JP2013125788A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013125788A5
JP2013125788A5 JP2011272476A JP2011272476A JP2013125788A5 JP 2013125788 A5 JP2013125788 A5 JP 2013125788A5 JP 2011272476 A JP2011272476 A JP 2011272476A JP 2011272476 A JP2011272476 A JP 2011272476A JP 2013125788 A5 JP2013125788 A5 JP 2013125788A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
processing
transport
processed
energy consumption
path
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2011272476A
Other languages
English (en)
Other versions
JP6017134B2 (ja
JP2013125788A (ja
Filing date
Publication date
Priority claimed from JP2011272476A external-priority patent/JP6017134B2/ja
Priority to JP2011272476A priority Critical patent/JP6017134B2/ja
Application filed filed Critical
Priority to PCT/JP2012/078923 priority patent/WO2013088865A1/ja
Priority to KR1020147016031A priority patent/KR101953423B1/ko
Priority to TW101146792A priority patent/TWI557655B/zh
Publication of JP2013125788A publication Critical patent/JP2013125788A/ja
Priority to US14/303,059 priority patent/US10012980B2/en
Publication of JP2013125788A5 publication Critical patent/JP2013125788A5/ja
Publication of JP6017134B2 publication Critical patent/JP6017134B2/ja
Application granted granted Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Claims (13)

  1. 搬送経路沿いに配置された複数の処理装置のそれぞれの位置を考慮して、被処理体を処理すべき処理装置を選択する生産効率化装置と、
    搬送経路上の所定位置から前記選択された処理装置へ、前記被処理体を搬送する搬送装置を移動させる搬送制御装置と、を備えることを特徴とする生産処理システム。
  2. 前記生産効率化装置は、
    前記複数の処理装置から前記被処理体を処理可能な1または2以上の処理装置を選択する第1装置選択部と、
    前記第1装置選択部により選択された処理装置の中から、前記搬送経路上の所定位置からの搬送距離が最も短い処理装置を選択する第2装置選択部と、を有することを特徴とする請求項1に記載の生産処理システム。
  3. 前記生産効率化装置は、
    前記複数の処理装置のそれぞれの位置情報および搬送経路情報を有することを特徴とする請求項1または2に記載の生産処理システム。
  4. 前記搬送経路上の所定位置は、複数の処理装置が配置される搬送経路の一端に設けられ、前記搬送装置を一時的に格納するストッカを有することを特徴とする請求項1乃至3に記載の生産処理システム。
  5. 前記第1装置選択部は、前記被処理体を用いて生産される製品に応じて、前記被処理体を処理可能な処理装置を選択することを特徴とする請求項2に記載の生産処理システム。
  6. 前記生産効率化装置は、前記選択された処理装置の状態を取得する装置状態取得部を有し、
    前記搬送制御装置は、
    前記搬送経路上の所定位置から前記選択された処理装置の近傍の待機位置へ前記搬送装置を移動させ、この待機位置で前記搬送装置を停止させ、
    その後、前記選択された処理装置が前記被処理体を搬入できる状態になったことを前記装置状態取得部が取得すると、前記待機位置から前記選択された処理装置へ前記搬送装置を移動させることを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の生産処理システム。
  7. 前記複数の処理装置のそれぞれに対して設けられ、対応する処理装置の消費エネルギーを管理する複数の消費エネルギー管理部を備え、
    前記生産効率化装置は、前記消費エネルギー管理部で管理している処理装置の消費エネルギーと、前記搬送装置の消費エネルギーと、に基づいて、前記複数の処理装置全体および前記搬送装置で消費する消費エネルギーが予め定めた最大消費エネルギーを超えないように、前記被処理体を処理すべき処理装置を選択することを特徴とする請求項1乃至のいずれかに記載の生産処理システム。
  8. 搬送経路沿いに配置された複数の処理装置のそれぞれの位置を考慮して、被処理体を処理すべき処理装置を選択する装置選択部を備える生産効率化装置。
  9. 搬送経路沿いに配置された複数の処理装置のそれぞれの位置を考慮して、被処理体を処理すべき処理装置を選択するステップを備える生産効率化方法。
  10. 被処理体を処理する処理装置の状態を取得する装置状態取得部と、搬送経路上の所定位置から搬送経路沿いに配置された前記処理装置へ搬送させるための搬送指示を送信する搬送指示送信部と、を有する生産効率化装置と、
    前記搬送指示送信部からの搬送指示に応じて、前記搬送経路上の所定位置から前記処理装置の近傍の待機位置へ、前記被処理体を搬送する搬送装置を移動させ、この待機位置で前記搬送装置を停止させ、その後、前記処理装置が前記被処理体をマウント可能な状態になったことを前記装置状態取得部が取得すると、前記待機位置から前記処理装置へ前記搬送装置を移動させる搬送制御装置と、を備えることを特徴とする生産処理システム。
  11. 前記搬送経路上の所定位置と前記処理装置との間で前記搬送装置が移動するための主搬送経路と、
    前記処理装置の近傍に設けられ、前記主搬送軌道から分岐した待機経路と、を備え、
    前記待機位置は前記待機経路上に設定されることを特徴とする請求項10に記載の生産処理システム。
  12. 複数の処理装置のそれぞれに対して設けられ、対応する処理装置の消費エネルギーを管理する複数の消費エネルギー管理部を備え、
    前記生産効率化装置は、前記消費エネルギー管理部で管理している処理装置の消費エネルギーと、前記搬送装置の消費エネルギーと、に基づいて、前記複数の処理装置全体および前記搬送装置で消費する消費エネルギーが予め定めた最大消費エネルギーを超えないように、前記被処理体を処理すべき処理装置を判定する処理装置判定部を有し、
    前記搬送指示送信部は、前記所定位置から前記判定された処理装置への搬送指示を送信することを特徴とする請求項10または11に記載の生産処理システム。
  13. 搬送経路上の所定位置から、被処理体を処理する処理装置の近傍の待機位置へ、前記被処理体を搬送する搬送装置を移動させ、この待機位置で前記搬送装置を停止させるステップと、
    前記処理装置の状態を取得するステップと、
    前記処理装置が前記被処理体をマウント可能な状態になると、前記待機位置から前記処理装置へ前記搬送装置を移動させるステップと、を備えることを特徴とする生産効率化方法。
JP2011272476A 2011-12-13 2011-12-13 生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法 Expired - Fee Related JP6017134B2 (ja)

Priority Applications (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011272476A JP6017134B2 (ja) 2011-12-13 2011-12-13 生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法
PCT/JP2012/078923 WO2013088865A1 (ja) 2011-12-13 2012-11-08 生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法
KR1020147016031A KR101953423B1 (ko) 2011-12-13 2012-11-08 생산 효율화 시스템, 생산 효율화 장치 및 생산 효율화 방법
TW101146792A TWI557655B (zh) 2011-12-13 2012-12-12 Production efficiency system, production efficiency of the device and production efficiency of the method
US14/303,059 US10012980B2 (en) 2011-12-13 2014-06-12 Modifying operational efficiency by repositioning process apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011272476A JP6017134B2 (ja) 2011-12-13 2011-12-13 生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2016194348A Division JP6294427B2 (ja) 2016-09-30 2016-09-30 生産処理システムおよび生産効率化方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013125788A JP2013125788A (ja) 2013-06-24
JP2013125788A5 true JP2013125788A5 (ja) 2015-01-29
JP6017134B2 JP6017134B2 (ja) 2016-10-26

Family

ID=48612320

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011272476A Expired - Fee Related JP6017134B2 (ja) 2011-12-13 2011-12-13 生産効率化システム、生産効率化装置および生産効率化方法

Country Status (5)

Country Link
US (1) US10012980B2 (ja)
JP (1) JP6017134B2 (ja)
KR (1) KR101953423B1 (ja)
TW (1) TWI557655B (ja)
WO (1) WO2013088865A1 (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6172022B2 (ja) * 2014-03-28 2017-08-02 株式会社デンソー 搬送システム
JP6330596B2 (ja) * 2014-09-16 2018-05-30 株式会社デンソー 搬送システム
DE102015211941A1 (de) * 2015-06-26 2016-12-29 Zf Friedrichshafen Ag Verfahren und Vorrichtung zur Reduzierung eines Energiebedarfs einer Werkzeugmaschine und Werkzeugmaschinensystem
NL2017837A (en) * 2015-11-25 2017-06-02 Asml Netherlands Bv A Measurement Substrate and a Measurement Method
WO2017098813A1 (ja) * 2015-12-09 2017-06-15 村田機械株式会社 搬送システム及び搬送方法
JP6605951B2 (ja) * 2015-12-25 2019-11-13 株式会社東芝 シミュレーション装置及びシミュレーション方法
CN106909129B (zh) * 2017-02-23 2019-10-18 惠科股份有限公司 一种搬运管理的方法及系统
CN107024867B (zh) * 2017-06-01 2019-10-25 合肥工业大学 一种考虑前视距离的相容工件族的优化控制方法
CN111801785B (zh) * 2019-02-07 2023-09-05 株式会社日立高新技术 真空处理装置的运转方法

Family Cites Families (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4425537A (en) * 1978-06-26 1984-01-10 Optimetrix Corporation X-Y Addressable workpiece positioner and mask aligner using same
US4977361A (en) * 1978-06-26 1990-12-11 Eaton Corporation X-Y addressable workpiece positioner and mask aligner using same
US4687980A (en) * 1980-10-20 1987-08-18 Eaton Corporation X-Y addressable workpiece positioner and mask aligner using same
US4442388A (en) * 1980-04-02 1984-04-10 Optimetrix Corporation X-Y Addressable workpiece positioner having an improved X-Y address indicia sensor
US5399531A (en) 1990-12-17 1995-03-21 United Micrpelectronics Corporation Single semiconductor wafer transfer method and plural processing station manufacturing system
FR2676018B1 (fr) * 1991-05-02 1997-06-06 Prodel Jacques Installation pour la circulation de palettes motorisees porte-pieces.
DE4418206C2 (de) * 1994-05-25 1999-01-14 Siemens Ag CMOS-kompatibler Bipolartransistor und Herstellungsverfahren desselben
US6991012B2 (en) * 1996-03-21 2006-01-31 Coe Newnes/Mcgehee Inc. Apparatus for sawing a workpiece
USRE39579E1 (en) * 1997-04-04 2007-04-17 Renesas Technology Corp. Semiconductor integrated circuit device comprising RAM with command decode system and logic circuit integrated into a single chip and testing method of the RAM with command decode system
US6269279B1 (en) * 1997-06-20 2001-07-31 Tokyo Electron Limited Control system
JP2000099557A (ja) * 1998-09-25 2000-04-07 Hitachi Ltd 半導体集積回路装置、及びその製造方法、及び記憶媒体
TW425598B (en) * 1998-10-30 2001-03-11 Tokyo Electron Ltd Processing system
JP3662150B2 (ja) * 1998-10-30 2005-06-22 東京エレクトロン株式会社 処理システム
JP3487774B2 (ja) 1998-11-19 2004-01-19 沖電気工業株式会社 半導体装置製造工程の搬送方法
US6952020B1 (en) * 1999-07-06 2005-10-04 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and manufacturing method thereof
US6777254B1 (en) * 1999-07-06 2004-08-17 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and fabrication method thereof
EP1258915A1 (en) * 2001-05-17 2002-11-20 Infineon Technologies SC300 GmbH & Co. KG Method of detecting defects on a semiconductor device in a processing tool and an arrangement therefore
JP2002359272A (ja) * 2001-05-31 2002-12-13 Hirata Corp 処理システム
US6601227B1 (en) * 2001-06-27 2003-07-29 Xilinx, Inc. Method for making large-scale ASIC using pre-engineered long distance routing structure
US6944842B1 (en) * 2001-06-27 2005-09-13 Xilinx, Inc. Method for making large-scale ASIC using pre-engineered long distance routing structure
GB2394319B (en) * 2001-07-24 2005-06-22 Honda Motor Co Ltd Work transfer method and system
JP4073186B2 (ja) 2001-09-20 2008-04-09 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラム
US6615093B1 (en) * 2002-01-04 2003-09-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Adaptive control algorithm for improving AMHS push lot accuracy
US8621786B2 (en) * 2003-02-13 2014-01-07 Wei Chak Joseph Lam Efficient layout and design of production facility
WO2003106785A1 (en) * 2002-06-14 2003-12-24 Lam Wei Chak, Joseph Layout and design of production facility
US7269925B2 (en) * 2002-06-14 2007-09-18 Wei Chak Joseph Lam Layout of production facility
US6871115B2 (en) * 2002-10-11 2005-03-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Method and apparatus for monitoring the operation of a wafer handling robot
JP3999649B2 (ja) 2002-12-19 2007-10-31 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置とその動作方法、およびプログラム
JP4143828B2 (ja) 2003-03-14 2008-09-03 村田機械株式会社 搬送台車システム
JP4449319B2 (ja) * 2003-03-25 2010-04-14 株式会社デンソー 製造管理方法
US7861228B2 (en) * 2003-12-03 2010-12-28 Hewlett-Packard Development Company, L.P. Variable delay instruction for implementation of temporal redundancy
TW200525601A (en) * 2004-01-07 2005-08-01 Trecenti Technologies Inc Semiconductor manufacturing system, work manufacturing system, and conveyance system
US7512455B2 (en) * 2004-03-29 2009-03-31 Palo Alto Research Center Incorporated Method for self-synchronization of modular production systems
US7203563B2 (en) * 2004-04-08 2007-04-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Automatic N2 purge system for 300 mm full automation fab
US7966714B2 (en) * 2004-10-12 2011-06-28 Precision Automation, Inc. Multi-step systems for processing workpieces
WO2007029829A1 (ja) * 2005-09-09 2007-03-15 Nikon Corporation 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
KR100714274B1 (ko) * 2005-10-24 2007-05-02 삼성전자주식회사 반도체 제조설비의 관리시스템
TW200719423A (en) * 2005-11-04 2007-05-16 Powerchip Semiconductor Corp A method for material handling analysis
JP5091413B2 (ja) 2006-03-08 2012-12-05 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置および基板処理装置の制御方法
JP5032048B2 (ja) * 2006-03-31 2012-09-26 東京エレクトロン株式会社 基板処理装置の制御装置,制御方法および制御プログラムを記憶した記録媒体
JP2008124194A (ja) * 2006-11-10 2008-05-29 Canon Inc 液浸露光方法および液浸露光装置
KR20120089347A (ko) 2007-07-11 2012-08-09 히다치 가세고교 가부시끼가이샤 회로 부재 접속용 접착제
AU2008338406B2 (en) * 2007-12-17 2013-09-12 Landmark Graphics Corporation, A Halliburton Company Systems and methods for optimization of real time production operations
US8170861B2 (en) * 2008-07-29 2012-05-01 GM Global Technology Operations LLC Method for distributed hybrid emulation of manufacturing systems
US8781882B1 (en) * 2008-08-07 2014-07-15 Accenture Global Services Limited Automotive industry high performance capability assessment
JP5274339B2 (ja) * 2009-03-30 2013-08-28 大日本スクリーン製造株式会社 基板処理装置および基板搬送方法
US8458633B2 (en) * 2009-05-20 2013-06-04 Nec Corporation Semiconductor integrated circuit design apparatus and method for analyzing a delay in a semiconductor integrated circuit
EP2264529A3 (en) * 2009-06-16 2011-02-09 ASML Netherlands B.V. A lithographic apparatus, a method of controlling the apparatus and a method of manufacturing a device using a lithographic apparatus
KR101930981B1 (ko) * 2011-11-25 2018-12-19 도쿄엘렉트론가부시키가이샤 처리 장치군 컨트롤러, 생산 처리 시스템, 처리 장치군 제어 방법, 생산 효율화 시스템, 생산 효율화 장치 및 생산 효율화 방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013125788A5 (ja)
WO2015040082A3 (en) Method, system and device for providing information to an smt system operator
JP2014512582A5 (ja)
GB2520852A (en) Processor having multiple cores, shared core extension logic, and shared core extension utilization instructions
JP2015524374A5 (ja)
WO2014116861A3 (en) Parallel processing with proactive solidarity cells
WO2015044696A3 (en) Computer architecture and processing method
WO2015050610A3 (en) Method, system, and software for supporting multiple radar mission types
WO2013048154A3 (en) Group-wise device management system and method
EP2535077A3 (en) Catheter for antimicrobial control and method of manufacturing thereof
JP2010178498A5 (ja)
EP2829933A3 (en) Robot system, robot management computer, and method of manufacturing a robot system
WO2011003050A3 (en) Ordering a plurality of write commands associated with a storage device
EP2538297A3 (en) Manufacturing control system
EP2489468A3 (en) Eyeglass lens supplying system
GB201014767D0 (en) An apparatus and method for controlling power
GB2510743A (en) A Method and an apparatus for rigging up intervention equipment in a lifting arrangement utilized on a floating vessel
JP2012183633A5 (ja)
JP2017509558A5 (ja)
JP2013058735A5 (ja)
EP2685675A4 (en) COMPUTER SYSTEM, SERVER, OPENFLOW CONTROL DEVICE, AND COMMUNICATION METHOD
JP2014220970A5 (ja) 送電装置、送電装置の制御方法及びプログラム
MY189200A (en) System and method for handling reels for laying elongated members on the bed of a body of water, auxiliary structure, and laying vessel
EP2610747A3 (en) Information processing apparatus and method of controlling information processing apparatus
WO2015075817A9 (ja) 基板処理システム