JP2013132622A - 塗布装置および薄膜の形成方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明の塗布装置100は、搬送される基材90に塗布液80を塗布するものであって、基材90の搬送方向の上流に位置する上流側リップ21と、基材90の搬送方向の下流に位置する下流側リップ22と、上流側リップ21と下流側リップ22の間に位置するスリット部23とを有するダイヘッド2を備え、スリット部23の長手方向に垂直な面での、基材90の搬送方向についての、下流側リップ22のランド部223の長さが、上流側リップ21のランド部213よりも短いものであり、下流側リップ22のランド部223が、スリット部23の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものであり、上流側リップ21のランド部213の表面粗さRaが10μm以上であることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
(1) 搬送される基材に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記基材の搬送方向の上流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する上流側リップと、前記基材の搬送方向の下流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する下流側リップと、前記上流側リップと前記下流側リップの間に位置するスリット部とを有するダイヘッドを備え、
前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さが、前記上流側リップの前記ランド部よりも短いものであり、
前記下流側リップの前記ランド部が、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものであり、
前記上流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下であることを特徴とする塗布装置。
前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部の最下流側の縁との距離をz1[μm]、
前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz2[μm]、
前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz3[μm]、
前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部の最上流側の縁との距離をz4[μm]としたとき、
z1<z2<z3<z4の関係を満足する上記(1)または(2)に記載の塗布装置。
(4) 1<z2/z1<20の関係を満足する上記(3)に記載の塗布装置。
前記塗布液のビードの上流側の圧力PVAC[Pa]、
前記塗布液のビードの下流側の圧力をP0[Pa]、
前記塗布液の粘度をμ[Pa・s]、
前記塗布液の表面張力をσ[N/m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さをLd[m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記上流側リップの前記ランド部の長さをLU[m]、
前記下流側リップの前記ランド部の最下流の縁と前記基材との距離をHD[m]、
前記薄膜の膜厚をt[m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記下流側リップの前記ランド部の傾きをa=(z1−z2)/Ld、
前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記下流側リップのスリット側の縁との距離をb[m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記上流側リップの前記ランド部の傾きをc=(z3−z4)/Lu
前記軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記上流側リップのスリット側の縁との距離をd[m]としたとき、以下の関係を満足する上記(9)に記載の薄膜の形成方法。
図1は、本発明の塗布装置の好適な実施形態を示す断面図、図2は、図1に示す塗布装置のダイヘッド付近の拡大断面図である。なお、図中のバックアップローラ1および基材90の近傍の矢印は、バックアップローラ1による基材90の搬送方向を示す。また、図2中では、塗布液、薄膜の表示を省略した。また、本明細書で参照する図面は、構成の一部を誇張して示したものであり、実際の寸法等を正確に反映したものではない。
本発明の塗布装置は、搬送される基材に塗布液を塗布するものである。
マニホールド24は、ダイヘッド2に供給された塗布液80を、塗布幅方向へ拡流する液溜め部である。図示の構成では、マニホールド24の断面形状は、略円形であるが、これに限定されるものではなく、例えば、半円形、台形等の矩形等であってもよい。
光源5としては、例えば、UVランプ等を好適に用いることができる。
(実施例1)
図1、図2に示すように、バックアップローラ、ダイヘッド、減圧チャンバー、UVランプ等を備え、表1に示すような条件を満足する塗布装置を製造した。
ダイヘッドの条件を表1に示すようにした以外は、前記実施例1と同様にして塗布装置を製造した。
ダイヘッドの条件を表1に示すようにした以外は、前記実施例1と同様にして塗布装置を製造した。
[2.1]安定塗工領域試験(膜厚範囲)
まず、塗布液として、粘度が0.03Pa・s、表面張力が0.021N/mのエポキシワニスを用意した。
塗布液の供給速度は9.0mL/分で一定となるようにした。
E:平均厚さが24μm以上40μm以下の範囲において、厚みのむら(すじ状のむら等)が認められる。
まず、塗布液として、粘度が0.03〜0.10Pa・s、表面張力が0.021〜0.020N/mのエポキシワニスを用意した。
塗布液の供給速度は9.0mL/分で一定となるようにした。
E:塗布液の粘度が0.03Pa・s以上0.10Pa・s以下の範囲において、厚みのむら(すじ状のむら等)が認められない薄膜が形成できない。
上記の評価の結果を表2に示した。
1 バックアップローラ(搬送手段)
2 ダイヘッド
21 上流側リップ
211 外側側面部
212 スリット側側面部
213 ランド部(上流側ランド部)
2131 縁(最上流側縁)
2132 縁(スリット側縁)
22 下流側リップ
221 外側側面部
222 スリット側側面部
223 ランド部(下流側ランド部)
2231 縁(スリット側縁)
2232 縁(最下流側縁)
23 スリット部
24 マニホールド
3 減圧チャンバー
31 バックプレート
32 サイドプレート
33 リアプレート
34 ボトムプレート
41 エア配管
42 ブロア
43 バルブ
44 バッファ装置
45 圧力計
46 コントローラ
5 光源
80 塗布液
81 ビード
82 薄膜
90 基材
F 面
A 軸
Claims (11)
- 搬送される基材に塗布液を塗布する塗布装置であって、
前記基材の搬送方向の上流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する上流側リップと、前記基材の搬送方向の下流に位置し外側側面部とスリット側側面部とランド部を有する下流側リップと、前記上流側リップと前記下流側リップの間に位置するスリット部とを有するダイヘッドを備え、
前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さが、前記上流側リップの前記ランド部よりも短いものであり、
前記下流側リップの前記ランド部が、前記スリット部の長手方向に垂直な面に対して、所定角度傾斜したものであり、
前記上流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下であることを特徴とする塗布装置。 - 塗布装置は、前記基材の搬送手段としてのバックアップローラを備えるものである請求項1に記載の塗布装置。
- 前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面を面Fとしたときの、
前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部の最下流側の縁との距離をz1[μm]、
前記面Fと前記下流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz2[μm]、
前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部のスリット側縁との距離をz3[μm]、
前記面Fと前記上流側リップの前記ランド部の最上流側の縁との距離をz4[μm]としたとき、
z1<z2<z3<z4の関係を満足する請求項1または2に記載の塗布装置。 - 1<z2/z1<20の関係を満足する請求項3に記載の塗布装置。
- 塗布装置は、前記ダイヘッドと前記基材との間に架設される前記塗布液のビードの上流側を減圧する減圧チャンバーを備えるものである請求項1ないし4のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記下流側リップの前記ランド部の表面粗さRaが10μm以下である請求項1ないし5のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記上流側リップの前記ランド部は、前記スリット部の長手方向に垂直な面と略平行である請求項1ないし6のいずれかに記載の塗布装置。
- 前記塗布液として、エポキシワニスを用いるものである請求項1ないし7のいずれかに記載の塗布装置。
- 請求項1ないし8のいずれかに記載の塗布装置を用いて、基材上に薄膜を形成する薄膜の形成方法。
- 前記基材の搬送速度をU[m/秒]、
前記塗布液のビードの上流側の圧力PVAC[Pa]、
前記塗布液のビードの下流側の圧力をP0[Pa]、
前記塗布液の粘度をμ[Pa・s]、
前記塗布液の表面張力をσ[N/m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記下流側リップの前記ランド部の長さをLd[m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面での、前記基材の搬送方向についての、前記上流側リップの前記ランド部の長さをLU[m]、
前記下流側リップの前記ランド部の最下流の縁と前記基材との距離をHD[m]、
前記薄膜の膜厚をt[m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記下流側リップの前記ランド部の傾きをa=(z1−z2)/Ld、
前記スリット部の長手方向を軸としたときの当該軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記下流側リップのスリット側の縁との距離をb[m]、
前記スリット部の長手方向に垂直な面に対する前記上流側リップの前記ランド部の傾きをc=(z3−z4)/Lu
前記軸に垂直な面であって、前記基材の搬送手段の表面のうち前記軸方向について最も上流側の部位を含む面と、前記上流側リップのスリット側の縁との距離をd[m]としたとき、以下の関係を満足する請求項9に記載の薄膜の形成方法。
- 0.005<Ld/LU<1の関係を満足する請求項10に記載の薄膜の形成方法。
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WO2023042739A1 (ja) * | 2021-09-17 | 2023-03-23 | 株式会社Screenホールディングス | スリットノズルおよび基板処理装置 |
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