JP2013100237A5 - - Google Patents

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  1. 酢酸イソプロピルを主成分とする有機溶媒でスルホニウム化合物を抽出する工程を含む化１で表されるスルホニウム化合物の製造方法。
    Figure 2013100237
     （ただし、式中、Ｒ1は水素，メトキシカルボニル基，アセチル基，ベンゾイル基のいずれかを、Ｒ2は水素，ハロゲン，Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基のいずれかを、Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルキル基，Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基，α−ナフチルメチル基のいずれかを、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。ＸはＳbＦ6，ＰＦ6，ＡsＦ6，ＢＦ4，ＣＦ３ＳＯ３，(ＣＦ３ＳＯ2)２Ｎ，Ｂ(Ｃ6Ｆ5)4のいずれかを示す。）
  2. 化２で表されるスルホニウム化合物とＭＸで表される塩を、酢酸イソプロピルを主成分とする有機溶媒と水の２相系で反応させ、生成した化１で表されるスルホニウム化合物を有機溶媒層に抽出してなる請求項１に記載の化１で表されるスルホニウム化合物の製造方法。

    Figure 2013100237
    （ただし、式中、Ｒ1は水素，メトキシカルボニル基，アセチル基，ベンゾイル基のいずれかを、Ｒ2は水素，ハロゲン，Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基のいずれかを、Ｒ3はＣ1〜Ｃ4のアルキル基，Ｃ1〜Ｃ4のアルキル基で置換されていてもよいベンジル基，α−ナフチルメチル基のいずれかを、Ｒ4はＣ1〜Ｃ4のアルキル基を示す。Ｙはハロゲンまたはアルキル硫酸イオンを、Ｍはアルカリ金属，ＮＨ4を、ＸはＳbＦ6，ＰＦ6，ＡsＦ6，ＢＦ4，ＣＦ３ＳＯ３，(ＣＦ３ＳＯ2)２Ｎ，Ｂ(Ｃ6Ｆ5)4のいずれかを示す。）
  3. 請求項２に記載の化２で表されるスルホニウム化合物とＭＸで表される塩を水溶媒で反応させ、生成した化１で表されるスルホニウム化合物を、酢酸イソプロピルを主成分とする有機溶媒で有機溶媒層に抽出してなる請求項１に記載の化１で表されるスルホニウム化合物の製造方法。
  4. 請求項２または３に記載の製造方法において、抽出後の有機溶媒層に酢酸イソプロピル １容量に対して、トルエン、ヘキサン、ヘプタンから選ばれた一種または二種以上を０．５容量以下になるように混合してなる請求項１のスルホニウム化合物の製造方法。
  5. 酢酸イソプロピルを主成分とする有機溶媒が酢酸イソプロピル １容量に対して、トルエン、ヘキサン、ヘプタンから選ばれた一種または二種以上を０〜０．５容量混合したものである請求項１〜３のいずれかに記載のスルホニウム化合物の製造方法。
  6. 請求項２または３に記載の製造方法において、抽出後の有機溶媒層に酢酸イソプロピル １容量に対して、トルエン、ヘキサン、ヘプタンから選ばれた一種または二種以上を脱水のための溶媒として混合してなる請求項４のスルホニウム化合物の製造方法。
  7. 請求項１に記載の化１で表されるスルホニウム化合物の酢酸イソプロピル溶液。
  8. 酢酸イソプロピル １容量に対して、トルエン、ヘキサン、ヘプタンから選ばれた一種または二種以上を０〜０．５容量混合した有機溶媒に、請求項１に記載の化１で表されるスルホニウム化合物を溶解した溶液。


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