JP2007173533A - 露光装置、露光方法及びデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】パターン領域と、当該パターン領域の外側に第1の幅を有して形成された遮光領域とを有するレチクルのパターンを照明光学系によって被露光体に露光する露光方法であって、前記レチクルを照明する範囲を規定する開口を有する視野絞りの当該開口の位置を前記第1の幅の中心位置よりもパターン領域側になるように前記視野絞りを制御する制御ステップと、前記視野絞りを介して、前記レチクルに光を照射する照射ステップとを有することを特徴とする露光方法を提供する。
【選択図】図4
Description
10 照明装置
11 光源
12 照明光学系
18 マスキングブレード
20 レチクル
30 投影光学系
40 ウェハ
50 制御部
Claims (10)
- パターン領域と、当該パターン領域の外側に第1の幅を有して形成された遮光領域とを有するレチクルのパターンを照明光学系によって被露光体に露光する露光方法であって、
前記レチクルを照明する範囲を規定する開口を有する視野絞りの当該開口の位置を前記第1の幅の中心位置よりもパターン領域側になるように前記視野絞りを制御する制御ステップと、
前記視野絞りを介して、前記レチクルに光を照射する照射ステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 前記照明光学系は、前記視野絞りと前記レチクルとの間に結像光学系を有し、前記視野絞りは、前記レチクル面と光学的に共役な位置に配置されていることを特徴とする請求項1記載の方法。
- 前記結像光学系による前記視野絞りの前記開口の前記レチクル面上における点像強度分布φB、前記遮光領域の前記第1の幅をWs、前記パターン領域と前記遮光領域との境界から前記視野絞りの前記開口の設定位置までの距離をWiとした場合、距離Wiは、
を満足する状態に設定されることを特徴とする請求項2記載の露光方法。 - 前記視野絞りは、前記レチクル面上に配置されていることを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 前記視野絞りの前記開口の前記レチクル面上におけるボケ量をφB、前記遮光領域の前記第1の幅をWs、前記レチクルの厚みをt、前記レチクルと前記視野絞りの間隔をd、前記レチクル入射前の媒質の屈折率をn1、前記レチクルの屈折率をn2、前記パターン領域と前記遮光領域の境界から前記視野絞りの前記開口の設定位置までの距離をWi、投影光学系の開口数をNA、前記投影光学系の投影倍率をβ、前記投影光学系のNAに対する前記照明光学系のNAの比をσとした場合、距離Wiは、
を満足する状態に設定されることを特徴とする請求項4記載の露光方法。 - 前記制御ステップは、前記遮光領域に対する前記視野絞りの前記開口の位置を、前記照明光学系の照明条件に応じて変更することを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- 前記制御ステップは、前記視野絞りの前記開口の位置を、上下左右のそれぞれの位置で設定することを特徴とする請求項1記載の露光方法。
- パターン領域と、当該パターン領域の外側に第1の幅を有して形成された遮光領域とを有するレチクルのパターンを照明光学系によって被露光体に露光する露光装置であって、
前記レチクルを照明する範囲を規定する開口を有する視野絞りと、
前記開口が前記第1の幅の中心位置よりもパターン領域側になるように前記視野絞りを制御する制御部とを有することを特徴とする露光装置。 - 請求項1乃至7のうちいずれか一項記載の露光方法を用いて前記被露光体を露光する露光ステップと、
前記露光された前記被露光体を現像する現像ステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。 - 請求項8記載の露光装置を用いて前記被露光体を露光する露光ステップと、
前記露光された前記被露光体を現像する現像ステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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