JP2013115303A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013115303A5 JP2013115303A5 JP2011261561A JP2011261561A JP2013115303A5 JP 2013115303 A5 JP2013115303 A5 JP 2013115303A5 JP 2011261561 A JP2011261561 A JP 2011261561A JP 2011261561 A JP2011261561 A JP 2011261561A JP 2013115303 A5 JP2013115303 A5 JP 2013115303A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dose
- shot
- resist
- eth
- graphic pattern
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011261561A JP5841819B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| TW101137928A TWI457970B (zh) | 2011-11-30 | 2012-10-15 | Charge particle beam drawing device and charged particle beam drawing method |
| US13/669,716 US8759799B2 (en) | 2011-11-30 | 2012-11-06 | Charged particle beam writing apparatus and charged particle beam writing method |
| KR1020120136335A KR101352997B1 (ko) | 2011-11-30 | 2012-11-28 | 하전 입자빔 묘화 장치 및 하전 입자빔 묘화 방법 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2011261561A JP5841819B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2013115303A JP2013115303A (ja) | 2013-06-10 |
| JP2013115303A5 true JP2013115303A5 (enExample) | 2014-12-04 |
| JP5841819B2 JP5841819B2 (ja) | 2016-01-13 |
Family
ID=48465957
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2011261561A Active JP5841819B2 (ja) | 2011-11-30 | 2011-11-30 | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8759799B2 (enExample) |
| JP (1) | JP5841819B2 (enExample) |
| KR (1) | KR101352997B1 (enExample) |
| TW (1) | TWI457970B (enExample) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5841819B2 (ja) | 2011-11-30 | 2016-01-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP6057635B2 (ja) | 2012-09-14 | 2017-01-11 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| TWI533096B (zh) | 2013-05-24 | 2016-05-11 | Nuflare Technology Inc | Multi - charged particle beam mapping device and multi - charged particle beam rendering method |
| JP6567843B2 (ja) * | 2014-07-02 | 2019-08-28 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP6523767B2 (ja) * | 2015-04-21 | 2019-06-05 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
Family Cites Families (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP3655622B2 (ja) * | 1996-02-23 | 2005-06-02 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム描画方法及び描画装置 |
| JP3469422B2 (ja) * | 1996-02-23 | 2003-11-25 | 株式会社東芝 | 荷電ビーム描画方法及び描画装置 |
| JP2004140311A (ja) * | 2002-08-20 | 2004-05-13 | Sony Corp | 露光方法および露光装置 |
| JP4101247B2 (ja) * | 2004-03-31 | 2008-06-18 | Hoya株式会社 | 電子ビーム描画方法、リソグラフィマスクの製造方法及び電子ビーム描画装置 |
| JP4607623B2 (ja) * | 2005-03-03 | 2011-01-05 | 日本電子株式会社 | 電子ビーム描画方法及び装置 |
| WO2006109564A1 (ja) * | 2005-04-11 | 2006-10-19 | Shimadzu Corporation | 走査ビーム装置のデータ処理方法 |
| JP4476975B2 (ja) * | 2005-10-25 | 2010-06-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム照射量演算方法、荷電粒子ビーム描画方法、プログラム及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP4476987B2 (ja) * | 2005-10-26 | 2010-06-09 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法、プログラム及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| US7619230B2 (en) * | 2005-10-26 | 2009-11-17 | Nuflare Technology, Inc. | Charged particle beam writing method and apparatus and readable storage medium |
| JP5063071B2 (ja) * | 2006-02-14 | 2012-10-31 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | パタン作成方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP4976071B2 (ja) * | 2006-02-21 | 2012-07-18 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP5069052B2 (ja) * | 2007-07-30 | 2012-11-07 | 日本電子株式会社 | ドーズ補正方法及び荷電粒子ビーム描画装置 |
| JP4945380B2 (ja) * | 2007-09-05 | 2012-06-06 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP5570774B2 (ja) * | 2009-08-04 | 2014-08-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置および方法 |
| JP5616674B2 (ja) * | 2010-04-20 | 2014-10-29 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP5662756B2 (ja) | 2010-10-08 | 2015-02-04 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
| JP5841819B2 (ja) | 2011-11-30 | 2016-01-13 | 株式会社ニューフレアテクノロジー | 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法 |
-
2011
- 2011-11-30 JP JP2011261561A patent/JP5841819B2/ja active Active
-
2012
- 2012-10-15 TW TW101137928A patent/TWI457970B/zh active
- 2012-11-06 US US13/669,716 patent/US8759799B2/en active Active
- 2012-11-28 KR KR1020120136335A patent/KR101352997B1/ko active Active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2013115303A5 (enExample) | ||
| EP4026746A4 (en) | Generating an energy-efficient vehicle path | |
| IL286345A (en) | Adaptive error correction in quantum computing | |
| JP2013051164A5 (enExample) | ||
| WO2013079316A3 (en) | Apparatus and method for providing data to a programmable patterning device, a lithography apparatus and a device manufacturing method | |
| JP2014081412A5 (enExample) | ||
| JP2012523007A5 (enExample) | ||
| JP2014521370A5 (enExample) | ||
| JP2010273245A5 (enExample) | ||
| WO2013072377A3 (de) | Anordnung eines spiegels | |
| IL227499A0 (en) | A chemical composition with increased resistance, a resistant layer using this composition, resistant-coated mask gaps, a method for producing a photomask resistant pattern and a polymeric compound | |
| JP2014102202A5 (enExample) | ||
| JP2016520951A5 (enExample) | ||
| JP2013051154A5 (enExample) | ||
| JP2014515889A5 (enExample) | ||
| JP2015518628A5 (ja) | イオン注入装置、およびイオン注入装置の動作方法 | |
| HK1224398A1 (zh) | 数据生成 | |
| EP2761374A4 (en) | STRUCTURAL FORMING METHOD, ELECTRONIC SCREEN-SENSITIVE OR EXTREME UV RADIATION SENSITIVE COMPOSITION, RESISTANT SURFACE, METHOD OF MANUFACTURING AN ELECTRONIC DEVICE THEREFOR AND ELECTRONIC DEVICE | |
| MX385851B (es) | Dispositivo de adquisicion de imagenes, metodo de adquisicion de imagenes y programa de correccion de imagenes. | |
| EP3031066A4 (en) | Ferroelectric emitter for electron beam emission and radiation generation | |
| GB201620736D0 (en) | Methods, devices and computer programs for distance metric generation, error detection and correction in trajectories for mono-camera tracking | |
| CL2014001578A1 (es) | Cubierta para la recaptura de spray porque comprende una superficie de cubierta exterior que tiene un volumen de spray parcialmente abierto, al menos una boquilla para pulverizacion en una superficie interior, un borde delantero del volumen de spray, un borde posterior del volumen de spray; metodo para pulverizar un objeto. | |
| EP3029524A4 (en) | Radiation-sensitive resin composition, resist pattern formation method, polymer, and compound | |
| PT4078623T (pt) | Blindagem neutrónica em camadas | |
| JP2015517170A5 (enExample) |