JP2013131614A - ウエハホルダ - Google Patents

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Abstract

【課題】 膜の形成時におけるウエハの飛び出しを抑制しつつ、ウエハの側面と凹部の側面との接着に基づくウエハの損傷を抑制できるウエハホルダを提供する。
【解決手段】
主面１０と、主面１０に対して垂直方向Ｚに凹む凹部２０とを備えるウエハホルダ１であって、凹部２０は、主面１０に平行な底面３０と、底面３０の外周３５から主面１０に亘って設けられる側面５０と、側面５０から凹部２０の内側に突出する突出部１００と、を有しており、突出部１００は、底面３０の外周３５に沿って設けられており、垂直方向Ｚにおいて、底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、底面３０から主面１０までの高さＤの１／３よりも高い。
【選択図】図３

Description

本発明は、ウエハを保持するウエハホルダに関する。
従来、ウエハに膜を形成する際に、ウエハを保持するウエハホルダが知られている。一般的に、ウエハホルダは、主面に対して垂直方向に凹む凹部を備える。ウエハは、凹部に配置されて、保持される。
ウエハに形成される膜は、膜厚が厚くなる方向に成長するだけでなく、ウエハの上面から側面へ向かって成長する。このため、膜の成長に伴って、ウエハの上面だけでなく、ウエハの側面も膜に覆われることがあった。ウエハの側面を覆った膜が、凹部の側面に接触したまま、固まると、ウエハの側面と凹部の側面とが膜によって接着される。このため、ウエハを取り出す際に、ウエハに必要以上の外力を加えることとなり、ウエハに割れや亀裂などの損傷が生じることがあった。ウエハの側面と凹部の側面との接着に基づくウエハの損傷を抑制するために、凹部の構造を工夫する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１のウエハホルダは、凹部の側面の上側に傾斜面が設けられている。傾斜面は、上側に向かうに連れ凹部が広がるように、傾斜している。従って、傾斜面とウエハの側面との間には、スペースが設けられるため、ウエハの側面と傾斜面との接触面積が小さくなる。その結果、ウエハの側面と凹部の側面との接着が抑制され、ウエハの損傷を抑制できる。
特開２００９−７１２１０号公報
ところで、ウエハに膜を形成する際に、成膜条件を均等にするために、膜の形成時において、主面に対して垂直な方向を軸として、ウエハホルダを高速回転させることがある。
特許文献１のウエハホルダでは、傾斜面は、上側に向かうに連れ凹部が広がるように、傾斜しているため、高速回転時に、傾斜面に沿って、凹部からウエハが飛び出ることがあった。
そこで、本発明は、このような状況に鑑みてなされたものであり、膜の形成時におけるウエハの飛び出しを抑制しつつ、ウエハの側面と凹部の側面との接着に基づくウエハの損傷を抑制できるウエハホルダを提供することを目的とする。
上述した課題を解決するため、本発明は、次のような特徴を有している。本発明の特徴は、主面と、前記主面に対して垂直方向に凹む凹部とを備えるウエハホルダであって、前記凹部は、前記主面に平行な底面と、前記底面の外周から前記主面に亘って設けられる側面と、前記側面から前記凹部の内側に突出する突出部と、を有しており、前記突出部は、前記底面の外周に沿って設けられており、前記垂直方向において、前記底面から前記突出部の先端までの高さは、前記底面から前記主面までの高さの１／３よりも高いことを要旨とする。
本発明の特徴によれば、凹部は、側面から凹部の内側に突出する突出部を有しており、突出部は、底面の外周に沿って設けられており、垂直方向において、底面から突出部の先端までの高さは、底面から主面までの高さの１／３よりも高い。
ウエハの上面からウエハの側面に膜が成長しても、突出部が障壁となって、膜の成長が遮られる。従って、底面の外周に沿って設けられた突出部によって、突出部よりも下側（すなわち、底面側）のウエハの側面にまで膜が成長することを阻害できる。これにより、突出部よりも下側の側面を膜が覆うことを抑制できる。
従来のウエハホルダのように、突出部がない凹部の側面と膜との接触面積は、ウエハの側面の高さに比例する。一方、突出部と膜との接触面積は、成長した膜の膜厚に比例する。膜の膜厚は、ウエハの側面の高さに比べると薄いため、突出部と膜との接触面積は、従来の凹部の側面と膜との接触面積に比べると小さくなる。
以上より、ウエハを取り出す際に、ウエハに加える外力を小さくすることができるため、ウエハの損傷を抑制できる。
本発明の特徴によれば、底面から突出部の先端までの高さは、底面から主面までの高さの１／３よりも高い。ウエハの最大幅となる部分が底面から主面までの高さの１／３以下である場合、ウエハの最大幅となる部分が突出部に引っ掛る。従って、ウエハが上側に移動することを抑制できるため、ウエハホルダを高速回転させても、凹部からウエハが飛び出ることを抑制できる。
また、前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部の全長は、前記側面の長さの５０％以上であってもよい。
また、前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部は、全周に渡って連続していてもよい。
本発明の他の特徴は、主面と、前記主面に対して垂直方向に凹む凹部とを備えるウエハホルダであって、前記凹部は、前記主面に平行な底面と、前記底面の外周から前記主面に亘って設けられる側面と、前記側面から前記凹部の内側に突出する突出部と、を有しており、前記突出部は、前記底面の外周に沿って設けられており、前記垂直方向において、前記底面から前記突出部の先端までの高さは、前記凹部に配置されるウエハの高さの１／２よりも高いことを要旨とする。
また、前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部の全長は、前記側面の長さの５０％以上であってもよい。
また、前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部は、全周に渡って連続していてもよい。
また、ウエハの最高加熱温度に達したときに、前記突出部と前記ウエハとの間隔が１ｍｍ以下であってもよい。
本発明によれば、膜の形成時におけるウエハの飛び出しを抑制しつつ、ウエハの側面と凹部の側面との接着に基づくウエハの損傷を抑制できる。
図１は、第１実施形態に係るウエハホルダ１Ａの斜視図である。 図２は、第１実施形態に係る凹部２０の斜視図である。 図３は、第１実施形態に係る凹部２０の一部断面図である。 図４は、第１実施形態に係る凹部２０の断面図である。 図５は、第１実施形態に係る凹部２０の断面図である。 図６は、第２実施形態に係る凹部２０の平面図である。 図７は、第３実施形態に係る凹部２０の平面図である。 図８は、第４実施形態に係る凹部２０の一部断面図である。
本発明に係るウエハホルダの一例について、図面を参照しながら説明する。具体的には、（１）第１実施形態（２）第２実施形態、（３）第３実施形態、（４）第４実施形態、（５）その他実施形態、について説明する。
以下の図面の記載において、同一または類似の部分には、同一又は類似の符号を付している。図面は模式的なのものであり、各寸法の比率などは現実のものとは異なることを留意すべきである。従って、具体的な寸法などは以下の説明を参酌して判断すべきものである。図面相互間においても互いの寸法の関係や比率が異なる部分が含まれていることは勿論である。
（１）第１実施形態
（１．１）ウエハホルダ１Ａの概略構成
第１実施形態に係るウエハホルダ１Ａの概略構成について、図１から図３を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係るウエハホルダ１Ａの斜視図である。図２は、第１実施形態に係る凹部２０の斜視図である。図３は、第１実施形態に係る凹部２０の一部断面図である。具体的には、図３は、垂直方向Ｚ及び径方向Ｘに沿った凹部２０の一部断面図である。
図１に示されるように、ウエハホルダ１は、円板状である。ウエハホルダ１は、主面１０と、凹部２０とを備える。主面１０は、ウエハホルダ１の表面であり、主面１０は、ウエハホルダ１の裏面と反対側の面である。
凹部２０は、主面１０に対して垂直方向Ｚに凹む。凹部２０は、主面１０に対して低い部分である。本実施形態において、ウエハホルダ１は、複数の凹部２０を備える。凹部２０は、垂直方向Ｚから見て、円形状である。凹部２０には、ウエハ２００が配置される（図３、図４参照）。凹部２０は、底面３０と、側面５０と、突出部１００とを有する。
底面３０は、主面１０に平行な面である。底面３０は、平面である。底面３０には、ウエハ２００が載置される。従って、底面３０は、ウエハ下面２００ｂに接する。本実施形態において、垂直方向Ｚから見て、底面３０は、円形状である。従って、底面３０の外周３５は、環状である。底面３０の外周３５に沿った方向は、外周方向Ｒである。なお、底面３０に平行であり、底面３０の中心Ｏと側面５０とを結ぶ方向は、径方向Ｘである。径方向Ｘにおいて、中心Ｏに向かう方向は、凹部２０の内側に向かう方向であり、側面５０に向かう方向は、凹部２０の外側に向かう方向である。
側面５０は、底面３０の外周３５から主面１０に亘って設けられる。側面５０は、外周方向Ｒに沿った面である。本実施形態において、側面５０は、上側面５０ａと下側面５０ｂとを有する。上側面５０ａは、垂直方向Ｚにおいて突出部１００よりも主面１０側（すなわち、上側）にある面である。上側面５０ａは、垂直方向Ｚに平行な面である。下側面５０ｂは、垂直方向Ｚにおいて突出部１００よりも底面３０側（すなわち、下側）にある面である。下側面５０ｂは、垂直方向Ｚに平行な面と、底面３０に連なる曲面とを有する。
突出部１００は、側面５０から凹部２０の内側に突出する。すなわち、突出部１００は、側面５０に対して突出している。また、突出部１００は、底面３０の外周３５に沿って設けられる。すなわち、突出部１００は、外周方向Ｒに沿って設けられる。突出部１００の詳細は、後述する。
ウエハホルダ１は、炭化珪素からなることが好ましい。炭化珪素は、熱伝導率が高いため、ウエハ２００を均等に加熱できる。これにより、膜にムラが生じず、ウエハ２００に品質の良好な膜３００が形成される。
（１．２）突出部１００の概略構成
第１実施形態に係る突出部１００の概略構成について、図２から図４を参照しながら説明する。図４は、第１実施形態に係る凹部２０の断面図である。具体的には、図４は、垂直方向Ｚ及び径方向Ｘに沿った凹部２０の断面図である。
図２に示されるように、突出部１００は、底面３０の外周３５に沿って設けられる。突出部１００は、外周方向Ｒに沿って設けられる。突出部１００は、外周方向Ｒに沿って延在する。本実施形態において、突出部１００は、１つ設けられる。外周方向Ｒにおいて、突出部１００は、側面５０の全周に亘って連続している。外周方向Ｒにおいて、突出部１００は、側面５０を一周する。従って、外周方向Ｒにおいて、突出部１００の全長は、側面５０の長さと一致する。
図３に示されるように、突出部１００は、上側の面である突出上面１００ａと、下側の面である突出下面１００ｂとを有する。突出上面１００ａは、主面１０側の面である。突出上面１００ａは、上側面５０ａと連なる。本実施形態において、突出上面１００ａは、底面３０と平行である。突出下面１００ｂは、底面３０側の面である。本実施形態において、突出下面１００ｂは、底面３０に対して傾斜している。突出下面１００ｂは、垂直方向Ｚにおいて主面１０に近づくに連れ、径方向Ｘにおいて凹部２０の内側に近づく。突出下面１００ｂは、下側面５０ｂと連なる。
図３に示されるように、突出部１００は、先端１５０を有する。突出部１００の先端１５０は、凹部２０の最も内側の端である。すなわち、突出部１００の先端１５０は、径方向Ｘにおいて、底面３０の中心Ｏ側の端である。本実施形態おいて、突出部１００の先端１５０は、突出上面１００ａと突出下面１００ｂとの境界部分である。
突出部１００の径方向Ｘにおける長さｋは、０．１ｍｍ以上であることが好ましい。突出部１００の長さｋが０．１ｍｍ以上であれば、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０との距離が離れるため、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０とが接着されにくくなる。また、突出部１００の径方向Ｘにおける長さｋは、２ｍｍ以下であることが好ましい。突出部１００の長さｋが２ｍｍ以下であれば、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０との隙間が小さくなるため、均熱性の低下を抑制できる。なお、突出部１００の長さｋは、径方向Ｘにおける側面５０から突出部１００の先端１５０までの長さに等しい。
図３に示されるように、ウエハ２００は、ウエハ上面２００ａが主面１０側に位置し、ウエハ下面２００ｂが底面３０側に位置するように配置される。ウエハ下面２００ｂは、底面３０に接するように配置される。
一般的に、ウエハ２００は、垂直方向Ｚにおけるウエハ２００の高さＨの１／２の位置が、ウエハ２００の幅方向（すなわち径方向Ｘ）における最大幅Ｗとなる（図３、図４参照）。ウエハ２００の最大幅となる部分は、ウエハ最大幅部分２１０である。ウエハ最大幅部分２１０からウエハ上面２００ａに向かうに連れ、ウエハ２００の幅は、狭くなる。同様に、ウエハ最大幅部分２１０からウエハ下面２００ｂに向かうに連れ、ウエハ２００の幅は、狭くなる。
垂直方向Ｚにおいて、底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、底面３０から主面１０までの高さＤの１／３よりも高い。また、底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、ウエハ２００の高さＨの１／２よりも高い。すなわち、ウエハ最大幅部分２１０は、突出部１００の先端１５０よりも底面３０側に位置する。
底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、底面３０から主面１０までの高さＤ以下である。底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、ウエハ２００の高さＨ以下が好ましい。底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、ウエハ２００の高さＨ以下であれば、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０との隙間が小さくなるため、均熱性の低下を抑制できる。
本実施形態において、底面３０から主面１０までの高さＤは、ウエハ２００の高さＨよりも高い。
一般的に、ウエハ２００は加熱によって熱膨張する。従って、ウエハ２００の熱膨張を考慮して、凹部２０及び突出部１００の寸法を定めることが好ましい。ウエハ２００の最高加熱温度に達したときに、図３に示されるように、突出部１００とウエハ２００との間隔ｓが１ｍｍ以下であることが好ましい。具体的には、突出部１００の先端１５０とウエハ側面２００ｃとの間隔ｓが１ｍｍ以下であることが好ましい。本実施形態おいて、ウエハ側面２００ｃは、突出部１００の先端１５０に接触する。
ウエハ２００の最高加熱温度に達したときに、図４に示されるように、底面３０の中心Ｏを挟んで対向する突出部１００の先端１５０どうしの長さＬは、ウエハ２００の最大幅Ｗから２ｍｍ加えた長さ以下であることが好ましい。すなわち、最大幅Ｗ及び長さＬは、以下の式（１）の関係を満たすことが好ましい。
Ｌ（ｍｍ） ≦ Ｗ（ｍｍ） ＋ ２ ・・・式（１）
式（１）の関係を満たすことにより、ウエハ側面２００ｃと突出部１００との間隔ｓが短くなるため、突出部１００が障壁となって、膜の成長をより妨げることができる。従って、突出部１００よりも底面３０側のウエハ側面２００ｃを膜３００が覆うことを抑制できる。
（１．３）作用効果
ウエハホルダ１によれば、凹部２０は、側面５０から凹部２０の内側に突出する突出部１００を有しており、突出部１００は、外周方向Ｒに沿って設けられており、垂直方向Ｚにおいて、底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、底面３０から主面１０までの高さＤの１／３よりも高い。
突出部１００は、外周方向Ｒに沿っている。このため、図４に示されるように、ウエハ上面２００ａからウエハ側面２００ｃに膜３００が成長しても、突出部１００が障壁となって、膜３００の成長が遮られる。すなわち、突出部１００よりも底面３０側のウエハ側面２００ｃにまで膜３００が成長することを、突出部１００によって阻害できる。このため、突出部１００よりも底面３０側のウエハ側面２００ｃを膜が覆うことを抑制できる。
また、突出部１００にウエハ側面２００ｃが接触するため、ウエハ側面２００ｃと側面５０との間には、スペースが設けられる。このため、ウエハ側面２００ｃを覆う膜３００が、側面５０に接触しにくくなる。
従来のウエハホルダのように、突出部がない凹部の側面と膜との接触面積は、ウエハの側面の高さに比例する。一方、図４に示されるように、突出部１００と膜３００との接触面積は、成長した膜３００の膜厚に比例する。膜３００の膜厚は、ウエハ側面２００ｃの高さに比べると薄いため、突出部１００と膜３００との接触面積は、従来の凹部の側面と膜との接触面積に比べると小さくなる。
これらの結果、ウエハ２００を取り出す際に、ウエハ２００に加える外力を小さくすることができるため、ウエハ２００の損傷を抑制できる。
ウエハホルダ１Ａによれば、垂直方向Ｚにおいて、底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、底面３０から主面１０までの高さＤの１／３よりも高い。ウエハ最大幅部分２１０が、底面３０から主面１０までの高さＤ以下であるため、図５に示されるように、ウエハ最大幅部分２１０が突出部１００に引っ掛る。従って、ウエハ２００が上側に移動することを抑制できるため、ウエハホルダ１Ａを高速回転させても、凹部２０からウエハ２００が飛び出ることを抑制できる。
ウエハホルダ１Ａによれば、外周方向Ｒにおいて、突出部１００は、側面５０の全周に亘って連続している。このため、外周方向Ｒにおけるウエハ側面２００ｃの何れの部分であっても突出部１００が障壁となって、膜３００の成長が遮られる。従って、突出部１００よりも底面３０側のウエハ側面２００ｃを膜３００が覆うことをより抑制できる。その結果、ウエハ２００の損傷をより抑制できる。
さらに、外周方向Ｒにおける側面５０の何れの部分であってもウエハ最大幅部分２１０が突出部１００に引っ掛るため、凹部２０からウエハ２００が飛び出すことをより抑制できる。
なお、上側面５０ａは、垂直方向Ｚに平行な面である。このため、ウエハホルダを高速回転させた場合において、ウエハ２００が突出部１００を超えて、凹部２０から飛び出そうとしても、上側面５０ａに当たるため、ウエハ２００が飛び出すことをさらに抑制することができる。
（２）第２実施形態
第２実施形態に係るウエハホルダについて、図６を参照しながら説明する。図６は、第２実施形態に係る凹部２０の平面図である。なお、上述した第１実施形態と第２実施形態との異なる部分を中心に説明する。第１実施形態と同様の第２実施形態の部分は、適宜省略する。
第２実施形態において、上述した第１実施形態と異なる部分は、突出部１００である。図６に示されるように、第２実施形態において、突出部１００は、側面５０の半周に亘って連続している。従って、外周方向Ｒにおいて、突出部１００の全長は、側面５０の長さの５０％である。垂直方向Ｚから見て、突出部１００の外周方向Ｒに沿った長さは、側面５０の外周方向Ｒに沿った長さ５０％である。
本実施形態において、底面３０の中心Ｏは、主面１０の中心Ｃからずれている。また、突出部１００は、主面１０の中心Ｃから遠い方に設けられている。従って、ウエハホルダが高速回転した場合、図６に示されるように、遠心力Ｆが働く方向は、突出部１００に向かう方向となる。このため、本実施形態に係る凹部２０にウエハ２００を配置した場合、ウエハ２００は、突出部１００に向かって移動する。このため、垂直方向Ｚから見て、突出部１００が設けられていない側面５０があっても、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０とが接着することを抑制できる。
側面５０の半周に亘って連続している突出部１００によって、膜３００の形成時におけるウエハ２００の飛び出しを抑制しつつ、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０との接着に基づくウエハ２００の損傷を抑制できる。
なお、外周方向Ｒにおいて、突出部１００の全長は、側面５０の長さの５０％以上であってもよい。突出部１００の全長が、側面５０の長さの５０％以上であれば、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０とが接着することをより抑制できる。
（３）第３実施形態
第３実施形態に係るウエハホルダについて、図７を参照しながら説明する。図７は、第３実施形態に係る凹部２０の平面図である。なお、上述した第１，２実施形態と第３実施形態との異なる部分を中心に説明する。第１，２実施形態と同様の第３実施形態の部分は、適宜省略する。
第３実施形態において、上述した第１，２実施形態と異なる部分は、突出部１００である。図７に示されるように、第３実施形態において、突出部１００は、４つ設けられている。突出部１００は、外周方向Ｒに沿って断続的に延在する。垂直方向Ｚから見て、突出部１００は、底面３０の中心Ｏを点対称に設けられている。外周方向Ｒにおいて、各突出部１００の長さは、側面５０の長さの１／８である。従って、外周方向Ｒにおいて、突出部１００の全長は、側面５０の長さの５０％である。なお、突出部１００の全長は、各突出部１００の長さの合計に等しい。
本実施形態おいて、突出部１００と突出部１００との間において、突出部１００よりも下側のウエハ側面２００ｃまで、膜３００は、成長する。しかしながら、ウエハ側面２００ｃは、突出部１００に当たるため、ウエハ２００と側面５０との間にはスペースが設けられる。このため、ウエハ側面２００ｃが膜３００に覆われても、膜３００は、側面５０に接触しにくい。このため、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０とが接着することを抑制できる。断続的に延在している突出部１００によって、膜３００の形成時におけるウエハ２００の飛び出しを抑制しつつ、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０との接着に基づくウエハ２００の損傷を抑制できる。
なお、外周方向Ｒにおいて、突出部１００の全長は、側面５０の長さの５０％以上であってもよい。例えば、側面５０の長さの１／８の長さをもつ突出部１００が５つ以上設けられていてもよい。また、各突出部１００の長さが、側面５０の長さの１／８よりも長くても良い。突出部１００の全長が、側面５０の長さの５０％以上であれば、ウエハ側面２００ｃと凹部２０の側面５０とが接着することをより抑制できる。
（４）第４実施形態
第４実施形態に係るウエハホルダについて、図８を参照しながら説明する。図８は、第４実施形態に係る凹部２０の一部断面図である。なお、上述した第１〜３実施形態と第４実施形態との異なる部分を中心に説明する。第１〜３実施形態と同様の第４実施形態の部分は、適宜省略する。
第４実施形態において、上述した第１実施形態と異なる部分は、突出部１００の先端１５０の高さｔである。第４実施形態において、図８に示されるように、突出部１００の先端１５０の高さｔは、底面３０から主面１０までの高さＤと等しい。従って、突出部１００の先端１５０は、主面１０と同一面上にある。突出上面１００ａは、主面１０と同一面上にある。突出下面１００ｂは、底面３０に対して傾斜している。突出下面１００ｂは、垂直方向Ｚにおいて主面１０に近づくに連れ、径方向Ｘにおいて凹部２０の内側に近づく。突出下面１００ｂは、下側面５０ｂと連なる。
ウエハ２００を凹部２０に配置するときに、ウエハ２００の最大幅Ｗが底面３０の中心Ｏを挟んで対向する突出部１００の先端１５０どうしの長さＬよりも小さいことが好ましい。ウエハ２００が凹部２０に配置できない可能性があるためである。また、ウエハ２００の加熱時において、ウエハ２００の最大幅Ｗが底面３０の中心Ｏを挟んで対向する突出部１００の先端１５０どうしの長さＬよりも大きいことが好ましい。凹部２０の開口よりもウエハ２００の大きさが大きいため、ウエハの飛び出しをより抑制することができる。
図８に示されるように、本実施形態において、突出部１００とウエハ側面２００ｃとの間隔ｓは、突出下面１００ｂとウエハ側面２００ｃとの間隔である。間隔ｓは、１ｍｍ以下であることが好ましい。１ｍｍ以下であれば、突出部１００が障壁となって、膜３００の成長が遮られる。すなわち、突出部１００よりも底面３０側のウエハ側面２００ｃにまで膜３００が成長することを、突出部１００によって阻害できる。このため、突出部１００よりも底面３０側のウエハ側面２００ｃを膜が覆うことを抑制できる。
本実施形態において、底面３０に対して傾斜している突出下面１００ｂにウエハ側面２００ｃが接触するため、ウエハ側面２００ｃと下側面５０ｂとの間には、スペースが設けられる。このため、ウエハ側面２００ｃを膜３００が覆っても、側面５０に接触しにくくなる。
（５）その他実施形態
本発明の実施形態を通じて本発明の内容を開示したが、この開示の一部をなす論述及び図面は、本発明を限定するものであると理解すべきではない。本発明はここでは記載していない様々な実施形態を含む。
上述した実施形態では、垂直方向Ｚから見て、凹部２０は、円形状であり、底面３０は、円形状であったが、これに限られない。凹部２０及び底面３０は、配置されるウエハ２００の形状に合わせて適宜変更可能である。例えば、垂直方向Ｚから見て、多角形状であってもよい。
上述した第１実施形態では、上側面５０ａは、垂直方向Ｚに平行であったが、これに限られない。上側面５０ａは、垂直方向Ｚに対して傾斜していてよい。上側面５０ａは、垂直方向Ｚにおいて主面１０に近づくに連れ、径方向Ｘにおいて凹部２０の内側に近づくように傾斜していることが好ましい。すなわち、上側面５０ａが、上側に向かうに連れ凹部が狭くなるように、傾斜していることが好ましい。これにより、ウエハホルダを高速回転させても、上側面５０ａに当たりやすくなり、凹部２０からウエハ２００が飛び出ることをさらに抑制できる。
上述した実施形態では、突出上面１００ａは、底面３０と平行であり、突出下面１００ｂは、底面３０に対して傾斜していたが、これに限られない。突出上面１００ａは、底面３０に対して傾斜していてもよい。具体的には、突出上面１００ａは、垂直方向Ｚにおいて底面３０に近づくに連れ、径方向Ｘにおいて凹部２０の内側に近づくように傾斜していてもよい。また、突出上面１００ａ及び突出下面１００ｂは、底面３０と平行であってもよい。この場合、突出部１００の先端１５０は、面状である。
上述した実施形態では、底面３０から主面１０までの高さＤは、ウエハ２００の高さＨよりも高かったが、底面３０から主面１０までの高さＤは、ウエハ２００の高さＨよりも低くてもよい。ただし、底面３０から突出部１００の先端１５０までの高さｔは、ウエハ２００の高さＨの１／２よりも高い。
なお、上述した実施形態における各特徴は、発明を損なわない範囲内において、適宜組み合わせることが可能である。
以上のように、本発明はここでは記載していない様々な実施形態を含む。従って、本発明の技術的範囲は上記の説明から妥当な特許請求の範囲に係る発明特定事項によってのみ定められるものである。
１，１Ａ…ウエハホルダ、 １０…主面、 ２０…凹部、 ３０…底面、 ３５…外周、 ５０…側面、 ５０ａ…上側面、 ５０ｂ…下側面、 １００…突出部、 １００ａ…突出上面、 １００ｂ…突出下面、 １５０…先端、 ２００…ウエハ、 ２００ａ…ウエハ上面、 ２００ｂ…ウエハ下面、 ２００ｃ…ウエハ側面、 ２１０…ウエハ最大幅部分、 ３００…膜

Claims (7)

  1. 主面と、前記主面に対して垂直方向に凹む凹部とを備えるウエハホルダであって、
    前記凹部は、前記主面に平行な底面と、前記底面の外周から前記主面に亘って設けられる側面と、前記側面から前記凹部の内側に突出する突出部と、を有しており、
    前記突出部は、前記底面の外周に沿って設けられており、
    前記垂直方向において、前記底面から前記突出部の先端までの高さは、前記底面から前記主面までの高さの１／３よりも高いウエハホルダ。
  2. 前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部の全長は、前記側面の長さの５０％以上である請求項１に記載のウエハホルダ。
  3. 前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部は、全周に渡って連続している請求項１又は２に記載のウエハホルダ。
  4. 主面と、前記主面に対して垂直方向に凹む凹部とを備えるウエハホルダであって、
    前記凹部は、前記主面に平行な底面と、前記底面の外周から前記主面に亘って設けられる側面と、前記側面から前記凹部の内側に突出する突出部と、を有しており、
    前記突出部は、前記底面の外周に沿って設けられており、
    前記垂直方向において、前記底面から前記突出部の先端までの高さは、前記凹部に配置されるウエハの高さの１／２よりも高いウエハホルダ。
  5. 前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部の全長の長さは、前記側面の長さの５０％以上である請求項４に記載のウエハホルダ。
  6. 前記底面の外周に沿った方向において、前記突出部は、全周に渡って連続している請求項４又は５に記載のウエハホルダ。
  7. 前記ウエハの最高加熱温度に達したときに、前記突出部と前記ウエハとの間隔が１ｍｍ以下である請求項４から６の何れか１項に記載のウエハホルダ。
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