形成されることはない。
また、必要に応じ、基材、ND膜、IRカット膜の各間に、その他の、例えば反射防止膜(AR膜)等の機能膜を形成することも可能である。要は、IRカット機能付きNDフィルタにおいて、最終的に形成されるフィルタの全面にわたって、前記ND膜が形成されていること、及び、当該ND膜においてその光透過率が、ある一点から他の一点に向かって漸次変化するような透過率勾配を有することが本発明の特徴である。換言すると、ND膜に濃度勾配がある、ということである。同じ濃度の材料を使用する場合、濃度勾配のあるND膜において、濃度が濃い部分は膜厚が厚く、濃度が薄い部分は膜厚が薄い。
ここで、光の透過率が、フィルタ中央部に対応する基材中央部に対応する部分が最も低く、周囲に向かって放射方向に徐々に高くなるような、透過率勾配を有することが好適である。また、基材の一側に対応する一側から基材の他側に対応する他側に向かって一方向に透過率勾配を有するようにしてもよい。いずれにせよ、基材表面の全領域にND膜を形成してあるので、光透過率が100%の部分は一切無く、また、光透過率に勾配があるので、ある部分から別の部分に移行するにつれ、明度が徐々に変わる、いわゆるグラデーションが生じる。
(2)本発明はまた、前記基材は、平板状であり、前記ND膜は、前記基材の両面側に全域に形成され、前記IRカット膜は、前記基材のいずれか一方の面側に形成されることを特徴とし、
前記各ND膜は、透過率勾配の変化する方向性が一致していることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
前記各ND膜は、透過率勾配の変化する方向性が一致していることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(3)本発明はまた、上記構成において、光の反射を調節するためのAR膜(反射防止膜)を有することを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(4)本発明はまた、前記基材の厚みは、3.0mm以下であり、適宜利用形態に従い選択されるが、薄型のフィルタを構成する場合、300μm以下であるように設計することもできる。
(5)本発明はまた、前記ND膜は、誘電体膜を有する基材側誘電体層と、金属膜からなる金属層と、前記基材側誘電体層よりも可視光領域における消衰係数が高く、かつ誘電体膜を有する反基材側誘電体層と、を前記基材側から順に積層して構成されることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(6)本発明はまた、前記基材側誘電体層は、複数の前記誘電体膜を有し、互いに異なる材質の前記誘電体膜同士が隣接するように積層して構成されることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(7)本発明はまた、前記反基材側誘電体層は、互いに異なる材質の複数の前記誘電体膜を有することを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(8)本発明はまた、前記反基材側誘電体層は、前記基材側誘電体層に含まれる材質よりも可視光領域における消衰係数の高い材質から構成される高消衰膜を含むことを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(9)本発明はまた、前記高消衰膜は、窒化金属または酸化金属から構成されることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(10)本発明はまた、前記高消衰膜は、前記金属膜を構成する金属の窒化物または酸化物から構成されることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(11)本発明はまた、前記金属膜を構成する材質は、モル比で50%以上となるチタン、クロムまたはニッケルのいずれかであることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(12)本発明はまた、前記基材側誘電体層は、基材側第1誘電体膜、基材側第2誘電体膜、および基材側第3誘電体膜を、前記基材側から順に積層して構成され、前記反基材側誘電体層は、反基材側第1誘電体膜、および反基材側第2誘電体膜を、前記基材側から順に積層して構成されることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(13)本発明はまた、前記反基材側誘電体層は、前記反基材側第1誘電体膜と前記反基材側第2誘電体膜の間に、前記基材側誘電体層に含まれる材質よりも可視光領域における消衰係数の高い材質から構成される高消衰膜を有することを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(14)本発明はまた、前記基材側第1誘電体膜、前記基材側第3誘電体膜、および前記反基材側第2誘電体膜は、第1の材質から構成され、前記基材側第2誘電体膜および前記反基材側第1誘電体膜は、前記第1の材質とは異なる第2の材質から構成されることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(15)先に反射防止膜(AR膜)等の機能膜を形成することができる旨を述べたが、その例として、本発明では、さらに、前記基材の表面全面に光の反射を調節するAR膜を設け、そのAR膜の上全面に前記可視光の透過光量を調節するND膜を形成し、前記AR膜は、可視光領域における屈折率が前記基材よりも低い低屈折率層と、可視光領域における屈折率が前記低屈折率層よりも高い高屈折率層と、を有し、前記高屈折率層は、前記低屈折率層よりも前記基材側に位置することを特徴とする、IRカット機能付きNDフィルタとすることができる。
(16)本発明はまた、光透過性を有する基材と、前記基材の表面に形成されて光の反射を調節するAR膜と、前記AR膜の上に形成されて可視光の透過光量を調節するND膜と、を備え、前記AR膜は、可視光領域における屈折率が前記基材よりも低い低屈折率層の単層から構成されることを特徴とする、IRカット機能付きNDフィルタである。
(17)本発明はまた、前記低屈折率層は、前記ND膜に隣接する位置に設けられることを特徴とする、上記記載のIRカット機能付きNDフィルタである。
(18)本発明はまた、前記ND膜は、前記AR膜に隣接する最下層の可視光領域における屈折率が前記低屈折率層よりも高いことを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(19)本発明はまた、前記ND膜は、前記AR膜に隣接する最下層の波長550nmにおける屈折率が、1.45乃至1.8の範囲内であることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(20)本発明はまた、前記ND膜は、前記AR膜に隣接する最下層の波長550nmにおける光学膜厚が、0.2乃至0.4の範囲内であることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(21)本発明はまた、前記ND膜は、前記AR膜に隣接する最下層が、低級酸化物を含む酸化物からなる層であることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(22)本発明はまた、前記ND膜は、前記最下層が、低級酸化物を含むシリコン酸化物からなる層であることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(23)本発明はまた、前記ND膜は、前記最下層に隣接する層が金属または金属の低級酸化物からなる層であることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(24)本発明はまた、前記金属は、チタンであることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(25)本発明はまた、前記AR膜および前記ND膜の反対側から入射する光の反射率が、波長555nmにおいて2%以下であることを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタである。
(26)なお、以上説明した各構成要素は、適宜組み合わせて利用できる。
(26)なお、以上説明した各構成要素は、適宜組み合わせて利用できる。
本発明に係るIRカット機能付きNDフィルタは、ND膜が全面を覆い、その光透過率に勾配を設けているので、透過率の低いところと透過率の高いところとを選択的に使用することができ、しかも、選択的に使用する際に、その両者間の光透過率の変化、ひいては、受光素子が受ける光量の急激な変化を避けることができ、電気信号変換がカバーしきれなくなり、一瞬、画像が暗く、または明るくなってしまうとう現象を抑えることができる。
以下、図面を参照して本発明の実施の形態の例について詳細に説明する。
図1に示したように、この実施例のIRカット機能付きNDフィルタは、PET(ポリエチレンテレフタレート)からなる板状の基材と、その上面全面に形成したND膜と、基材下面全面に形成したIRカット膜とからなる。
図1に示したように、この実施例のIRカット機能付きNDフィルタは、PET(ポリエチレンテレフタレート)からなる板状の基材と、その上面全面に形成したND膜と、基材下面全面に形成したIRカット膜とからなる。
また、必要に応じ、基材、ND膜、IRカット膜の各間に、その他の、機能膜を形成することも可能である。
要は、IRカット機能付きNDフィルタにおいて、最終的に形成されるフィルタの全面にわたって、前記ND膜が形成されていること、及び、当該ND膜においてその光透過率が、ある一点から他の一点に向かって漸次変化するような透過率勾配を有することが本発明の特徴である。換言すると、ND膜に濃度勾配がある、ということである。
要は、IRカット機能付きNDフィルタにおいて、最終的に形成されるフィルタの全面にわたって、前記ND膜が形成されていること、及び、当該ND膜においてその光透過率が、ある一点から他の一点に向かって漸次変化するような透過率勾配を有することが本発明の特徴である。換言すると、ND膜に濃度勾配がある、ということである。
なお、さらに必要に応じて、反射防止膜をいずれかの膜間に設けることも可能である。
図2に、他の実施例を示す。ここでは、実施例1と異なり、基材上面に、IRカット膜を形成し、さらにその上にND膜を形成した例である。他は実施例1と同様である。
図2に、他の実施例を示す。ここでは、実施例1と異なり、基材上面に、IRカット膜を形成し、さらにその上にND膜を形成した例である。他は実施例1と同様である。
これら実施例に共通することであるが、ND膜とIRカット膜とが基板とともに一体となっているので、それぞれを別体のフィルタとして形成した場合に比較して、部品としての厚さを薄くでき、フィルタを設置するスペースを小さくでき、また、全体のコストを低減できる。さらには、反対面に設置されているIRカット膜が干渉膜の反射タイプである場合、その強力な反射をND膜で減衰させることができ、赤いゴースト・フレアを減少させることも期待できる。
さらに、ND膜が全面に成膜されていない場合、露出している基板の表面反射(4〜5%)が、光学特性に悪影響を及ぼすが、本例では、基板全面をND膜が覆うので、そのような弊害を防止することが可能である。
次に、本フィルタの製造方法を図3に従い説明する。
スパッタ装置において、赤外線カット機能を有する基板(基材+IRカット膜)の表面(図3基材側面)に対し、所定間隔をおいて、これを覆うようにマスキング治具を配置する。マスキング治具には所定径の穴が穿設されており、この穴から、基板(基材)表面に向けて、ND膜原料の粒子が飛ばされる。穴の周辺近くを飛ぶ粒子は、回折現象により、穴の中心から外側に向かって放射状に分散するので、基板には、穴に対応する部分を中心として、放射状に外に向かって積層量に勾配ができる。すなわち、図3に示したように、穴に対応する基板中央部分のND膜厚が厚く、外に向かって徐々に薄くなっていくので、結果として、光透過率が外に放射状に徐々に高くなるND膜が形成される。
スパッタ装置において、赤外線カット機能を有する基板(基材+IRカット膜)の表面(図3基材側面)に対し、所定間隔をおいて、これを覆うようにマスキング治具を配置する。マスキング治具には所定径の穴が穿設されており、この穴から、基板(基材)表面に向けて、ND膜原料の粒子が飛ばされる。穴の周辺近くを飛ぶ粒子は、回折現象により、穴の中心から外側に向かって放射状に分散するので、基板には、穴に対応する部分を中心として、放射状に外に向かって積層量に勾配ができる。すなわち、図3に示したように、穴に対応する基板中央部分のND膜厚が厚く、外に向かって徐々に薄くなっていくので、結果として、光透過率が外に放射状に徐々に高くなるND膜が形成される。
マスキング治具の穴径は基板径(完成したフィルタの基板径、すなわちフィルタ径)の1/4〜1/2が望ましく、さらに成膜時に基板とマスキング治具を、穴径と同程度の距離を保つことが望ましい。
製造にあたって、図示したように、基板を大きめにしてその表面に、ND膜を形成した後、その後、基板ごと必要サイズに成型、カットする。これにより、基板全面にND膜を形成することができる。
次に、上記例で使用する基材、ND膜、IR膜についてさらに詳細に説明する。
基材10を構成する材質は、NDフィルタ1の用途に応じた波長の光を透過する材質であれば特に限定されるものではないが、肉眼で透明であるものがよく、本実施形態では、PET(PolyEthylene Terephthalate)シートを使用している。基材10の厚みは、特に限定されるものではないが、NDフィルタ1が組み込まれる各種装置のコンパクト化のためには、可能な限り薄く構成することが好ましい。具体的には、基材10の厚みは、300μm以下であることが好ましく、175μm以下であればより好ましく、100μm以下であることが最も好ましい。用途によっては、もっと厚く、3.0mm以下、300μm以上であってもよい。
基材10を構成する材質は、NDフィルタ1の用途に応じた波長の光を透過する材質であれば特に限定されるものではないが、肉眼で透明であるものがよく、本実施形態では、PET(PolyEthylene Terephthalate)シートを使用している。基材10の厚みは、特に限定されるものではないが、NDフィルタ1が組み込まれる各種装置のコンパクト化のためには、可能な限り薄く構成することが好ましい。具体的には、基材10の厚みは、300μm以下であることが好ましく、175μm以下であればより好ましく、100μm以下であることが最も好ましい。用途によっては、もっと厚く、3.0mm以下、300μm以上であってもよい。
ND膜20は、NDフィルタ1を透過する可視光領域(波長が凡そ400〜700nmの範囲)の光を略平坦に消衰させるための薄膜であり、複数の誘電体および金属等からなる膜を積層して構成されている。なお、本実施形態では、ND膜20を基材10の両面に形成することにより、ND膜20を反射防止膜としても機能させるようにしている。
なお、ND膜20は、真空蒸着、イオンビームアシスト、イオンプレーティング、およびスパッタリング等のドライプロセスによって基材10の表面に形成されるが、これらの成膜手法は既知の手法であるため、ここでは説明を省略する。また、ND膜20の構成の詳細については後述する。
IRC膜(IRカット膜)22は、NDフィルタ1を透過する赤外線(波長が凡そ700nm以上)を消衰(吸収)または反射してカットするための薄膜である。IRC膜22の構成は、特に限定されるものではなく、赤外線を消衰または反射する各種材質からなる既知の構成を採用することができる。従って、IRC膜22は、例えば、TiO2、SiO2、またはZrO2等の金属化合物を積層して構成した薄膜であってもよいし、赤外線吸収能力を備える各種無機材料や有機材料のコーティング膜であってもよい。
本実施形態では、光学膜厚が凡そ1/4〜2/4程度(λ=550nm)のSiO2膜とTiO2膜を交互に積層した39層構成の積層膜からIRC膜22を構成している。また、IRC膜22は、ND膜20と同様に、真空蒸着、イオンビームアシスト、イオンプレーティング、およびスパッタリング等のドライプロセスによって形成される。
図4は、本実施形態のIRC膜22の透過率Tを示したグラフである。同図に示されるように、本実施形態のIRC膜22によれば、可視光を透過させつつ、赤外線を効率的に反射してカットすることが可能となっている。
なお、本実施形態のように厚膜のIRC膜22を基材10に形成する場合、基材10に反り(カーリング)が生じることとなるが、反りが生じた基材10にスパッタリング等のドライプロセスによってND膜20を形成しようとすると、基材10表面の各部において成膜距離に差が生じることとなり、膜厚を適切に制御することが困難となる。
このため、本実施形態では、先にNDフィルタ20を基材10に形成し、その後IRC膜22をND膜20の上に形成するようにしている。換言すれば、本実施形態では、NDフィルタ20が形成された基材10にIRC膜22を形成するようにしている。
ND膜20において可視光領域における透過率Tを適切に設定すると共に、透過率Tの平坦性を高めるためには、積層膜であるND膜20を構成する各層が適切な膜厚で形成される必要がある。特に、ND膜20を構成する各層の膜厚はIRC膜22に比して非常に薄く、膜厚誤差が品質に大きく影響するため、ND膜20の形成においては高精度な膜厚制御が要求されることとなる。
従って、本実施形態では、ND膜20を先に形成、すなわちカーリング等の変形のない基材10にND膜20を形成することで、ND膜20を構成する各層の膜厚を高精度に制御することを可能としている。そしてこれにより、本実施形態のNDフィルタ1では、IRカット機能を備えながらも、可視光領域における透過率の平坦性を従来以上に高めることを可能としている。さらに、本実施形態によれば、基材10の厚みを従来以上に薄膜化することが可能であり、具体的には基材10の厚みを100μm以下にすることも可能となっている。
なお、ND膜20は一般的には10層程度(本実施形態では、7層)であり、IRC膜22よりも薄膜であることからカーリングの発生は少なく、ND膜20の後に形成されるIRC膜22の膜厚制御に与える影響は少ないものとなっている。さらに、本実施形態では、基材10の両面にND膜20を形成しているため、カーリングがより生じにくいものとなっている。
次に、ND膜20の詳細について説明する。
図5は、本実施形態のND膜20の構成を示した概略図である。ND膜20は、基材側誘電体層30と、金属の膜からなる金属層40と、反基材側誘電体層50と、を基材10側から順に積層して構成されている。すなわち、ND膜20は、金属層40を基材側電体層30および反基材側誘電体層50で挟んだ構成となっている。
本実施形態では、金属膜からなり光を消衰させる金属層40を、光を干渉させる基材側誘電体層30および反基材誘電体層50によって挟むことにより、光の反射率Rを低減しつつ、光の透過率Tを可視光領域の略全域にわたって略平坦にすることを可能としている。
特に、基材側誘電体層30および反基材側誘電体層50を、異なる材質からなる複数の誘電体膜からそれぞれ構成すると共に、反基材側誘電体層50の光の消衰係数(光の消衰能力)を基材側誘電体層30よりも高く設定することで、透過率Tを可視光領域において従来以上に平坦化させることを可能としている。
基材側誘電体層30は、基材10側から順に、基材側第1誘電体膜31、基材側第2誘電体膜32、および基材側第3誘電体膜33を積層して構成されている。このように、3つの誘電体からなる膜を積層して金属層40の基材10側に配置することで、可視光領域における透過率Tを従来以上に平坦化することができる。
基材側第1誘電体膜31、基材側第2誘電体膜32、および基材側第3誘電体膜33を構成する材質は、特に限定されるものではなく、SiO2(二酸化ケイ素、シリカ)、SiN(窒化ケイ素)、AL2O3(酸化アルミニウム、アルミナ)、MgF2(フッ化マグネシウム)、およびTiO2(二酸化チタン)等、誘電体膜として従来使用されている材質を使用することができる。
なお、ND膜20における光の透過率Tおよび反射率Rを適宜に調節するためには、基材側誘電体層30において隣り合う誘電体膜が互いに異なる材質となるように積層することが好ましい。また、可視光領域における透過率Tを従来以上に平坦化するためには、互いの屈折率の差が所定の範囲内となる誘電体膜同士を隣り合わせることが好ましい。
従って、本実施形態では、基材側第1誘電体膜31および基材側第3誘電体膜33をSiO2から構成し、基材側第2誘電体膜32をSiNから構成している。また、このように、共通の金属(Si)に異なる元素(O、N)が結合した互いに異なる金属化合物から基材側第1誘電体膜31、基材側第2誘電体膜32および基材側第3誘電体膜33を構成することにより、ドライプロセスによる成膜を効率的に行うことが可能となる。すなわち、例えばスパッタリングにより成膜する場合、ターゲットを変更することなく反応ガスを変更するだけで基材側誘電体層30を構成する誘電体膜を全て形成することができる。
金属層40は、金属膜から構成されている。この金属層40の膜厚を適宜に調節することによって、NDフィルタ1における可視光の透過率Tを調節することができる。金属層40を構成する材質は、特に限定されるものではなく、Ti(チタン)、Cr(クロム)、およびNi(ニッケル)等、光吸収膜(光消衰膜)として従来使用されている金属を使用することができる。
なお、光の消衰を安定させるためには、金属層40を構成する材質は、モル比で50%以上となるTi、CrまたはNiのいずれかであることが好ましい。また、本実施形態では、金属層40をTiからなる1層の金属膜から構成しているが、複数種類の金属膜を積層して金属層40を構成するようにしてもよい。
反基材側誘電体層50は、基材10側から順に、反基材第1誘電体膜51、高消衰膜52、および反基材側第2誘電体膜53を積層して構成されている。このうち、反基材第1誘電体膜51および反基材側第2誘電体膜53は、誘電体からなる膜であり、高消衰膜52は、基材側誘電体層30に含まれる材質よりも可視光領域における消衰係数kが高い材質からなる膜である。なお、高消衰膜52は、誘電体から構成されるものであってもよいし、金属から構成されるものであってもよい。
本実施形態では、このように高消衰膜52を2つの誘電体膜51、53で挟んだ反基材側誘電体層50を金属層40の反基材10側に配置することにより、金属層40による可視光の消衰を適宜に補完し、NDフィルタ1における可視光の透過率Tを平坦化することを可能としている。すなわち、互いに異なる光特性を有する金属層40および高消衰膜52を適宜に組み合わせて併用することにより、可視光領域における透過率Tの平坦性を従来以上に高めることを可能としている。
高消衰膜52を構成する材質は、特に限定されるものではなく、Ti、Cr、およびNi等の金属や、これらの金属の酸化物または窒化物等の金属化合物を使用することができる。但し、高消衰膜52を構成する材質は、透過率Tを適宜に調節するためには、上述のように金属層40を構成する材質とは異なる材質(異なる光特性を有する材質)であることが好ましい。さらに、高消衰膜52を構成する材質を、金属層40を構成する金属の窒化物または酸化物とすれば、成膜を効率的に行うことが可能となる。従って、本実施形態では、高消衰膜52をTiN(窒化チタン)から構成している。
反基材側第1誘電体膜51および反基材側第2誘電体膜53を構成する材質は、特に限定されるものではなく、基材側誘電体層30と同様に、SiO2、SiN、AL2O3、MgF2、およびTiO2等、誘電体膜として従来使用されている材質を使用することができる。但し、可視光領域における透過率Tの平坦性を高めるためには、反基材側第1誘電体膜51および反基材側第2誘電体膜53を互いに異なる材質から構成することが好ましい。さらに、成膜を効率的に行うためには、反基材側第1誘電体膜51および反基材側第2誘電体膜53を、基材側誘電体層30と共通する材質から構成することが好ましい。従って、本実施形態では、反基材側第1誘電体膜51をSiNから構成し、反基材側第2誘電体膜53をSiO2から構成している。
図6(a)は、Tiの可視光領域における消衰係数kおよび屈折率nを示したグラフであり、同図(b)は、TiNを薄膜に形成した場合の可視光領域における消衰係数kおよび屈折率nを示したグラフであり、同図(c)は、TiNを厚膜に形成した場合の可視光領域における消衰係数kおよび屈折率nを示したグラフである。
これらの図に示されるように、TiおよびTiNは、それぞれ異なる光特性(消衰係数k、屈折率n)を有している。また、TiNについては、膜厚を変化させることによって屈折率の特性が大きく変化するようになっている。本実施形態では、このような特性に基づき、2つの異なる光消衰膜(金属層40および高消衰膜52)を併用すると共に、両者の膜厚を適宜に調節することで、可視光領域における透過率Tを従来以上に平坦化することを可能としている。
なお、金属層40および高消衰膜52の膜厚は、特に限定されるものではなく、要求される平均透過率や、金属層40および高消衰膜52を構成する材質の特性に応じて、適宜に設定することができる。また、光特性のマッチングと共に膜厚を適宜に設定すれば、他の材質の組合せによっても同様の効果を得ることが可能である。
図7(a)は、SiO2の可視光領域における消衰係数kおよび屈折率nを示したグラフであり、同図(b)は、SiNの可視光領域における消衰係数kおよび屈折率nを示したグラフである。これらの図に示されるように、SiO2およびSiNは、可視光領域における光の消衰係数が略0となっている。
従って、本実施形態では、基材側誘電体層30全体としての可視光領域消衰係数kは略0となっており、基材側誘電体層30は可視光をほとんど消衰させない(吸収しない)ように構成されている。また、反基材側誘電体層50全体としての可視光領域における消衰係数kは、高消衰膜52の可視光領域における消衰係数kと略同一となっている。
すなわち、本実施形態では、可視光領域における消衰係数kの低い(略0の)基材側誘電体層30、可視光領域における消衰係数kの高い金属層40、および可視光領域(の同一波長)における消衰係数kが基材側誘電体層30より高く、金属層40よりも低い反基材側誘電体層50を基材10側から順に積層してND膜20を構成しており、これにより、可視光領域における透過率Tの平坦性を高めることが可能となっている。
さらに本実施形態では、ND膜20を大きく分けて基材側誘電体層30、金属層40および反基材側誘電体層50の3層構成、詳細には基材側誘電体層30および反基材側誘電体層50をさらに3層構成とした7層構成とした場合において、基材側第1誘電体膜31(1層目)、基材側第2誘電体膜32(2層目)および基材側第3誘電体膜33(3層目)、ならびに反基材側第1誘電体膜51(5層目)および反基材側第2誘電体膜53(7層目)の屈折率を適宜に設定することによって可視光領域における透過率Tの平坦性をさらに高めるようにしている。
図8〜12は、ND膜20の基材側第1誘電体膜31(1層目)、基材側第3誘電体膜33(3層目)および反基材側第2誘電体膜53(7層目)の屈折率、ならびに基材側第2誘電体膜32(2層目)および反基材側第1誘電体膜51(5層目)の屈折率をそれぞれ変化させた場合のNDフィルタ1の透過率Tおよび反射率Rのシミュレーション結果の例を示したグラフである。
なお、これらの例では、1、3、7層目の屈折率nおよび2、5層目の屈折率nを波長によらずそれぞれ一定と仮定している。また、1、3、7層目および2、5層目の消衰係数kを全て0と仮定している。そして、金属層(4層目)をTiから構成し、および高消衰膜(6層目)をTiNから構成している。
これらのシミュレーション結果より、本実施形態の7層構成のND膜20では、1、3、7層目の屈折率nを1.38〜2.0の範囲内のいずれかの値に設定すると共に、2、5層目の屈折率nを1.38〜2.4の範囲内のいずれかの値に設定することにより、可視光領域における透過率Tの平坦性を30%以内にすることが可能であることが分かる。すなわち、可視光領域における透過率Tの平坦性Tflat=(Tmax−Tmin)/Tave≦0.3とすることが可能であることが分かる。ここで、Tmaxは可視光領域内における透過率Tの最大値、Tminは可視光領域内における透過率Tの最小値、Taveは可視光領域内における透過率Tの平均値である。
なお、各層に実際の材質を適用する場合には、可視光領域における代表屈折率(波長550nmにおける屈折率)nが上記範囲内となる材質を各層に適用すればよいと考えられる。
Claims (9)
- 光透過性を有する基材と、可視光の透過光量を調節するND膜と、赤外線の透過光量を調節するIRカット膜と、を積層してなるIRカット機能付きNDフィルタであり、
前記ND膜は、フィルタ全面を覆うように形成され、かつ、その光透過率が、ある一点から他の一点に向かって漸次変化するような透過率勾配を有することを特徴とするIRカット機能付きNDフィルタ。 - 前記ND膜の光透過率は、フィルタの中央部となる基材中央部に対応する部分が最も低く、周囲に向かって放射方向に徐々に高くなるような、透過率勾配を有することを特徴とする請求項1記載のIRカット機能付きNDフィルタ。
- 前記ND膜の光透過率は、基材の一側に対応する一側から基材の他側に対応する他側に向かって一方向に透過率勾配を有することを特徴とする請求項1記載のIRカット機能付きNDフィルタ。
- 前記基材は、平板状であり、前記ND膜は、前記基材の両面側に全域に形成され、前記IRカット膜は、前記基材のいずれか一方の面側に形成されることを特徴とし、
前記各ND膜は、透過率勾配の変化する方向性が一致していることを特徴とする請求項1記載のIRカット機能付きNDフィルタ。 - 前記ND膜は、誘電体膜を有する基材側誘電体層と、金属膜からなる金属層と、前記基材側誘電体層よりも可視光領域における消衰係数が高く、かつ誘電体膜を有する反基材側誘電体層と、を前記基材側から順に積層して構成されることを特徴とする、
請求項1乃至4のいずれかに記載のIRカット機能付きNDフィルタ。 - 前記基材の表面に形成されて光の反射を調節するAR膜を有し、
前記ND膜は、前記AR膜の上に形成され、
前記AR膜は、可視光領域における屈折率が前記基材よりも低い低屈折率層と、可視光領域における屈折率が前記低屈折率層よりも高い高屈折率層と、を有し、
前記高屈折率層は、前記低屈折率層よりも前記基材側に位置することを特徴とする、
請求項1乃至3いずれかに記載のIRカット機能付きNDフィルタ。 - 前記基材の表面に形成されて光の反射を調節するAR膜を有し、
前記ND膜は、前記AR膜の上に形成され、
前記AR膜は、可視光領域における屈折率が前記基材よりも低い低屈折率層の単層から構成されることを特徴とする、
請求項1乃至3いずれかに記載のIRカット機能付きNDフィルタ。 - 前記低屈折率層は、前記ND膜に隣接する位置に設けられることを特徴とする、
請求項6または7に記載のIRカット機能付きNDフィルタ。 - 前記ND膜は、前記AR膜に隣接する最下層の可視光領域における屈折率が前記低屈折率層よりも高いことを特徴とする、
請求項6乃至8のいずれかに記載のIRカット機能付きNDフィルタ。
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