JP2013130649A - 干渉露光装置及び干渉露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】スペイシャルフィルタ17A,17Bから出射された光束の周縁を遮蔽する開口部を有する遮光開口板18A,18Bと、露光基板上に隣接配置され、前記開口部から出射された光束により形成される干渉露光領域の周縁をマスクする露光マスク19とを備える。遮光開口板18A,18Bにより干渉露光領域への不要な迷光を低減するとともに、遮光開口板18A,18Bの開口端による露光領域周縁の回折ゆらぎの影響を露光マスク19により除去するため、露光基板において均一な干渉縞を得ることができる。
【選択図】図1
Description
1.干渉露光装置(図1、図2)
2.回折ゆらぎの影響(図3〜図8)
3.遮光開口板による迷光の低減(図9〜図15)
4.露光治具による干渉ゆらぎの低減(図16、17)
5.干渉露光方法
6.実施例(図18〜図23)
図1は、本実施の形態におけるMach−Zehnder型光学系を示す図である。この干渉露光装置は、レーザ光源11と、レーザのビーム径を平行に拡げるビームエキスパンダ12と、偏光ビームスプリッタ(PBS:Polarization Beam Splitter)13と、PBS13によって二分割された一方の光路に設置される波長板14と、反射板15A,15Bと、対物レンズ16A,16Bと、集光ビームスポット径とほぼ同じ径のピンホールを有するスペイシャルフィルタ17A,17Bと、スペイシャルフィルタ17A,17Bからの出射光束の周縁を遮蔽する開口部を有する遮光開口板18A,18Bと、露光基板20上に近接配置され、開口部からの出射光束により形成される干渉露光領域の周縁をマスクする露光マスク19とを備える。
次に、図3〜図8を参照して、遮光開口板の開口端(稜線部)によって生じる回折ゆらぎの影響について説明する。図3に示すように、出射光束を遮光開口板30によって遮蔽すると、干渉露光領域301と遮光領域302とが形成され、干渉露光領域301の周縁には、図4示すようなフレネル回折縞303が生じる。図5は、干渉露光領域のX方向の光強度分布を示す図である。この光強度分布の回折ゆらぎは、干渉縞強度の干渉ゆらぎに大きく影響する。
次に、遮光開口板によりスペイシャルフィルタと遮光開口板との間にある迷光を低減する方法について説明する。スペイシャルフィルタと遮光開口板との間にある散乱源(迷光)とは、例えば、露光光軸が水平で露光基板を地面に対して垂直に立てて露光する場合の光学系の土台である防振台表面、光路中の空気のゆらぎを抑えるため光路を覆うように設置されたカバー表面などがある。
次に、露光基板上に隣接して配置される露光マスクにより干渉ゆらぎを低減する方法について説明する。露光マスクは、露光光束が露光基板の側面に当たることによって生じる散乱光を防止する他、露光基板が動かないように固定するための露光治具として機能する。
次に、前述した干渉露光装置を用いた干渉露光方法について説明する。原板としては、使用光に対して透明な基板、例えば、水晶または石英からなるものを用いる。また、光学素子に応じて、Al、Taなどの金属又は半導体を原板上に成膜してもよい。
以下、実施例を挙げて、本発明を具体的に説明する。ここでは、例として二光束干渉露光法でサブ波長微細格子を作製した。なお、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
Claims (10)
- スペイシャルフィルタから出射された光束の周縁を遮蔽する開口部を有する遮光開口板と、
露光基板上に隣接配置され、前記開口部から出射された光束により形成される干渉露光領域の周縁をマスクする露光マスクと
を備える干渉露光装置。 - 前記露光マスクは、前記干渉露光領域の回折ゆらぎの振動幅が10%を超える領域をマスクする請求項1記載の干渉露光装置。
- 前記露光マスクは、前記干渉露光領域の周縁の内側を3mm以上マスクする請求項1又は2記載の干渉露光装置。
- 前記露光マスクの表面から露光基板までの距離は、0.5mm以下である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の干渉露光装置。
- 前記露光マスクの表面から0.2mm以下の範囲で稜線部が面取りされている請求項4項に記載の干渉露光装置。
- 前記露光マスクは、露光基板の端縁部と同形状の枠部を有する第1の保持部材と、露光基板と同形状の開口を有する第2の保持部材とを備え、前記第2の保持部材の開口周縁部の厚さが0.5mm以下である請求項1乃至3のいずれか1項に記載の干渉露光装置。
- 前記第2の保持部材の開口周縁部は、表面から0.2mm以下の範囲で面取りされている請求項6に記載の干渉露光装置。
- 開口部を有する遮光開口板により、スペイシャルフィルタから出射される光束の周縁を遮蔽し、
露光基板上に隣接配置した露光マスクにより、前記開口部から出射された光束により形成される干渉露光領域の周縁をマスクする干渉露光方法。 - 露光基板の端縁部と同形状の枠部を有する第1の保持部材と、露光基板と同形状の開口を有する第2の保持部材とを備え、
前記第2の保持部材の開口周縁部の厚さが0.5mm以下である露光治具。 - 前記第2の保持部材の開口周縁部は、表面から0.2mm以下の範囲で面取りされている請求項9に記載の露光治具。
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