JP2013149873A - ガス供給ヘッド及び基板処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 複数のガス吐出孔から構成される第1のガス孔列102aと、該第1のガス孔列102aと同一面において該第1のガス孔列102aと並列配置され、他の複数のガス吐出孔から構成される第2のガス孔列102bと、第1のガス孔列102aを構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室101aと、第2のガス孔列102bを構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室101bと、を有し、第1のガス拡散室101aと、第2のガス拡散室102bとには、異なる種類のガスが供給される。
【選択図】図3
Description
図5は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置の一変形例を示す縦断面図である。
図6(A)はガス供給ヘッドの第1の変形例を示す断面図、図6(B)は図6(A)中の矢印6Bから見た側面図である。図6(C)はガス孔列の配置の一変形例を示す側面図である。
図7はガス供給ヘッドの第2の変形例を示す水平断面図である。
図8(A)はガス供給ヘッドの第3の変形例を示す断面図、図8(B)は図8(A)中の矢印8Bから見た側面図、図9は第3の変形例に係るガス供給ヘッドの斜視図である。
その他、この発明はその要旨を逸脱しない範囲で様々に変形することができる。
Claims (7)
- 複数の種類のガスにより基板を処理する処理空間に前記複数の種類のガスを供給するガス供給ヘッドであって、
複数のガス吐出孔から構成される第1のガス孔列と、
該第1のガス孔列と同一面において該第1のガス孔列と並列配置され、他の複数のガス吐出孔から構成される第2のガス孔列と、
前記第1のガス孔列を構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室で構成される第1のガス拡散手段と、
前記第2のガス孔列を構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室で構成される第2のガス拡散手段と、を有し、
前記第1のガス拡散手段と、前記第2のガス拡散手段とには、異なる種類のガスが供給されることを特徴とするガス供給ヘッド。 - 前記第1のガス孔列は、前記第1のガス孔列を構成する複数のガス吐出孔を連結するV字形溝を有し、
前記第2のガス孔列は、前記第2のガス孔列を構成する複数のガス吐出孔を連結するV字形溝を有することを特徴とする請求項1に記載のガス供給ヘッド。 - 前記第1のガス孔列を構成するガス吐出孔と、前記第2のガス孔列を構成するガス吐出孔は、互いに隣接する位置からオフセットしていることを特徴とする請求項1に記載のガス供給ヘッド。
- 複数の種類のガスにより基板を処理する処理空間に前記複数の種類のガスを供給するガス供給ヘッドであって、
複数のガス吐出孔から構成される第1のガス孔列と、
該第1のガス孔列と同一面において該第1のガス孔列と並列配置され、他の複数のガス吐出孔から構成される第2のガス孔列と、
前記第1のガス孔列を構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室で構成される第1のガス拡散手段と、
前記第2のガス孔列を構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室で構成される第2のガス拡散手段と、
前記第1のガス孔列および前記第2のガス孔列の配置された面とは異なる面において、前記第1のガス拡散手段を構成する1または2以上のガス拡散室および前記第2のガス拡散手段を構成する1または2以上のガス拡散室のそれぞれにガスを供給するためのガス供給管と
を有することを特徴とするガス供給ヘッド。 - 複数の種類のガスにより基板を処理する処理空間に、前記複数の種類のガスを供給するガス供給機構を備えた基板処理装置であって、
該ガス供給機構は、
複数のガス吐出孔から構成される第1のガス孔列と、
該第1のガス孔列と同一面において該第1のガス孔列と並列配置され、他の複数のガス吐出孔から構成される第2のガス孔列と、
前記第1のガス孔列を構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室で構成される第1のガス拡散手段と、
前記第2のガス孔列を構成するガス吐出孔のみがそれぞれガス流路を介して連通する1または2以上のガス拡散室で構成される第2のガス拡散手段と、
前記第1のガス拡散手段と前記第2のガス拡散手段とに、それぞれ異なる種類のガスを供給するガス供給配管とを有することを特徴とする基板処理装置。 - 前記処理空間を形成する2つ以上の処理室を有し、該処理室のそれぞれに前記ガス供給機構が設けられていることを特徴とする請求項5に記載の基板処理装置。
- 前記2つ以上の処理室を収容し、前記処理室の外部を減圧雰囲気に維持する外部チャンバを、さらに有することを特徴とする請求項6に記載の基板処理装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012010528A JP5843627B2 (ja) | 2012-01-20 | 2012-01-20 | ガス供給ヘッド及び基板処理装置 |
KR1020130002780A KR101662364B1 (ko) | 2012-01-20 | 2013-01-10 | 가스 공급 헤드 및 기판 처리 장치 |
TW102100908A TWI568879B (zh) | 2012-01-20 | 2013-01-10 | Gas supply head and substrate processing device |
CN201310027371.4A CN103215568B (zh) | 2012-01-20 | 2013-01-21 | 气体供给头和基板处理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012010528A JP5843627B2 (ja) | 2012-01-20 | 2012-01-20 | ガス供給ヘッド及び基板処理装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013149873A true JP2013149873A (ja) | 2013-08-01 |
JP5843627B2 JP5843627B2 (ja) | 2016-01-13 |
Family
ID=48813706
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012010528A Active JP5843627B2 (ja) | 2012-01-20 | 2012-01-20 | ガス供給ヘッド及び基板処理装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5843627B2 (ja) |
KR (1) | KR101662364B1 (ja) |
CN (1) | CN103215568B (ja) |
TW (1) | TWI568879B (ja) |
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DE102016101003A1 (de) | 2016-01-21 | 2017-07-27 | Aixtron Se | CVD-Vorrichtung mit einem als Baugruppe aus dem Reaktorgehäuse entnehmbaren Prozesskammergehäuse |
Families Citing this family (1)
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CN115627456A (zh) * | 2022-11-14 | 2023-01-20 | 浙江晶越半导体有限公司 | 提升碳化硅沉积质量及沉积速率均一性的方法及反应器 |
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-
2012
- 2012-01-20 JP JP2012010528A patent/JP5843627B2/ja active Active
-
2013
- 2013-01-10 KR KR1020130002780A patent/KR101662364B1/ko active IP Right Grant
- 2013-01-10 TW TW102100908A patent/TWI568879B/zh active
- 2013-01-21 CN CN201310027371.4A patent/CN103215568B/zh active Active
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR101662364B1 (ko) | 2016-10-04 |
CN103215568B (zh) | 2017-04-12 |
JP5843627B2 (ja) | 2016-01-13 |
CN103215568A (zh) | 2013-07-24 |
KR20130085963A (ko) | 2013-07-30 |
TWI568879B (zh) | 2017-02-01 |
TW201341578A (zh) | 2013-10-16 |
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Legal Events
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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