JP2006287103A - 露光装置及び方法、並びに、デバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 レチクルを保持するためのステージと投影光学系とを有し、前記投影光学系を介して、前記ステージに保持された前記レチクルのパターンを被処理体に投影する露光装置を、基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測手段と、前記位置計測手段の計測結果に基づいて、前記レチクルのパターン面の形状を計測する形状計測手段とを有するものとする。
【選択図】 図1
Description
100 照明装置
200 レチクルステージ
300 投影光学系
400 ウェハステージ
500 アライメントセンサ
600 レチクル面形状検出系
700 レチクル検出系
800 主制御部
900 レチクル位置検出系
R レチクル
W 被処理体
FM 基準マーク
RFM 基準板
SP 基準面
HG 筐体
DP、DP’及びDP’’ 検出位置(検出点)
Claims (16)
- レチクルを保持するためのステージと投影光学系とを有し、前記投影光学系を介して、前記ステージに保持された前記レチクルのパターンを被処理体に投影する露光装置であって、
基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測手段と、
前記位置計測手段の計測結果に基づいて、前記レチクルのパターン面の形状を計測する形状計測手段とを有することを特徴とする露光装置。 - 前記形状計測手段は、
前記投影光学系の光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する位置検出手段と、
前記位置検出手段が前記パターン面上の予め決められた位置に関し検出を行うように、前記位置計測手段の計測結果に基づいて、前記レチクルの位置決めを行う位置決め手段とを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - 前記形状計測手段は、
前記投影光学系の光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する位置検出手段と、
前記位置計測手段の検出結果および前記位置検出手段の検出結果に基づいて、前記パターン面の形状を算出する算出手段とを有することを特徴とする請求項1記載の露光装置。 - レチクルを保持するためのステージと投影光学系とを有し、前記レチクルと被処理体とを同期して走査し、前記投影光学系を介して、前記レチクルのパターンを前記被処理体に投影する露光装置であって、
基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測手段と、
前記投影光学系の光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する位置検出手段と、
前記位置検出手段を較正するための基準面を有する、前記レチクルを保持するためのステージとを有し、
前記位置検出手段は、前記ステージに前記レチクルを着脱する前記ステージの位置又は前記位置計測手段が前記レチクルの位置を計測する前記ステージの位置において、前記基準面の位置を検出できる位置に配されていることを特徴とする露光装置。 - レチクルを保持するためのステージと投影光学系とを有し、レチクルと被処理体とを同期して走査し、前記投影光学系を介して、前記レチクルのパターンを前記被処理体に投影する露光装置であって、
基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測手段と、
前記投影光学系の光軸から第1の走査方向に変位した位置に配され、前記光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する第1の位置検出手段と、
前記投影光学系の光軸から前記第1の走査方向とは反対の第2の走査方向に変位した位置に配され、前記光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する第2の位置検出手段とを有することを特徴とする露光装置。 - 前記ステージならびに前記第1および第2の位置検出手段は、前記第1および第2の位置検出手段が前記パターン面の同じ位置を検出可能に構成されていることを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記位置検出手段が前記パターン面上の予め決められた位置に関し検出を行うように、前記位置計測手段の計測結果に基づいて、前記レチクルの位置決めを行う位置決め手段を更に有することを特徴とする請求項4記載の露光装置。
- 前記第1及び第2の位置検出手段がそれぞれ前記パターン面上の予め決められた位置に関し検出を行うように、前記位置計測手段の計測結果に基づいて、前記レチクルの位置決めを行う位置決め手段を更に有することを特徴とする請求項5記載の露光装置。
- 前記ステージは基準マークを有し、
前記位置計測手段は、前記レチクルと前記基準マークとの相対位置を検出する手段を含むことを特徴とする請求項1、4及び5のうちいずれか一項記載の露光装置。 - 前記レチクルの位置は、前記ステージの走査方向、前記ステージの走査方向と直交する方向及び前記投影光学系の光軸を中心とする回転方向の少なくとも一における位置であることを特徴とする請求項1、4及び5のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記位置計測手段と前記位置検出手段とを収納する筐体を更に有することを特徴とする請求項1乃至4のうちいずれか一項記載の露光装置。
- 前記位置計測手段ならびに前記第1及び第2の位置検出手段を収納する筐体を更に有することを特徴とする請求項5項記載の露光装置。
- 投影光学系を介して、ステージに保持されたレチクルのパターンを被処理体に投影する露光方法であって、
基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測ステップと、
前記位置計測ステップの計測結果に基づいて、前記レチクルのパターン面の形状を計測する形状計測ステップとを有することを特徴とする露光方法。 - レチクルと被処理体とを同期して走査し、投影光学系を介して、前記レチクルのパターンを前記被処理体に投影する露光方法であって、
基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測ステップと、
前記投影光学系の光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を、位置検出ユニットにより検出する位置検出ステップと、
前記ステージに前記レチクルを着脱する前記ステージの位置又は前記位置計測ステップにおいて前記レチクルの位置を計測する前記ステージの位置において、前記ステージ上に配された、前記位置検出ユニットを較正するための基準面の前記光軸に平行な方向における位置を前記位置検出ユニットにより検出する基準面検出ステップとを有することを特徴とする露光方法。 - レチクルと被処理体とを同期して走査し、投影光学系を介して、前記レチクルのパターンを前記被処理体に投影する露光方法であって、
基準部材に対する、前記ステージに保持された前記レチクルの位置を計測する位置計測ステップと、
前記投影光学系の光軸から第1の走査方向に変位した位置に配された第1の位置検出ユニットにより、前記光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する第1の位置検出ステップと、
前記投影光学系の光軸から前記第1の走査方向とは反対の第2の走査方向に変位した位置に配された第2の位置検出ユニットにより、前記光軸に平行な方向における前記レチクルのパターン面の位置を検出する第2の位置検出ステップとを有することを特徴とする露光方法。 - 請求項1乃至12のうちいずれか一項記載の露光装置を用いて被処理体を露光するステップと、
露光された前記被処理体を現像するステップとを有することを特徴とするデバイス製造方法。
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CN102540744A (zh) * | 2010-12-22 | 2012-07-04 | 上海微电子装备有限公司 | 掩模对准探测装置及方法 |
JP2018173663A (ja) * | 2014-01-16 | 2018-11-08 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
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