JP2013124372A - 蒸着マスク及び蒸着マスクの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】基板上に複数の薄膜パターンを一定の配列ピッチで並べて成膜形成するための蒸着マスク1であって、前記基板と同じ面積を有し、前記薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて該薄膜パターンと同じ寸法形状の複数の開口パターン4を形成した可視光を透過する樹脂製フィルム2と、前記フィルム2の一面に密接され、前記開口パターン4に対応して該開口パターン4よりも寸法形状の大きい複数の貫通開口5を設けた磁性金属板からなる保持部材3と、を備えて構成され、前記保持部材3は、熱膨張係数が6×10−6/℃未満である。
【選択図】図1
Description
より好ましくは、前記保持部材は、インバーであるのが望ましい。
より好ましくは、前記保持部材は、インバーであるのが望ましい。
また、上記実施形態においては、開口パターン4及び貫通開口5が細長状の形状を有する場合について説明したが、本発明はこれに限られず、開口パターン4及び貫通開口5は、細長状のブリッジで複数の小単位に分離されていてもよい。
さらに、保持部材3は、周縁部の厚みを貫通開口5が形成された中央部の厚みよりも厚く形成されてもよい。
先ず、第1ステップは、図2(a)に示すように、少なくとも基板の面積と同じ面積を有する樹脂製のフィルム2に対して面積が小さく、厚みが30μm〜50μmで、熱膨張係数が6×10−6/℃未満の磁性金属板(例えば、インバー)からなる第1及び第2の単位保持部材3A,3Bを準備する。このとき、第1及び第2の単位保持部材3A,3Bには、フィルム2に形成しようとする開口パターン4よりも寸法形状の大きい複数の貫通開口5を、例えばレーザ加工やエッチング等により開口パターン4の配列ピッチPと同じ配列ピッチPで並べて予め形成されている。なお、第1及び第2の単位保持部材3A,3Bは、図1(a)に示すように、その一方端3a,3bが該一方端3a,3b側に位置する貫通開口5の中心線と許容範囲内で合致するように加工され、且つ該一方端3a,3bを中心に互いに線対称に形成されている。さらに、第1及び第2の単位保持部材3A,3Bには、後述の基準基板8に形成された図示省略の基板側アライメントマークに対して位置合わせするためのマスク側アライメントマーク6が形成されている。
最初に、図3及び図4を参照してTFT基板上に正孔注入層、正孔輸送層、R発光層、電子輸送層等の積層構造となるように順次成膜してR有機EL層14を形成する場合について説明する。この場合、先ず、図3(a)に示すように、第2の磁気チャック10に吸着して保持された蒸着マスク1を第1の磁気チャック9上に載置されたTFT基板11の上方に位置付け、同図(b)に示すように、マスク側アライメントマークとR用基板側アライメントマークとを顕微鏡により観察しながら、両マークが一定の位置関係となるように調整して蒸着マスク1とTFT基板11とを位置合わせした後、TFT基板11上にフィルム2を密着させる。これにより、蒸着マスク1の開口パターン4がTFT基板11のR対応アノード電極12R上に位置付けられることになる。
2…フィルム
3…保持部材
3A…第1の単位保持部材
3B…第2の単位保持部材
4…開口パターン
5…貫通開口
7…基準パターン
8…基準基板
9…第1の単位保持部材
10…第2の単位保持部材
13…電磁石
L…レーザ光
Claims (6)
- 基板上に複数の薄膜パターンを一定の配列ピッチで並べて成膜形成するための蒸着マスクであって、
前記基板と同じ面積を有し、前記薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて該薄膜パターンと同じ寸法形状の複数の開口パターンを形成した可視光を透過する樹脂製フィルムと、
前記フィルムの一面に密接され、前記開口パターンに対応して該開口パターンよりも寸法形状の大きい複数の貫通開口を設けた磁性金属板からなる保持部材と、
を備えて構成され、
前記保持部材は、熱膨張係数が6×10−6/℃未満であることを特徴とする蒸着マスク。 - 前記保持部材は、前記フィルムよりも面積が小さい形状の複数の単位保持部材からなり、
前記貫通開口が前記フィルムの開口パターンと同じ配列ピッチで並ぶようにして、前記複数の単位保持部材が前記フィルムの一面に密接されたことを特徴とする請求項1記載の蒸着マスク。 - 前記保持部材は、インバーであることを特徴とする請求項1又は2記載の蒸着マスク。
- 基板上に複数の薄膜パターンを一定の配列ピッチで並べて成膜形成するための蒸着マスクの製造方法であって、
熱膨張係数が6×10−6/℃未満の磁性金属板に前記薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて該薄膜パターンよりも形状の大きい複数の貫通開口を設けて保持部材を形成する第1ステップと、
可視光を透過する樹脂製フィルムの一面に前記保持部材を密接させる第2ステップと、
電磁石を内蔵した第1の磁気チャック上に載置され、前記薄膜パターンと同じ形状寸法の基準パターンを該薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並べて設けた基準基板に対して、前記保持部材の貫通開口内に前記基準パターンが位置するように前記保持部材を位置合わせした後、前記電磁石の磁力により前記保持部材を吸着して前記フィルムを前記基準基板面に密着させる第3ステップと、
前記保持部材の前記複数の貫通開口内にて、前記基準パターンに対応した前記フィルムの部分にレーザ光を照射して、前記薄膜パターンと形状寸法の同じ複数の貫通する開口パターンを形成する第4ステップと、
前記保持部材上に別の電磁石を内蔵した第2の磁気チャックを設置して該別の電磁石の磁力により前記保持部材を吸着し、前記基準基板上から前記フィルムを剥離する第5ステップと、
を行うことを特徴とする蒸着マスクの製造方法。 - 前記保持部材は、前記フィルムよりも面積の小さい複数の単位保持部材からなり、
前記第2ステップは、前記複数の単位保持部材を前記貫通開口が前記薄膜パターンの配列ピッチと同じ配列ピッチで並ぶようにして前記フィルムの一面に密接することを特徴とする請求項4記載の蒸着マスクの製造方法。 - 前記保持部材は、インバーであることを特徴とする請求項4又は5記載の蒸着マスクの製造方法。
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