JP2013104762A - X線分析装置および方法 - Google Patents
X線分析装置および方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013104762A JP2013104762A JP2011248202A JP2011248202A JP2013104762A JP 2013104762 A JP2013104762 A JP 2013104762A JP 2011248202 A JP2011248202 A JP 2011248202A JP 2011248202 A JP2011248202 A JP 2011248202A JP 2013104762 A JP2013104762 A JP 2013104762A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- ray
- detector
- intensity
- rotation angle
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/223—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by irradiating the sample with X-rays or gamma-rays and by measuring X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
- G01N23/20008—Constructional details of analysers, e.g. characterised by X-ray source, detector or optical system; Accessories therefor; Preparing specimens therefor
- G01N23/20016—Goniometers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2204—Specimen supports therefor; Sample conveying means therefore
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21K—TECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
- G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
- G21K1/06—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diffraction, refraction or reflection, e.g. monochromators
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/076—X-ray fluorescence
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/20—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by using diffraction of the radiation by the materials, e.g. for investigating crystal structure; by using scattering of the radiation by the materials, e.g. for investigating non-crystalline materials; by using reflection of the radiation by the materials
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Pathology (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明のX線分析装置は、試料Sを試料Sの所定点周りに回転させながら1次X線2を照射し、試料Sから発生する2次X線4の強度を試料Sの回転角度と対応させた回折パターンを取得して記憶し、回折パターンを、2次X線4の強度を示す直線で強度の高低方向に走査しながら、直線が示す強度以下の強度をもつ回折パターン上の点を候補点とし、隣接する候補点間の回転角度差の最大値が所定の角度になったときに走査を止めて候補点の回転角度を記憶し、試料Sの測定点の座標に応じて、記憶した候補点の回転角度の中から測定点の座標に最も近い回転角度を読み出し、読み出した回転角度に試料Sを設定するとともに、試料Sの測定点を検出器7の視野V内に配置する。
【選択図】図1
Description
2 1次X線
4 2次X線
7 検出器
8 試料台
10 試料の上方の領域
11 回転手段
12 平行移動手段
15 制御手段
A〜F 試料の測定点
L 2次X線の強度または強度比を示す直線
R 試料の半径
S 試料
T 検出器の視野の半径
V 検出器の視野
ω 試料の回転角度
Claims (4)
- 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に単色化した1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料の測定面上の任意の測定点が前記検出器の視野内に配置されるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料の測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段と、
前記X線源、平行移動手段および回転手段を制御する制御手段とを備え、
試料の縁近傍にある任意の測定点について、試料の上方の領域から単色化した1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析装置であって、
前記制御手段が、
試料の半径Rおよび試料の測定面における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められた角度2θ1以下であって、かつ4度以上である所定の角度をあらかじめ記憶しており、
sinθ1=(R−T)/R (1)
試料を試料の所定点周りに前記回転手段によって360度回転させながら前記X線源から単色化した1次X線を照射させ、前記検出器で検出する単色化した1次X線の波長の2次X線の強度を試料の回転角度と対応させた回折パターンを取得して記憶し、
前記回折パターンを、2次X線の強度を示す直線で強度の高低方向に走査しながら、前記直線が示す強度以下の強度をもつ前記回折パターン上の点を候補点とし、隣接する候補点間の回転角度差の最大値が前記所定の角度になったときに走査を止めて前記候補点の回転角度を記憶し、
試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した候補点の回転角度の中から測定点の座標に最も近い回転角度を読み出し、前記回転手段および平行移動手段を制御して、前記読み出した回転角度に試料を設定するとともに、試料の測定点を前記検出器の視野内に配置するX線分析装置。 - 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に単色化した1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料の測定面上の任意の測定点が前記検出器の視野内に配置されるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料の測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段と、
前記X線源、平行移動手段および回転手段を制御する制御手段とを備え、
試料の縁近傍にある任意の測定点について、試料の上方の領域から単色化した1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析装置であって、
前記制御手段が、
試料の半径Rおよび試料の測定面における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められた角度2θ1以下であって、かつ4度以上である所定の角度をあらかじめ記憶しており、
sinθ1=(R−T)/R (1)
試料を試料の所定点周りに前記回転手段によって360度回転させながら前記X線源から単色化した1次X線を照射させ、前記検出器で検出する単色化した1次X線の波長の2次X線の強度を前記検出器で検出する試料の主成分からの蛍光X線の強度で除した強度比について試料の回転角度と対応させた回折パターンを取得して記憶し、
前記回折パターンを、前記強度比を示す直線で強度比の高低方向に走査しながら、前記直線が示す強度比以下の強度比をもつ前記回折パターン上の点を候補点とし、隣接する候補点間の回転角度差の最大値が前記所定の角度になったときに走査を止めて前記候補点の回転角度を記憶し、
試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した候補点の回転角度の中から測定点の座標に最も近い回転角度を読み出し、前記回転手段および平行移動手段を制御して、前記読み出した回転角度に試料を設定するとともに、試料の測定点を前記検出器の視野内に配置するX線分析装置。 - 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に単色化した1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料の測定面上の任意の測定点が前記検出器の視野内に配置されるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料の測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段とを備えるX線分析装置を用いて、
試料の縁近傍にある任意の測定点について、試料の上方の領域から単色化した1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析方法であって、
試料の半径Rおよび試料の測定面における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められた角度2θ1以下であって、かつ4度以上である所定の角度をあらかじめ記憶しておき、
sinθ1=(R−T)/R (1)
試料を試料の所定点周りに前記回転手段によって360度回転させながら前記X線源から単色化した1次X線を照射させ、前記検出器で検出する単色化した1次X線の波長の2次X線の強度を試料の回転角度と対応させた回折パターンを取得して記憶し、
前記回折パターンを、2次X線の強度を示す直線で強度の高低方向に走査しながら、前記直線が示す強度以下の強度をもつ前記回折パターン上の点を候補点とし、隣接する候補点間の回転角度差の最大値が前記所定の角度になったときに走査を止めて前記候補点の回転角度を記憶し、
試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した候補点の回転角度の中から測定点の座標に最も近い回転角度を読み出し、前記回転手段および平行移動手段によって、前記読み出した回転角度に試料を設定するとともに、試料の測定点を前記検出器の視野内に配置するX線分析方法。 - 結晶構造を有する円板状の試料が載置される試料台と、
試料に単色化した1次X線を照射するX線源と、
試料から発生する2次X線を検出する検出器と、
試料の測定面上の任意の測定点が前記検出器の視野内に配置されるように前記試料台を平行移動させる平行移動手段と、
試料の測定面に垂直な軸を中心に前記試料台を回転させる回転手段とを備えるX線分析装置を用いて、
試料の縁近傍にある任意の測定点について、試料の上方の領域から単色化した1次X線が照射されて前記領域外へ反射するように位置させて測定するX線分析方法であって、
試料の半径Rおよび試料の測定面における前記検出器の視野の半径Tに基づいて次式(1)から求められた角度2θ1以下であって、かつ4度以上である所定の角度をあらかじめ記憶しておき、
sinθ1=(R−T)/R (1)
試料を試料の所定点周りに前記回転手段によって360度回転させながら前記X線源から単色化した1次X線を照射させ、前記検出器で検出する単色化した1次X線の波長の2次X線の強度を前記検出器で検出する試料の主成分からの蛍光X線の強度で除した強度比について試料の回転角度と対応させた回折パターンを取得して記憶し、
前記回折パターンを、前記強度比を示す直線で強度比の高低方向に走査しながら、前記直線が示す強度比以下の強度比をもつ前記回折パターン上の点を候補点とし、隣接する候補点間の回転角度差の最大値が前記所定の角度になったときに走査を止めて前記候補点の回転角度を記憶し、
試料の測定点の座標に応じて、前記記憶した候補点の回転角度の中から測定点の座標に最も近い回転角度を読み出し、前記回転手段および平行移動手段によって、前記読み出した回転角度に試料を設定するとともに、試料の測定点を前記検出器の視野内に配置するX線分析方法。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011248202A JP5092052B1 (ja) | 2011-11-14 | 2011-11-14 | X線分析装置および方法 |
DE112012004733.8T DE112012004733T5 (de) | 2011-11-14 | 2012-08-06 | Röntgenstrahlenanalysegerät und -verfahren |
DE202012013224.5U DE202012013224U1 (de) | 2011-11-14 | 2012-08-06 | Röntgenstrahlenanalysegerät |
US14/350,866 US9146204B2 (en) | 2011-11-14 | 2012-08-06 | X-ray analyzing apparatus and method |
PCT/JP2012/069979 WO2013073238A1 (ja) | 2011-11-14 | 2012-08-06 | X線分析装置および方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011248202A JP5092052B1 (ja) | 2011-11-14 | 2011-11-14 | X線分析装置および方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP5092052B1 JP5092052B1 (ja) | 2012-12-05 |
JP2013104762A true JP2013104762A (ja) | 2013-05-30 |
Family
ID=47469456
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011248202A Active JP5092052B1 (ja) | 2011-11-14 | 2011-11-14 | X線分析装置および方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9146204B2 (ja) |
JP (1) | JP5092052B1 (ja) |
DE (2) | DE202012013224U1 (ja) |
WO (1) | WO2013073238A1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9989484B2 (en) | 2015-04-13 | 2018-06-05 | Rigaku Corporation | X-ray fluorescence analyzing system |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2762862B1 (en) * | 2013-01-30 | 2017-03-08 | Bruker AXS GmbH | XRF measurement apparatus for detecting contaminations on the bevel of a wafer |
US9485380B2 (en) * | 2014-06-25 | 2016-11-01 | Fuji Xerox Co., Ltd. | Image reading apparatus, image forming apparatus and computer readable medium storing program |
US9851313B2 (en) * | 2015-03-03 | 2017-12-26 | Panalytical B.V. | Quantitative X-ray analysis—ratio correction |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0566204A (ja) * | 1990-06-28 | 1993-03-19 | Toshiba Corp | 全反射蛍光x線分析装置 |
JPH05126768A (ja) * | 1991-11-05 | 1993-05-21 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 蛍光x線の分析方法 |
JPH10282022A (ja) * | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Rigaku Ind Co | 蛍光x線分析方法および装置 |
JP2009210507A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Rigaku Corp | 全反射蛍光x線分析装置 |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08161049A (ja) | 1994-11-30 | 1996-06-21 | Rigaku Ind Co | 位置決め装置 |
JP2002005858A (ja) | 2000-06-20 | 2002-01-09 | Rigaku Industrial Co | 全反射蛍光x線分析装置 |
JP2011248202A (ja) | 2010-05-28 | 2011-12-08 | Funai Electric Co Ltd | 記録再生装置 |
-
2011
- 2011-11-14 JP JP2011248202A patent/JP5092052B1/ja active Active
-
2012
- 2012-08-06 US US14/350,866 patent/US9146204B2/en active Active
- 2012-08-06 DE DE202012013224.5U patent/DE202012013224U1/de not_active Expired - Lifetime
- 2012-08-06 DE DE112012004733.8T patent/DE112012004733T5/de not_active Ceased
- 2012-08-06 WO PCT/JP2012/069979 patent/WO2013073238A1/ja active Application Filing
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0566204A (ja) * | 1990-06-28 | 1993-03-19 | Toshiba Corp | 全反射蛍光x線分析装置 |
JPH05126768A (ja) * | 1991-11-05 | 1993-05-21 | Rigaku Denki Kogyo Kk | 蛍光x線の分析方法 |
JPH10282022A (ja) * | 1997-04-08 | 1998-10-23 | Rigaku Ind Co | 蛍光x線分析方法および装置 |
JP2009210507A (ja) * | 2008-03-06 | 2009-09-17 | Rigaku Corp | 全反射蛍光x線分析装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US9989484B2 (en) | 2015-04-13 | 2018-06-05 | Rigaku Corporation | X-ray fluorescence analyzing system |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5092052B1 (ja) | 2012-12-05 |
DE202012013224U1 (de) | 2015-07-14 |
US9146204B2 (en) | 2015-09-29 |
DE112012004733T5 (de) | 2014-09-11 |
US20150233845A1 (en) | 2015-08-20 |
WO2013073238A1 (ja) | 2013-05-23 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI388821B (zh) | 螢光x射線分析裝置及方法 | |
EP2108945B1 (en) | Computed tomography apparatus and method comprising a sample holder for holding a plurality of samples | |
JP5092052B1 (ja) | X線分析装置および方法 | |
US9080944B2 (en) | Method and apparatus for surface mapping using in-plane grazing incidence diffraction | |
JP6000696B2 (ja) | X線応力測定装置およびx線応力測定方法 | |
JP4884553B1 (ja) | X線分析装置および方法 | |
JP2013137297A (ja) | X線分析装置 | |
TWI591325B (zh) | 晶圓檢測系統及用以在晶圓檢測系統中監視入射光束位置之結構及方法 | |
JPH05126768A (ja) | 蛍光x線の分析方法 | |
JP5687014B2 (ja) | 光学式表面欠陥検査装置及び光学式表面欠陥検査方法 | |
JP5027694B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
JP4367820B2 (ja) | X線反射率測定装置 | |
JP2010117368A (ja) | X線回折装置及びx線調整方法 | |
JP4514785B2 (ja) | 全反射蛍光x線分析装置 | |
JP3422751B2 (ja) | 蛍光x線分析方法および装置 | |
JP2006105748A (ja) | ビーム入射を伴う分析方法 | |
JP2006177752A (ja) | X線分析装置 | |
JP2006162407A (ja) | 格子定数測定装置及び方法 | |
JP2016103534A (ja) | 軽元素測定装置及び軽元素測定方法 | |
JP2662524B2 (ja) | X線分析における試料の方位の判定方法および装置 | |
JP2014022174A (ja) | 試料台およびそれを備えた電子顕微鏡 | |
JP2009075018A (ja) | 蛍光x線分析装置および蛍光x線分析方法 | |
JPH0552775A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JPS58178948A (ja) | 電子線照射型分析装置の試料装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A975 | Report on accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971005 Effective date: 20120904 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120911 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120914 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150921 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5092052 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
SG99 | Written request for registration of restore |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316G99 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316805 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S803 | Written request for registration of cancellation of provisional registration |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R316805 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |