JP2013139428A - アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法 - Google Patents

アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法 Download PDF

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直輝 三浦
Kohei Seki
航平 関
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Abstract

【課題】アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの新規な製造方法を提供する。
【解決手段】アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法であって、シリカを含む担体に、第１族金属元素を含む化合物、第２族金属元素を含む化合物、第１族金属元素及び第２族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種が担持されてなる触媒の存在下に、ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を脱水反応させることを特徴とする。
【選択図】なし

Description

本発明は、アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンを製造する方法に関する。
アセチレン結合を有する化合物は、例えば、アルキルメタクリレートの製造用原料として有用であり、例えば、触媒の存在下、一酸化炭素及びアルコール化合物をプロピンと反応させてアルキルメタクリレートを製造する方法が知られている（例えば特許文献１）。また、ジエンは、ブタジエンに代表されるように合成ゴムの製造用原料として有用であり、例えば、ブタジエンとスチレンとを共重合し、ジエン系重合体ゴムを製造する方法が知られている（例えば特許文献２）。
アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法としては、例えば、オレフィン類製造設備（スチームクラッキング法）において、ナフサの熱分解によりエチレン、プロピレンと共にプロピン等のアセチレン結合を有する化合物やプロパジエン、ブタジエン等のジエンを得る方法が知られている。すなわち、ナフサをスチームと共に加熱分解炉に導入し、得られた炭化水素類を急冷した後、精留塔に導き、塔底部よりタール、塔側部よりガスオイル、塔頂部より炭化水素類を得る方法において、アセチレン結合を有する化合物やジエンは塔頂留分の一部として得られる。
しかしながら、アセチレン結合を有する化合物やジエンはエチレン、プロピレンと共に得られる生成物であるため、ナフサの熱分解プラントの稼働状況に応じてその供給量は変動するため、安定的に供給されないという懸念がある。そのため、スチームクラッキング法以外でアセチレン結合を有する化合物やジエンを製造できる技術が必要とされている。
かかる状況下において、アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法として、例えば、特許文献３及び４には、酸化鉄及び酸化ニッケルを活性炭に担持した触媒又は活性炭に担持した水酸化鉄を焼成した触媒の存在下に、１，２−ジクロロプロパンからプロピンを製造する方法が提案され、特許文献５には、アルミナ触媒、あるいはアルミナに白金、酸化クロム又は希土類元素が担持されてなる触媒の存在下に、アセトンからプロパジエン及びプロピンを製造する方法が提案され、特許文献６には、複合酸化物触媒の存在下に、ブテンの酸化脱水素反応を行うことによりブタジエンを製造する方法が提案されている。
特開２００７−２６９７０７号公報 特開２００３−２４６８１６号公報 東独国特許出願公開第２４０７４０号明細書 東独国特許出願公開第２４０７４１号明細書 米国特許第４３０１３１９号明細書 特開２０１２−７７０７６号公報
本発明の目的は、アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの新規な製造方法を提供することにある。
かかる状況下、本発明者らは、鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明は、以下の構成からなる。
（１）シリカを含む担体に、第１族金属元素を含む化合物、第２族金属元素を含む化合物、第１族金属元素及び第２族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種が担持されてなる触媒の存在下に、下記式（Ｉ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１及びＲ２は一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
Ｒ１及びＲ３は一緒になって、Ｒ１及びＲ３が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物〔以下、ケトン化合物（Ｉ）ということがある〕、下記式（ＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物〔以下、ケトン化合物（ＩＩ）ということがある〕、下記式（ＩＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１０は、水素原子又はフェニル基を表す。）
で示される化合物〔以下、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）ということがある〕、下記式（ＩＶ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１３は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示される化合物〔以下、アルデヒド化合物（ＩＶ）ということがある〕及び下記式（Ｖ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示される化合物〔以下、アルデヒド化合物（Ｖ）ということがある〕からなる群より選ばれる少なくとも一種を脱水反応させることを特徴とするアセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法。
（２）前記触媒が、シリカを含む担体に第１族金属元素を含む化合物及び第１族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種が担持されてなる触媒である前記（１）に記載の製造方法。
（３）前記触媒が、シリカを含む担体に第１族金属元素を含む化合物が担持されてなる触媒であり、第１族金属元素を含む化合物が、第１族金属元素のハロゲン化物、第１族金属元素の炭酸塩、第１族金属元素の酸化物、第１族金属元素の水酸化物及び第１族金属元素のケイ酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種である前記（２）に記載の製造方法。
（４）第１族金属元素が、ナトリウム、カリウム、ルビジウム又はセシウムである前記（３）に記載の製造方法。
（５）式（Ｉ）で示される化合物がアセトンである前記（１）〜（４）のいずれかに記載の製造方法。
（６）式（ＩＩ）で示される化合物が２−ブタノンである前記（１）〜（５）のいずれかに記載の製造方法。
（７）式（ＩＶ）で示される化合物がプロパナールである前記（１）〜（６）のいずれかに記載の製造方法。
（８）前記担体が、シリカからなるものである前記（１）〜（７）のいずれかに記載の製造方法。
本発明によれば、アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの新規な製造方法を提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。本発明の製造方法に用いる触媒は、シリカを含む担体に、第１族金属元素を含む化合物、第２族金属元素を含む化合物、第１族金属元素及び第２族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種〔以下、金属成分ということがある。〕が担持されてなる触媒である。第１族金属元素を含む化合物、第２族金属元素を含む化合物、第１族金属元素及び第２族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種の中でも、アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンが高い選択率で得られる点で、第１族金属元素を含む化合物及び第１族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種が好ましく、第１族金属元素を含む化合物がより好ましい。
第１族金属元素を含む化合物としては、リチウム化合物、ナトリウム化合物、カリウム化合物、ルビジウム化合物、セシウム化合物が挙げられ、中でも、アセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンが高い選択率で得られる点で、ナトリウム化合物、カリウム化合物、ルビジウム化合物、セシウム化合物が好ましい。第１族金属元素を含む化合物の中でも、第１族金属元素のハロゲン化物、第１族金属元素の炭酸塩、第１族金属元素の酸化物、第１族金属元素の水酸化物、第１族金属元素のケイ酸塩が好ましく、第１族金属元素のハロゲン化物、第１族金属元素の酸化物、第１族金属元素の水酸化物、第１族金属元素のケイ酸塩がより好ましい。第１族金属元素のハロゲン化物の中でも、第１族金属元素の塩化物が好ましい。
リチウム化合物としては、フッ化リチウム（ＬｉＦ）、塩化リチウム（ＬｉＣｌ）、臭化リチウム（ＬｉＢｒ）、ヨウ化リチウム（ＬｉＩ）等のハロゲン化リチウム、炭酸リチウム（Ｌｉ２ＣＯ３）、炭酸水素リチウム（ＬｉＨＣＯ３）、硫酸リチウム（Ｌｉ２ＳＯ４）、硫酸水素リチウム（ＬｉＨＳＯ４）、亜硫酸リチウム（Ｌｉ２ＳＯ３）、亜硫酸水素リチウム（ＬｉＨＳＯ３）、硝酸リチウム（ＬｉＮＯ３）、亜硝酸リチウム（ＬｉＮＯ２）、チオ硫酸リチウム（Ｌｉ２Ｓ２Ｏ３）、ケイ酸リチウム（Ｌｉ２Ｏ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸三リチウム（Ｌｉ３ＰＯ４）、ホウ酸リチウム（Ｌｉ３ＢＯ３）、次亜塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ）、亜塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ２）、塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ３）、過塩素酸リチウム（ＬｉＣｌＯ４）等のオキソ酸塩、酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ）、過酸化リチウム（Ｌｉ２Ｏ２）、水酸化リチウム（ＬｉＯＨ）等の酸化物及び水酸化物、酢酸リチウム（ＣＨ３ＣＯＯＬｉ）、クエン酸リチウム等の有機酸塩、水素化リチウム（ＬｉＨ）、硫化リチウム（Ｌｉ２Ｓ）、硫化水素リチウム（水硫化リチウム）（ＬｉＨＳ）、水素化ホウ素リチウム（ＬｉＢＨ４）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
ナトリウム化合物としては、フッ化ナトリウム（ＮａＦ）、塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）、臭化ナトリウム（ＮａＢｒ）、ヨウ化ナトリウム（ＮａＩ）等のハロゲン化ナトリウム、炭酸ナトリウム（Ｎａ２ＣＯ３）、炭酸水素ナトリウム（ＮａＨＣＯ３）、硫酸ナトリウム（Ｎａ２ＳＯ４）、硫酸水素ナトリウム（ＮａＨＳＯ４）、亜硫酸ナトリウム（Ｎａ２ＳＯ３）、亜硫酸水素ナトリウム（ＮａＨＳＯ３）、硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ３）、亜硝酸ナトリウム（ＮａＮＯ２）、チオ硫酸ナトリウム（Ｎａ２Ｓ２Ｏ３）、ケイ酸ナトリウム（Ｎａ２Ｏ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸三ナトリウム（Ｎａ３ＰＯ４）、ホウ酸ナトリウム（Ｎａ３ＢＯ３）、次亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ）、亜塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ２）、塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ３）、過塩素酸ナトリウム（ＮａＣｌＯ４）等のオキソ酸塩、酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ）、過酸化ナトリウム（Ｎａ２Ｏ２）、水酸化ナトリウム（ＮａＯＨ）等の酸化物及び水酸化物、酢酸ナトリウム（ＣＨ３ＣＯＯＮａ）、クエン酸ナトリウム等の有機酸塩、水素化ナトリウム（ＮａＨ）、硫化ナトリウム（Ｎａ２Ｓ）、硫化水素ナトリウム（水硫化ナトリウム）（ＮａＨＳ）、水素化ホウ素ナトリウム（ＮａＢＨ４）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
カリウム化合物としては、フッ化カリウム（ＫＦ）、塩化カリウム（ＫＣｌ）、臭化カリウム（ＫＢｒ）、ヨウ化カリウム（ＫＩ）等のハロゲン化カリウム、炭酸カリウム（Ｋ２ＣＯ３）、炭酸水素カリウム（ＫＨＣＯ３）、硫酸カリウム（Ｋ２ＳＯ４）、硫酸水素カリウム（ＫＨＳＯ４）、亜硫酸カリウム（Ｋ２ＳＯ３）、亜硫酸水素カリウム（ＫＨＳＯ３）、硝酸カリウム（ＫＮＯ３）、亜硝酸カリウム（ＫＮＯ２）、チオ硫酸カリウム（Ｋ２Ｓ２Ｏ３）、ケイ酸カリウム（Ｋ２Ｏ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸三カリウム（Ｋ３ＰＯ４）、ホウ酸カリウム（Ｋ３ＢＯ３）、次亜塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ）、亜塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ２）、塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ３）、過塩素酸カリウム（ＫＣｌＯ４）等のオキソ酸塩、酸化カリウム（Ｋ２Ｏ）、過酸化カリウム（Ｋ２Ｏ２）、水酸化カリウム（ＫＯＨ）等の酸化物及び水酸化物、酢酸カリウム（ＣＨ３ＣＯＯＫ）、クエン酸カリウム等の有機酸塩、水素化カリウム（ＫＨ）、硫化カリウム（Ｋ２Ｓ）、硫化水素カリウム（水硫化カリウム）（ＫＨＳ）、水素化ホウ素カリウム（ＫＢＨ４）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
ルビジウム化合物としては、フッ化ルビジウム（ＲｂＦ）、塩化ルビジウム（ＲｂＣｌ）、臭化ルビジウム（ＲｂＢｒ）、ヨウ化ルビジウム（ＲｂＩ）等のハロゲン化ルビジウム、炭酸ルビジウム（Ｒｂ２ＣＯ３）、炭酸水素ルビジウム（ＲｂＨＣＯ３）、硫酸ルビジウム（Ｒｂ２ＳＯ４）、硫酸水素ルビジウム（ＲｂＨＳＯ４）、亜硫酸ルビジウム（Ｒｂ２ＳＯ３）、亜硫酸水素ルビジウム（ＲｂＨＳＯ３）、硝酸ルビジウム（ＲｂＮＯ３）、亜硝酸ルビジウム（ＲｂＮＯ２）、チオ硫酸ルビジウム（Ｒｂ２Ｓ２Ｏ３）、ケイ酸ルビジウム（Ｒｂ２Ｏ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸三ルビジウム（Ｒｂ３ＰＯ４）、ホウ酸ルビジウム（Ｒｂ３ＢＯ３）、次亜塩素酸ルビジウム（ＲｂＣｌＯ）、亜塩素酸ルビジウム（ＲｂＣｌＯ２）、塩素酸ルビジウム（ＲｂＣｌＯ３）、過塩素酸ルビジウム（ＲｂＣｌＯ４）等のオキソ酸塩、酸化ルビジウム（Ｒｂ２Ｏ）、過酸化ルビジウム（Ｒｂ２Ｏ２）、水酸化ルビジウム（ＲｂＯＨ）等の酸化物及び水酸化物、酢酸ルビジウム（ＣＨ３ＣＯＯＲｂ）、クエン酸ルビジウム等の有機酸塩、水素化ルビジウム（ＲｂＨ）、硫化ルビジウム（Ｒｂ２Ｓ）、硫化水素ルビジウム（水硫化ルビジウム）（ＲｂＨＳ）、水素化ホウ素ルビジウム（ＲｂＢＨ４）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
セシウム化合物としては、フッ化セシウム（ＣｓＦ）、塩化セシウム（ＣｓＣｌ）、臭化セシウム（ＣｓＢｒ）、ヨウ化セシウム（ＣｓＩ）等のハロゲン化セシウム、炭酸セシウム（Ｃｓ２ＣＯ３）、炭酸水素セシウム（ＣｓＨＣＯ３）、硫酸セシウム（Ｃｓ２ＳＯ４）、硫酸水素セシウム（ＣｓＨＳＯ４）、亜硫酸セシウム（Ｃｓ２ＳＯ３）、亜硫酸水素セシウム（ＣｓＨＳＯ３）、硝酸セシウム（ＣｓＮＯ３）、亜硝酸セシウム（ＣｓＮＯ２）、チオ硫酸セシウム（Ｃｓ２Ｓ２Ｏ３）、ケイ酸セシウム（Ｃｓ２Ｏ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸三セシウム（Ｃｓ３ＰＯ４）、ホウ酸セシウム（Ｃｓ３ＢＯ３）、次亜塩素酸セシウム（ＣｓＣｌＯ）、亜塩素酸セシウム（ＣｓＣｌＯ２）、塩素酸セシウム（ＣｓＣｌＯ３）、過塩素酸セシウム（ＣｓＣｌＯ４）等のオキソ酸塩、酸化セシウム（Ｃｓ２Ｏ）、過酸化セシウム（Ｃｓ２Ｏ２）、水酸化セシウム（ＣｓＯＨ）等の酸化物及び水酸化物、酢酸セシウム（ＣＨ３ＣＯＯＣｓ）、クエン酸セシウム等の有機酸塩、水素化セシウム（ＣｓＨ）、硫化セシウム（Ｃｓ２Ｓ）、硫化水素セシウム（水硫化セシウム）（ＣｓＨＳ）、水素化ホウ素セシウム（ＣｓＢＨ４）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
第２族金属元素を含む化合物としては、マグネシウム化合物、カルシウム化合物、ストロンチウム化合物、バリウム化合物が挙げられ、中でも、バリウム化合物が好ましい。
マグネシウム化合物としては、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ２）、臭化マグネシウム（ＭｇＢｒ２）、ヨウ化マグネシウム（ＭｇＩ２）等のハロゲン化マグネシウム、炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ３）、硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ４）、亜硫酸マグネシウム（ＭｇＳＯ３）、硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ３）２）、亜硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ２）２）、チオ硫酸マグネシウム（ＭｇＳ２Ｏ３）、ケイ酸マグネシウム（ＭｇＯ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸マグネシウム（ＭｇＨＰＯ４）、ホウ酸マグネシウム（ＭｇＢ２Ｏ４）等のオキソ酸塩、酸化マグネシウム（ＭｇＯ）、過酸化マグネシウム（ＭｇＯ２）、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）２）等の酸化物及び水酸化物、酢酸マグネシウム（Ｍｇ（ＣＨ３ＣＯＯ）２）、クエン酸マグネシウム等の有機酸塩、水素化マグネシウム（ＭｇＨ２）、硫化マグネシウム（ＭｇＳ）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
カルシウム化合物としては、フッ化カルシウム（ＣａＦ２）、塩化カルシウム（ＣａＣｌ２）、臭化カルシウム（ＣａＢｒ２）、ヨウ化カルシウム（ＣａＩ２）などのハロゲン化カルシウム、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）、硫酸カルシウム（ＣａＳＯ４）、亜硫酸カルシウム（ＣａＳＯ３）、硝酸カルシウム（Ｃａ（ＮＯ３）２）、亜硝酸カルシウム（Ｃａ（ＮＯ２）２）、チオ硫酸カルシウム（ＣａＳ２Ｏ３）、ケイ酸カルシウム（ＣａＯ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸カルシウム（ＣａＨＰＯ４）、ホウ酸カルシウム（ＣａＢ２Ｏ４）等のオキソ酸塩、酸化カルシウム（ＣａＯ）、過酸化カルシウム（ＣａＯ２）、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）等の酸化物及び水酸化物、酢酸カルシウム（Ｃａ（ＣＨ３ＣＯＯ）２）、クエン酸カルシウム等の有機酸塩、水素化カルシウム（ＣａＨ２）、硫化カルシウム（ＣａＳ）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
ストロンチウム化合物としては、フッ化ストロンチウム（ＳｒＦ２）、塩化ストロンチウム（ＳｒＣｌ２）、臭化ストロンチウム（ＳｒＢｒ２）、ヨウ化ストロチウム（ＳｒＩ２）等のハロゲン化ストロンチウム、炭酸ストロンチウム（ＳｒＣＯ３）、硫酸ストロンチウム（ＳｒＳＯ４）、亜硫酸ストロンチウム（ＳｒＳＯ３）、硝酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＮＯ３）２）、亜硝酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＮＯ２）２）、チオ硫酸ストロンチウム（ＳｒＳ２Ｏ３）、ケイ酸ストロンチウム（ＳｒＯ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸ストロンチウム（ＳｒＨＰＯ４）、ホウ酸ストロンチウム（ＳｒＢ２Ｏ４）等のオキソ酸塩、酸化ストロンチウム（ＳｒＯ）、過酸化ストロンチウム（ＳｒＯ２）、水酸化ストロンチウム（Ｓｒ（ＯＨ）２）等の酸化物及び水酸化物、酢酸ストロンチウム（Ｓｒ（ＣＨ３ＣＯＯ）２）、クエン酸ストロンチウム等の有機酸塩、水素化ストロンチウム（ＳｒＨ２）、硫化ストロンチウム（ＳｒＳ）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
バリウム化合物としては、フッ化バリウム（ＢａＦ２）、塩化バリウム（ＢａＣｌ２）、臭化バリウム（ＢａＢｒ２）、ヨウ化ストロチウム（ＢａＩ２）等のハロゲン化バリウム、炭酸バリウム（ＢａＣＯ３）、硫酸バリウム（ＢａＳＯ４）、亜硫酸バリウム（ＢａＳＯ３）、硝酸バリウム（Ｂａ（ＮＯ３）２）、亜硝酸バリウム（Ｂａ（ＮＯ２）２）、チオ硫酸バリウム（ＢａＳ２Ｏ３）、ケイ酸バリウム（ＢａＯ・ｎＳｉＯ２、ｎ＝１〜４［モル比］）、リン酸バリウム（ＢａＨＰＯ４）、ホウ酸バリウム（ＢａＢ２Ｏ４）等のオキソ酸塩、酸化バリウム（ＢａＯ）、過酸化バリウム（ＢａＯ２）、水酸化バリウム（Ｂａ（ＯＨ）２）等の酸化物及び水酸化物、酢酸バリウム（Ｂａ（ＣＨ３ＣＯＯ）２）、クエン酸バリウム等の有機酸塩、水素化バリウム（ＢａＨ２）、硫化バリウム（ＢａＳ）等が挙げられ、それらの水和物が存在する場合は水和物も用いることができる。また、必要に応じて、それらの２種以上を用いてもよい。
前記触媒において、第１族金属元素が担持されてなる場合、第１族金属元素としては、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが挙げられ、中でも、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウムが好ましい。前記触媒において、第２族金属元素が担持されてなる場合、第２族金属元素としては、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウム、バリウム化合物が挙げられ、中でも、バリウムが好ましい。
前記触媒においては、シリカを含む担体を使用する。前記担体においては、シリカ以外に、チタニア、ジルコニア、酸化ニオブ、酸化スズ等の酸化物が含まれていてもよい。前記担体は、シリカ単独の担体、すなわちシリカからなる担体であってもよいし、シリカとシリカ以外の酸化物との複合酸化物であってもよいし、シリカとシリカ以外の酸化物との混合物であってもよいが、特に、シリカからなる担体が好ましい。
前記触媒において、シリカを含む担体に金属成分を担持させる方法としては、含浸法、共沈法、混練法等が挙げられる。前記触媒は、例えば、金属成分を含浸法、共沈法又は混練法等により担体に担持させ、５０℃〜１０００℃で熱処理することにより調製することができる。また、担持した金属成分を酸化して担持酸化物として用いることもできる。また、担持した金属成分を還元して担持金属触媒として用いることもできる。酸化は、例えば、担体に金属成分を担持した後、酸化性ガスの雰囲気下で焼成することにより行われる。酸化性ガスとは、酸化性物質を含むガスであり、例えば、酸素含有ガスが挙げられる。その酸素濃度は通常１〜３０容量％程度である。この酸素源としては、通常、空気や純酸素が用いられ、必要に応じて不活性ガスで希釈される。酸化性ガスは、中でも、空気が好ましい。酸化における焼成温度は、通常１００〜１０００℃、好ましくは２００〜８００℃である。還元は、例えば、担体に金属成分を担持した後、還元性ガスの雰囲気下で焼成することにより行われる。還元性ガスとは、還元性物質を含むガスであり、例えば、水素含有ガス、一酸化炭素含有ガス、炭化水素含有ガス等が挙げられる。その水素、一酸化炭素又は炭化水素の濃度としては、通常、１〜３０容量％程度であり、例えば、不活性ガスや水蒸気で濃度調整される。還元性ガスは、中でも、水素含有ガス、一酸化炭素含有ガスが好ましい。また、還元における焼成温度は、通常、１００〜１０００℃、好ましくは２００〜８００℃である。
前記触媒における金属成分の担持量は、触媒総量に対して、金属元素の重量として０．０１〜３０重量％が好ましく、より好ましくは０．１〜２０重量％、さらに好ましくは０．１〜１５重量％である。２種以上の金属元素が含まれる場合、金属元素の合計含有量が、前記触媒において上記範囲となればよい。
前記触媒のＢＥＴ比表面積は、好ましくは１〜８００ｍ２／ｇ、より好ましくは１〜４００ｍ２／ｇである。ＢＥＴ比表面積が１ｍ２／ｇより小さいと、担持した金属成分の分散度が低下するおそれがある。また、ＢＥＴ比表面積が８００ｍ２／ｇより大きいと、触媒の熱安定性が低下するおそれがある。ここで、ＢＥＴ比表面積は、窒素吸着法を原理とする比表面積測定装置を用いて測定して得られる値である。
前記触媒の細孔容積としては、好ましくは０．０５〜２．５ｍｌ／ｇ、より好ましくは０．１〜１．５ｍｌ／ｇである。細孔容積が０．０５ｍｌ／ｇより小さいと、細孔径が小さくなりすぎて活性が低くなるおそれがある。また、細孔容積が２．５ｍｌ／ｇより大きいと、担体の強度が低下して触媒が劣化し易くなるおそれがある。尚、細孔容積は、水銀圧入法で測定して得られる値である。
前記触媒は、好ましくは成形体として使用される。その形状としては、例えば、球形粒状、円柱状、ペレット状、押出形状、リング形状、ハニカム状あるいは成形後に粉砕分級した適度の大きさの顆粒状等が挙げられる。成形体は、使用される反応方式に合わせて形状が選択され、例えば、固定床反応の触媒として使用する場合は、上述の各種形状の成形体が使用される。この際、成形体の直径としては５ｍｍ以下であることが好ましい。成形体の直径が大きすぎると、脱水反応の転化率が低くなることがある。成形体の直径の下限は特に制限はないが、過度に小さくなると、触媒層での圧力損失が大きくなるため、通常は０．５ｍｍ以上のものが用いられる。また、流動床反応や移動床反応の触媒として使用する場合は、平均粒径１〜１０００μｍ程度の球形粒状の成形体が好ましく使用され、特に流動床反応においては平均粒径１０〜５００μｍの球形粒状の成形体が好ましく使用される。なお、ここでいう成形体の直径とは、球形粒状では球の直径、円柱状では円形断面の直径、その他の形状では断面の最大直径を意味する。
前記触媒の存在下に、ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を脱水反応させる。
ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）において、炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。尚、炭素数３〜６のアルキル基の場合は、全ての構造異性体を含む。例えば、プロピル基の場合は、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基を含み、ブチル基の場合は、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基を含む。
ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）において、炭素数３〜６のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）において、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、メチルシクロプロピル基、メチルシクロブチル基、メチルシクロペンチル基、メチルシクロヘキシル基、メチルシクロオクチル基、エチルシクロヘキシル基、トリメチルシクロヘキシル基、エチルシクロオクチル基等が挙げられる。
ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）において、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基としては、例えば、シクロプロピルメチル基、シクロブチルメチル基、シクロペンチルメチル基、シクロヘキシルメチル基、シクロオクチルメチル基、シクロヘキシルエチル基、シクロオクチルエチル基等が挙げられる。
ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）において、炭素数７〜１０のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、トリルメチル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
ケトン化合物（Ｉ）において、Ｒ１及びＲ２が一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成する場合、その環は５〜１５員環の脂環式炭化水素が好ましく、より好ましくは５〜８員環の脂環式炭化水素である。炭素数５〜１５の環としては、例えば、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、シクロペンタデカン環等が挙げられる。
ケトン化合物（Ｉ）において、Ｒ２及びＲ４が一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、及び、Ｒ１及びＲ３が一緒になって、Ｒ１及びＲ３が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合のそれぞれにおいて、炭素数３〜１３の環は３〜１３員環の脂環式炭化水素が好ましく、より好ましくは３〜８員環の脂環式炭化水素である。炭素数３〜１３の環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、シクロトリデカン環等が挙げられる。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基又はフェニル基を表す場合、ケトン化合物（Ｉ）としては、例えば、アセトン、１，３−ジフェニル−２−プロパノン等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ２は一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す場合、ケトン化合物（Ｉ）としては、例えば、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロオクタノン等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、ケトン化合物（Ｉ）としては、例えば、１−シクロプロピルエタノン、１−シクロプロピル−１−プロパノン、１−シクロヘキシル−１−プロパノン等が挙げられる。
Ｒ１及びＲ３は一緒になって、Ｒ１及びＲ３が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、ケトン化合物（Ｉ）としては、例えば、ジシクロプロピルケトン、ジシクロヘキシルケトン等が挙げられる。
ケトン化合物（Ｉ）を脱水反応させることにより、下記式（ＶＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるジエンが得られる。また、ケトン化合物（Ｉ）において、Ｒ３が水素原子である場合、すなわち、下記式（Ｉａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１及びＲ２は一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成し、Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＶＩ’）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１及びＲ２は一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成し、Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＶＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１及びＲ２は一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成し、Ｒ４は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。
ケトン化合物（Ｉ）の中でも、アセトンを使用する場合に、高い選択率でプロピン及び／又はプロパジエンが得られる点で、本発明の方法は有利に採用される。
ケトン化合物（ＩＩ）において、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、及び、Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合のそれぞれにおいて、炭素数３〜１３の環は３〜１３員環の脂環式炭化水素が好ましく、より好ましくは３〜８員環の脂環式炭化水素である。炭素数３〜１３の環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、シクロトリデカン環等が挙げられる。
Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す場合、ケトン化合物（ＩＩ）としては、例えば、２−ブタノン、２−ペンタノン、３−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、４−メチル−２−ペンタノン、４−メチル−３−ペンタノン、２，５−ジメチル−３−ヘキサノン、５−シクロヘキシル−４−メチル−３−ヘキサノン、３−メチル−４−フェニル−２−ブタノン等が挙げられる。
Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、ケトン化合物（ＩＩ）としては、例えば、１−シクロプロピル−２−プロパノン、１−シクロヘキシル−２−プロパノン等が挙げられる。
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す場合、ケトン化合物（ＩＩ）としては、例えば、１−シクロヘキシル−２，３，３−トリフェニル−１−プロパノン等が挙げられる。
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、ケトン化合物（ＩＩ）としては、例えば、１，２−ジシクロヘキシルエタノン等が挙げられる。
ケトン化合物（ＩＩ）を脱水反応させることにより、下記式（ＶＩＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＩＸ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるジエンが得られる。また、ケトン化合物（ＩＩ）において、Ｒ５が水素原子である場合、すなわち、下記式（ＩＩａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＶＩＩＩａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン、下記式（ＩＸａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン及び／又は下記式（Ｘ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。また、ケトン化合物（ＩＩ）において、Ｒ７が水素原子である場合、すなわち、下記式（ＩＩｂ）
Figure 2013139428
（式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＶＩＩＩｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン、下記式（ＩＸｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＸＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。ケトン化合物（ＩＩ）において、Ｒ５及びＲ７が水素原子である場合、すなわち、下記式（ＩＩｃ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＶＩＩＩｃ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン、下記式（ＩＸｃ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン、下記式（Ｘ’）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物及び／又は下記式（ＸＩ’）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ６、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。
ケトン化合物（ＩＩ）の中でも、２−ブタノンを使用する場合に、高い選択率で１，３−ブタジエン、１，２−ブタジエン、１−ブチン及び／又は２−ブチンが得られる点で、本発明の方法は有利に採用される。
アルデヒド化合物（ＩＩＩ）としては、アセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒドが挙げられる。アルデヒド化合物（ＩＩＩ）を脱水反応させることにより、下記式（ＸＩＩ）
Figure 2013139428
 （Ｒ１０は、前記と同じ意味を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。
アルデヒド化合物（ＩＶ）において、Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、その環は３〜１３員環の脂環式炭化水素が好ましく、より好ましくは３〜８員環の脂環式炭化水素である。炭素数３〜１３の環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、シクロトリデカン環等が挙げられる。
Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子又はフェニル基を表す場合、アルデヒド化合物（ＩＶ）としては、例えば、プロパナール、３−フェニルプロパナール等が挙げられる。
Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１３は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す場合、アルデヒド化合物（ＩＶ）としては、例えば、シクロプロピルアセトアルデヒド、シクロヘキシルアセトアルデヒド等が挙げられる。
アルデヒド化合物（ＩＶ）を脱水反応させることにより、下記式（ＸＩＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。また、アルデヒド化合物（ＩＶ）において、Ｒ１３が水素原子である場合、すなわち、下記式（ＩＶａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＸＩＩＩａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物及び／又は下記式（ＸＩＶ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ独立して、水素原子又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエンが得られる。また、アルデヒド化合物（ＩＶ）において、Ｒ１１がフェニル基であり、Ｒ１２及びＲ１３が水素原子である場合、すなわち、下記式（ＩＶｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１は、フェニル基を表す。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＸＩＩＩｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１は、フェニル基を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物、下記式（ＸＩＶｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１は、フェニル基を表す。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＸＶ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１１は、フェニル基を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られ、アルデヒド化合物（ＩＶ）において、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３が水素原子である場合には、プロピン及び／又はプロパジエンが得られる。
アルデヒド化合物（ＩＶ）の中でも、プロパナールを使用する場合に、高い選択率でプロピン及び／又はプロパジエンが得られる点で、本発明の方法は有利に採用される。
アルデヒド化合物（Ｖ）において、Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する場合、その環は３〜１３員環の脂環式炭化水素が好ましく、より好ましくは３〜８員環の脂環式炭化水素である。炭素数３〜１３の環としては、例えば、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロオクタン環、シクロトリデカン環等が挙げられる。
Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す場合、アルデヒド化合物（Ｖ）としては、例えば、ブタナール、ペンタナール、３−メチルブタナール、３，３−ジメチルブタナール等が挙げられる。
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す場合、アルデヒド化合物（Ｖ）としては、例えば、３−シクロヘキシルプロパナール、３−フェニル−３−シクロヘキシルプロパナール等が挙げられる。
アルデヒド化合物（Ｖ）を脱水反応させることにより、下記式（ＸＶＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ前記と同じ意味を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。また、アルデヒド化合物（Ｖ）において、Ｒ１８が水素原子である場合、すなわち、下記式（Ｖａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＸＶＩａ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物及び／又は下記式（ＸＶＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるジエンが得られる。また、アルデヒド化合物（Ｖ）において、Ｒ１６及びＲ１８が水素原子である場合、すなわち、下記式（Ｖｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＸＶＩｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物、下記式（ＸＶＩＩｂ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＸＶＩＩＩ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるジエンが得られる。また、アルデヒド化合物（Ｖ）において、Ｒ１７及びＲ１８が水素原子である場合、すなわち、下記式（Ｖｃ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＸＶＩｃ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物、下記式（ＸＶＩＩｃ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＸＩＸ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４、Ｒ１５及びＲ１６は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。また、アルデヒド化合物（Ｖ）において、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８が水素原子である場合、すなわち、下記式（Ｖｄ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示される化合物である場合には、下記式（ＸＶＩｄ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物、下記式（ＸＶＩＩｄ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン、下記式（ＸＶＩＩＩｄ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるジエン及び／又は下記式（ＸＩＸｄ）
Figure 2013139428
 （式中、Ｒ１４及びＲ１５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
で示されるアセチレン結合を有する化合物が得られる。
脱水反応においては、反応系内に、原料であるケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも一種とともに、水蒸気、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、エタン、エチレン、アセチレン、プロパン、プロピレン、プロピン、プロパジエン、ブタン、ブテン、ブチン、イソブチレン、ブタジエン、窒素等が存在してもよい。
脱水反応において、反応温度は、通常２００〜１２００℃、好ましくは２５０〜１０００℃、より好ましくは４００〜８００℃である。反応温度が２００℃よりも低いと触媒の活性が低下するおそれがあり、一方、反応温度が１２００℃よりも高いと触媒の活性劣化を引き起こすおそれがある。
脱水反応において、反応圧力は、０．００１〜５ＭＰａ、好ましくは０．００５〜０．３ＭＰａである。反応圧力が０．００１ＭＰａより低いと生産性が低くなるおそれがあり、５ＭＰａより高いと反応における平衡転化率が低くなるおそれがある。
本発明の反応方式としては、固定床方式、流動床方式、移動床方式等の各種の方式で実施することができるが、固定床又は流動床方式が好ましい。触媒は単独で使用してもよいし、反応に実質的に不活性な物質と希釈、混合して使用してもよい。
なお、反応を固定床方式で行う場合、ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む原料ガスの供給速度は、触媒１Ｌあたりの原料ガス供給速度（Ｌ／ｈ；０℃、０．１ＭＰａ換算）、すなわちＧＨＳＶ（Gas Hourly Space Velocity）で表して、１〜２００００ｈ−１、好ましくは１０〜１００００ｈ−１である。ケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも一種を含む原料ガス中のケトン化合物（Ｉ）、ケトン化合物（ＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＩＩ）、アルデヒド化合物（ＩＶ）及びアルデヒド化合物（Ｖ）からなる群より選ばれる少なくとも一種の濃度は、生産性及び触媒活性を考慮して適宜設定される。
以上、本発明にかかる好ましい実施形態について示したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で変更や改良したものにも適用できることは言うまでもない。
以下、実施例を挙げて本発明を詳細に説明するが、本発明は以下の実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の実施例中、ガスの供給速度である（ｍｌ／分）は、特別に断らない限り、０℃、０．１ＭＰａの換算値である。
実施例１
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化カリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．０９５ｇを純水７．６３ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化カリウム含有量：０．９４重量％）を得た。
＜触媒充填＞
外径４ｍｍの温度計鞘管が設けられた内径１４ｍｍの石英製の反応管の下部に石英ウールを仕切り剤として充填し、ついで得られた触媒０．４８ｇ（体積１．２ｍＬ）を反応管上部より充填した。
＜脱水反応＞
触媒充填済みの反応管を電気炉で加熱し、反応管入口から窒素ガスを１５６ｍｌ／分の速度で反応管内に供給しながら、反応管を昇温した。
そして、アセトン〔式（Ｉ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４が水素原子である化合物〕（和光純薬工業（株）製）をガス吸収ビンに仕込み、０℃に冷却した後、該ガス吸収ビンに３２ｍｌ／分の速度で窒素ガスを供給して、窒素ガスをアセトンに流通させることにより得られるアセトンを同伴させた窒素ガスを、昇温時の供給窒素ガス１５６ｍｌ／分に加えて反応管入口から供給し（アセトン供給速度：０．００８８ｍｏｌ／ｈ、供給ガス中のアセトン濃度：１．７体積％）、反応圧力０．１ＭＰａにて反応を開始した。触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）は９５６４ｈ−１であった。
反応開始後、触媒層の温度を６００℃±２℃に維持し、反応開始から９０分経過した時点で、反応器出口ガスをテドラーバッグに捕集し、ＴＣＤ検出器を有するガスクロマトグラフィー及びＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、各生成物を定量した。一旦サンプリングを終了した後、次いで、モノクロロベンゼンの入ったトラップを２段用いて、アセトン及び高沸点成分を吸収し、１段目、２段目の吸収液をＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、アセトン及び高沸点成分を定量した。結果を表１に示した。
ここで、アセトンの転化率（％）は、以下の式（ｉ）を用いて算出した。
アセトンの転化率（％）＝［ｂ／ａ］×１００ （ｉ）
ａ：アセトンの供給速度（ｍｏｌ／ｈ）
ｂ：反応管出口ガスにおける全生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）
なお、アセトンの供給速度は供給開始から終了までのガス吸収ビンの重量変化から計算した。
また、各生成物の選択率（％）は、以下の式（ｉｉ）を用いて算出した。
各生成物の選択率（％）＝〔各生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）÷全生成物の合計生成速度（ｍｏｌ／ｈ）〕×１００ （ｉｉ）
ここで、生成物とは、プロピン、プロパジエン、プロパン、プロピレン、メタン、エタン、エチレン、イソブチレン、一酸化炭素、及び二酸化炭素をいう。
実施例２
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化カリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．２９ｇを純水８．１６ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化カリウム含有量：２．８重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例３
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化カリウム〔和光純薬工業（株）製〕１．０４ｇを純水８．２５ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化カリウム含有量：９．４重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例４
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化セシウム〔和光純薬工業（株）製〕０．２２ｇを純水９．８８ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化セシウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化セシウム含有量：２．２重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例５
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化ナトリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．０７５ｇを純水９．４２ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化ナトリウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化ナトリウム含有量：０．７４重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例６
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化ルビジウム〔和光純薬工業（株）製〕０．１３ｇを純水９．７７ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化ルビジウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化ルビジウム含有量：１．３重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例７
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化リチウム〔和光純薬工業（株）製〕０．０５４ｇを純水９．８７ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化リチウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化リチウム含有量：０．５４重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例８
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、塩化バリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．３１ｇを純水９．８６ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化バリウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化バリウム含有量：３．０重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
実施例９
＜触媒の製造＞
実施例２＜触媒の製造＞と同様の方法で、塩化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化カリウム含有量：２．８重量％）を得た。
＜触媒充填＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１＜触媒充填＞と同様の方法で触媒の充填を行った。
＜脱水反応＞
触媒充填済みの反応管を電気炉で加熱し、反応管入口から窒素ガスを１７３．５ｍｌ／分の速度で反応管内に供給しながら、反応管を昇温した。
そして、アセトン（和光純薬工業（株）製）をガス吸収ビンに仕込み、０℃に冷却した後、該ガス吸収ビンに１７３．５ｍｌ／分の速度で窒素ガスを供給して、窒素ガスをアセトンに流通させることにより得られるアセトンを同伴させた窒素ガスを、昇温時の供給窒素ガスに代えて反応管入口から供給し（アセトン供給速度：０．０４８ｍｏｌ／ｈ、供給ガス中のアセトン濃度：９．３体積％）、反応圧力０．１ＭＰａにて反応を開始した。触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）は９５６４ｈ−１であった。
反応開始後、触媒層の温度を６００℃±２℃に維持し、反応開始から９０分経過した時点で、反応器出口ガスをテドラーバッグに捕集し、ＴＣＤ検出器を有するガスクロマトグラフィー及びＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、各生成物を定量した。一旦サンプリングを終了した後、次いで、モノクロロベンゼンの入ったトラップを２段用いて、アセトン及び高沸点成分を吸収し、１段目、２段目の吸収液をＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、アセトン及び高沸点成分を定量した。結果を表１に示した。
実施例１０
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体１０．０ｇに、炭酸カリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．２７ｇを純水１０．０ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から４００℃まで１．１時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、炭酸カリウムがシリカに担持されてなる触媒（炭酸カリウム含有量：２．６重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例９と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
比較例１
＜触媒の製造＞
シリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、シリカ触媒を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表１に示した。
比較例２
＜触媒の製造＞
γ−アルミナ球（２〜４ｍｍ球）〔住友化学（株）製、ＧＯ−２４〕を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、アルミナ触媒を得た。
＜触媒充填＞
外径４ｍｍの温度計鞘管が設けられた内径１４ｍｍの石英製の反応管の下部に石英ウールを仕切り剤として充填し、ついで得られた触媒０．４８ｇ（体積０．７１ｍＬ）を反応管上部より充填した。
＜脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１と同様の方法で反応を行った。結果を表１に示した。触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）は１６１６４ｈ−１であった。
Figure 2013139428
表１に示すとおり、金属成分がシリカに担持されてなる触媒を使用した実施例１〜１０では、金属成分が担持されていないシリカ又はアルミナを触媒として使用した比較例１及び２と比較して、プロピン及びプロパジエンの合計選択率が高いことがわかる。
実施例１１
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体２０．０ｇに、ケイ酸カリウム溶液〔和光純薬工業（株）製、Ｋ２Ｏ・３．９ＳｉＯ２の水溶液、Ｋ２Ｏ・３．９ＳｉＯ２含有量２８．１重量％〕４．５４ｇを純水２６．５ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から２００℃まで０．５時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、ケイ酸カリウムがシリカに担持されてなる触媒（ケイ酸カリウム含有量：６．０重量％）を得た。
＜触媒充填＞
外径４ｍｍの温度計鞘管が設けられた内径１４ｍｍの石英製の反応管の下部に石英ウールを仕切り剤として充填し、ＳｉＣを７．１ｍＬ充填後、さらに石英ウールを仕切り剤として充填し、ついで得られた触媒２．４ｇ（体積５．９ｍＬ）を充填後、さらに石英ウールを仕切り剤として充填し、ついでＳｉＣを１２．７ｍＬ充填した。
＜脱水反応＞
触媒充填済みの反応管の入口から窒素ガスを２．７ｍｌ／分の速度で反応管内に供給しながら、ダイヤフラムポンプを用いて反応管内を０．０１ＭＰａ以下に減圧した後、反応管を電気炉で加熱し、昇温した。
そして、液状のアセトン（和光純薬工業（株）製）をポンプにて反応管の入口から供給してガス化させ（アセトンガス流量：３４．２ｍｌ／分、アセトン供給速度：０．０９２ｍｏｌ／ｈ、供給ガス中のアセトン濃度：９２．７体積％）、反応圧力０．００８ＭＰａにて反応を開始した。触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）は３７５ｈ−１であった。
反応開始後、触媒層の温度を５９８℃±４℃に維持し、反応開始から６０分経過した時点で、反応器出口ガスをガスタイトシリンジにて採取し、ＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、さらに、反応器出口ガスをサンプリングループに充填後、ＴＣＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにてオンライン分析することにより、各生成物を定量した。次いで、反応管出口に接続したＳＵＳ製のトラップをエタノール／ドライアイス浴で冷却し、アセトン及び高沸点成分を凝縮させて回収した後、得られた凝縮液をＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、アセトン及び高沸点成分を定量した。結果を表２に示した。
ここで、アセトンの転化率（％）は、以下の式（ｉｉｉ）を用いて算出した。
アセトンの転化率（％）＝［ｄ／（ｃ＋ｄ）］×１００ （ｉｉｉ）
ｃ：反応器出口ガスにおけるアセトン流量（ｍｏｌ／ｈ）
ｄ：反応管出口ガスにおける全生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）
また、各生成物の選択率（％）は、以下の式（ｉｖ）を用いて算出した。
各生成物の選択率（％）＝〔各生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）÷全生成物の合計生成速度（ｍｏｌ／ｈ）〕×１００ （ｉｖ）
ここで、生成物とは、プロピン、プロパジエン、メタン、エタン、エチレン、プロピレン、プロパン、イソブチレン、２−メチル−１−ペンテン−３−イン、２−ヘキセン−４−イン、４−メチル−３−ペンテン−２−オン、４−メチル−４−ペンテン−２−オン、２−メチルフラン、メチルシクロペンタジエン、３，５，５−トリメチル−２−シクロヘキセン−１−オン、フェノール、メチルフェノール、３，５−ジメチルフェノール、一酸化炭素及び二酸化炭素をいう。
実施例１２
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体３０．２ｇに、メタケイ酸ナトリウム〔和光純薬工業（株）製、Ｎａ２ＳｉＯ３（Ｎａ２Ｏ・ＳｉＯ２）〕０．７１ｇを純水３０．０ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から２００℃まで０．５時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、メタケイ酸ナトリウムがシリカに担持されてなる触媒（メタケイ酸ナトリウム含有量：２．３重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表２に示した。
実施例１３
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体３２．６ｇに、水酸化カリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．７１ｇを純水３２．６ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から２００℃まで０．５時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、水酸化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（水酸化カリウム含有量：２．１重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を２．４ｇ（体積６．２ｍＬ）用い、アセトンガス流量を２５．６ｍｌ／分（アセトン供給速度：０．０６９ｍｏｌ／ｈ、供給ガス中のアセトン濃度：９０．５体積％、触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）：２５７ｈ−１）としたこと以外は、実施例１１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表２に示した。
実施例１４
＜触媒の製造＞
担体にシリカ粉末〔東ソー・シリカ（株）製、ＥＲ−Ｒ〕を用いた。担体３２．０ｇに、水酸化カリウム〔和光純薬工業（株）製〕０．７０ｇを純水５８．５ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、プレス成型し、空気流通下、室温から２００℃まで０．５時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、水酸化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（水酸化カリウム含有量：２．１重量％）を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を２．４ｇ（体積６．７ｍＬ）用いた以外は、実施例１１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表２に示した。
比較例３
＜触媒の製造＞
シリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、シリカ触媒を得た。
＜触媒充填、脱水反応＞
上記で得られた触媒を用いた以外は、実施例１１と同様の方法で触媒の充填及び反応を行った。結果を表２に示した。
Figure 2013139428
実施例１５
＜触媒の製造＞
実施例１４＜触媒の製造＞と同様の操作で水酸化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（水酸化カリウム含有量：２．１重量％）を得た。
＜触媒充填＞
外径４ｍｍの温度計鞘管が設けられた内径１４ｍｍの石英製の反応管の下部に石英ウールを仕切り剤として充填し、ＳｉＣを７．１ｍＬ充填後、さらに石英ウールを仕切り剤として充填し、ついで得られた触媒２．４ｇ（体積６．７ｍＬ）を充填後、さらに石英ウールを仕切り剤として充填し、ついでＳｉＣを１２．７ｍＬ充填した。
＜脱水反応＞
触媒充填済みの反応管を電気炉で加熱し、反応管入口から窒素ガスを１８９ｍｌ／分の速度で反応管内に供給しながら、反応管を昇温した。
そして、２−ブタノン〔式（ＩＩ）中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９が水素原子である化合物〕（和光純薬工業（株）製）をガス吸収ビンに仕込み、０℃に冷却した後、該ガス吸収ビンに１８９ｍｌ／分の速度で窒素ガスを供給して、窒素ガスを２−ブタノンに流通させることにより得られる２−ブタノンを同伴させた窒素ガスを、昇温時の供給窒素ガスに代えて反応管入口から供給し（２−ブタノン供給速度：０．０１７ｍｏｌ／ｈ、供給ガス中の２−ブタノン濃度：３．２体積％）、反応圧力０．１ＭＰａにて反応を開始した。触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）は１７４７ｈ−１であった。
反応開始後、触媒層の温度を５５０℃±３℃に維持し、反応開始から６０分経過した時点で、反応器出口ガスをテドラーバッグに捕集し、ＴＣＤ検出器を有するガスクロマトグラフィー及びＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、各生成物を定量した。一旦サンプリングを終了した後、次いで、アセトニトリルの入ったトラップを２段用いて、２−ブタノン及び高沸点成分を吸収し、１段目、２段目の吸収液をＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、２−ブタノン及び高沸点成分を定量した。結果を表３に示した。
ここで、２−ブタノンの転化率（％）は、以下の式（ｖ）を用いて算出した。
２−ブタノンの転化率（％）＝［ｆ／ｅ］×１００ （ｖ）
ｅ：２−ブタノンの供給速度（ｍｏｌ／ｈ）
ｆ：反応管出口ガスにおける全生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）
なお、２−ブタノンの供給速度は供給開始から終了までのガス吸収ビンの重量変化から計算した。
また、各生成物の選択率（％）は、以下の式（ｖｉ）を用いて算出した。
各生成物の選択率（％）＝〔各生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）÷全生成物の合計生成速度（ｍｏｌ／ｈ）〕×１００ （ｖｉ）
ここで、生成物とは、１，３−ブタジエン、１，２−ブタジエン、１−ブチン、２−ブチン、プロピン、プロパジエン、プロパン、プロピレン、メタン、エタン、エチレン、イソブチレン、一酸化炭素及び二酸化炭素をいう。
実施例１６
＜触媒の製造＞
実施例１４＜触媒の製造＞と同様の操作で水酸化カリウムがシリカに担持されてなる触媒（水酸化カリウム含有量：２．１重量％）を得た。
＜触媒充填＞
実施例１５＜触媒充填＞と同様の操作で触媒の充填を行った。
＜脱水反応＞
触媒層の温度を６００℃±９℃に維持したこと以外は、実施例１５と同様の方法で反応を行った。結果を表３に示した。
Figure 2013139428
実施例１７
＜触媒の製造＞
担体にシリカ球（１．７〜４．０ｍｍ球）〔富士シリシア化学（株）製、Ｑ−５０〕を用いた。担体３０．０ｇに、塩化セシウム〔和光純薬工業（株）製〕０．６６ｇを純水３０．０ｇに溶解して調製した水溶液を含浸させ、２０〜３０℃で１５時間以上風乾した。得られた固体を、空気流通下、室温から２００℃まで０．５時間かけて昇温した後、同温度で２時間保持して焼成した。次いで、得られた焼成物を、０．８５〜１．４ｍｍの顆粒状に破砕し、塩化セシウムがシリカに担持されてなる触媒（塩化セシウム含有量：２．１重量％）を得た。
＜触媒充填＞
外径４ｍｍの温度計鞘管が設けられた内径１４ｍｍの石英製の反応管の下部に石英ウールを仕切り剤として充填し、ついで得られた触媒２．４ｇ（体積６．４ｍＬ）を反応管上部より充填した。
＜脱水反応＞
触媒充填済みの反応管を電気炉で加熱し、反応管入口から窒素ガスを４２ｍｌ／分の速度で反応管内に供給しながら、反応管を昇温した。
そして、プロパナール〔式（ＩＶ）中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３が水素原子である化合物〕（和光純薬工業（株）製）をガス吸収ビンに仕込み、０℃に冷却した後、該ガス吸収ビンに１３２ｍｌ／分の速度で窒素ガスを供給して、窒素ガスをプロパナールに流通させることにより得られるプロパナールを同伴させた窒素ガスを、昇温時の供給窒素ガス４２ｍｌ／分に加えて反応管入口から供給し（プロパナール供給速度：０．０５７ｍｏｌ／ｈ、供給ガス中のプロパナール濃度：１０．９体積％）、反応圧力０．１ＭＰａにて反応を開始した。触媒体積に対する全ガス流量の比（ＧＨＳＶ）は１８８６ｈ−１であった。
反応開始後、触媒層の温度を６００℃±４℃に維持し、反応開始から６０分経過した時点で、反応器出口ガスをテドラーバッグに捕集し、ＴＣＤ検出器を有するガスクロマトグラフィー及びＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、各生成物を定量した。一旦サンプリングを終了した後、次いで、水の入ったトラップを２段用いて、プロパナール及び高沸点成分を吸収し、１段目、２段目の吸収液をＦＩＤ検出器を有するガスクロマトグラフィーにて分析し、プロパナール及び高沸点成分を定量した。結果を表４に示した。
ここで、プロパナールの転化率（％）は、以下の式（ｖｉｉ）を用いて算出した。
プロパナールの転化率（％）＝［ｈ／ｇ］×１００ （ｖｉｉ）
ｇ：プロパナールの供給速度（ｍｏｌ／ｈ）
ｈ：反応管出口ガスにおける全生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）
なお、プロパナールの供給速度は供給開始から終了までのガス吸収ビンの重量変化から計算した。
また、各生成物の選択率（％）は、以下の式（ｖｉｉｉ）を用いて算出した。
各生成物の選択率（％）＝〔各生成物の生成速度（ｍｏｌ／ｈ）÷全生成物の合計生成速度（ｍｏｌ／ｈ）〕×１００ （ｖｉｉｉ）
ここで、生成物とは、プロピン、プロパジエン、メタン、エタン、エチレン、プロパン、アセチレン、プロピレン、イソブチレン、一酸化炭素、二酸化炭素及び高沸点成分をいう。
Figure 2013139428

Claims (8)

  1. シリカを含む担体に、第１族金属元素を含む化合物、第２族金属元素を含む化合物、第１族金属元素及び第２族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種が担持されてなる触媒の存在下に、下記式（Ｉ）
    Figure 2013139428
     （式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
    Ｒ１及びＲ２は一緒になって、Ｒ１が結合する炭素原子と、Ｒ２が結合する炭素原子と、それらの炭素原子が結合する炭素原子と共に炭素数５〜１５の環を形成し、Ｒ３及びＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
    Ｒ１及びＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
    Ｒ１及びＲ３は一緒になって、Ｒ１及びＲ３が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ２及びＲ４は一緒になって、Ｒ２及びＲ４が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
    で示される化合物、下記式（ＩＩ）
    Figure 2013139428
     （式中、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
    Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成するか、あるいは
    Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は、それぞれ独立して、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
    Ｒ５及びＲ６は一緒になって、Ｒ５及びＲ６が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ７は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表し、Ｒ８及びＲ９は一緒になって、Ｒ８及びＲ９が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成する。）
    で示される化合物、下記式（ＩＩＩ）
    Figure 2013139428
     （式中、Ｒ１０は、水素原子又はフェニル基を表す。）
    で示される化合物、下記式（ＩＶ）
    Figure 2013139428
     （式中、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立して、水素原子又はフェニル基を表すか、あるいは
    Ｒ１１及びＲ１２は一緒になって、Ｒ１１及びＲ１２が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１３は、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
    で示される化合物及び下記式（Ｖ）
    Figure 2013139428
     （式中、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表すか、あるいは
    Ｒ１４及びＲ１５は一緒になって、Ｒ１４及びＲ１５が結合する炭素原子と共に炭素数３〜１３の環を形成し、Ｒ１６、Ｒ１７及びＲ１８は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数３〜６のシクロアルキル基、炭素数４〜１０のアルキルシクロアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキルアルキル基、炭素数７〜１０のアラルキル基又はフェニル基を表す。）
    で示される化合物からなる群より選ばれる少なくとも一種を脱水反応させることを特徴とするアセチレン結合を有する化合物及び／又はジエンの製造方法。
  2. 前記触媒が、シリカを含む担体に第１族金属元素を含む化合物及び第１族金属元素からなる群より選ばれる少なくとも一種が担持されてなる触媒である請求項１に記載の製造方法。
  3. 前記触媒が、シリカを含む担体に第１族金属元素を含む化合物が担持されてなる触媒であり、第１族金属元素を含む化合物が、第１族金属元素のハロゲン化物、第１族金属元素の炭酸塩、第１族金属元素の酸化物、第１族金属元素の水酸化物及び第１族金属元素のケイ酸塩からなる群より選ばれる少なくとも一種である請求項２に記載の製造方法。
  4. 第１族金属元素が、ナトリウム、カリウム、ルビジウム又はセシウムである請求項３に記載の製造方法。
  5. 式（Ｉ）で示される化合物がアセトンである請求項１〜４のいずれかに記載の製造方法。
  6. 式（ＩＩ）で示される化合物が２−ブタノンである請求項１〜５のいずれかに記載の製造方法。
  7. 式（ＩＶ）で示される化合物がプロパナールである請求項１〜６のいずれかに記載の製造方法。
  8. 前記担体が、シリカからなるものである請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法。
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