JP2013087015A - ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法 - Google Patents
ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013087015A JP2013087015A JP2011228673A JP2011228673A JP2013087015A JP 2013087015 A JP2013087015 A JP 2013087015A JP 2011228673 A JP2011228673 A JP 2011228673A JP 2011228673 A JP2011228673 A JP 2011228673A JP 2013087015 A JP2013087015 A JP 2013087015A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- substrate
- thickness
- rare earth
- rig
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
【解決手段】RIG膜の成分を溶かしたフラックス液面に、ガーネット基板を接触させてRIG膜を成長させる液相エピタキシャル成長方法であって、ガーネット基板の板厚が200μm以上350μm以下、RIG膜の膜厚が100μm以上300μm以下であることを特徴とし、特に、ガーネット基板の板厚をT(μm)、RIG膜の膜厚をt(μm)としたとき、上記要件に加えて、下記(数1)を満たすことを特徴とする。
-2T+700(μm) ≦ t ≦ -4T+1500(μm) (数1)
【選択図】図2
Description
ビスマス置換希土類−鉄ガーネット成分を溶かしたフラックス液面に、ガーネット基板を接触させてビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜を成長させるビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法において、
上記ガーネット基板の板厚が200μm以上350μm以下であり、ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の膜厚が100μm以上300μm以下であることを特徴とし、
請求項2に係る発明は、
請求項1に記載の発明に係るビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法において、
上記ガーネット基板の板厚をT(μm)、ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の膜厚をt(μm)としたとき、下式(数1)を満たすことを特徴とする。
次に、請求項3に係る発明は、
請求項1または2に記載の発明に係るビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法において、
上記フラックスが酸化系フラックスで構成され、ガーネット基板が化学式Gd3(ScGa)5O12で示されるGSGG基板で構成されると共に、ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜が化学式(Bi3-xRx)Fe5O12(但し、Rはランタノイド金属およびYの内から選択される2種以上の希土類元素であり、かつ、0<x<3である)で示されるビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜であることを特徴とする。
尚、実施例1〜8と比較例1〜4では、フラックスが酸化系フラックスで構成され、ガーネット基板が化学式Gd3(ScGa)5O12で示される「GSGG基板」により構成され、かつ、RIG膜が化学式Bi1.16Gd0.54Nd1.30Fe5O12で示されるビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜で構成されている。しかし、ガーネット基板については、例えば化学式(CaGd)3(ZrMgGa)5O12で示される「SGGG基板」、RIG膜についても化学式(Bi3-xRx)Fe5O12(但し、Rはランタノイド金属およびYの内から選択される2種以上の希土類元素であり、かつ、0<x<3である)で示される他のガーネット膜であっても機械的特性が大幅に変わることは無く、同等の結果が得られる。
[RIG膜の育成]
白金坩堝中に、PbO、Bi2O3、B2O3をフラックスとし、RIG成分を溶かし込んだ融液を、電気炉内で820℃に加熱しながら、その融液表面に1インチ径のGSGG基板を接触させ、このGSGG基板を100rpmで回転させて、化学式Bi1.16Gd0.54Nd1.30Fe5O12で示されるRIG膜を育成する。
[評価方法]
育成したRIG膜の評価方法は、実体顕微鏡(40〜50倍)で放射状、直線状のクラック発生の有無を確認する。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が200μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が250μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が300μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が350μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が200μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が250μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が300μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が350μmとして上記育成方法によりRIG膜を100枚育成した。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が180μmとして上記育成方法を試みたところ、基板の板厚が180μmの場合、ガーネットインゴットから切り出すときに割れ易く(加工時のクラック発生有り)、基板を製作する歩留りが極端に悪くなった。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が370μmとして上記育成方法によりRIG膜の育成を試みた。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が180μmとして上記育成方法を試みたところ、基板の板厚が180μmでは、ガーネットインゴットから切り出すときに割れ易く(加工時のクラック発生有り)、基板を製作する歩留りが極端に悪くなった。
ガーネット基板がGSGG、基板の板厚が370μmとして上記育成方法によりRIG膜の育成を試みた。
(1)全ての実施例では、基板の板厚が200μm以上350μm以下の範囲内で、RIG膜の膜厚が100μm以上300μm以下の範囲内にあり、全基板に対する不良基板の発生率が10%以下と優れている。
2 RIG膜
Claims (3)
- ビスマス置換希土類−鉄ガーネット成分を溶かしたフラックス液面に、ガーネット基板を接触させてビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜を成長させるビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法において、
上記ガーネット基板の板厚が200μm以上350μm以下であり、ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の膜厚が100μm以上300μm以下であることを特徴とするビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法。 - 上記ガーネット基板の板厚をT(μm)、ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の膜厚をt(μm)としたとき、下式(数1)を満たすことを特徴とする請求項1に記載のビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法。
-2T+700(μm) ≦ t ≦ -4T+1500(μm) (数1) - 上記フラックスが酸化系フラックスで構成され、ガーネット基板が化学式Gd3(ScGa)5O12で示されるGSGG基板で構成されると共に、ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜が化学式(Bi3-xRx)Fe5O12(但し、Rはランタノイド金属およびYの内から選択される2種以上の希土類元素であり、かつ、0<x<3である)で示されるビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜であることを特徴とする請求項1または2に記載のビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011228673A JP5659999B2 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011228673A JP5659999B2 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013087015A true JP2013087015A (ja) | 2013-05-13 |
JP5659999B2 JP5659999B2 (ja) | 2015-01-28 |
Family
ID=48531292
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011228673A Expired - Fee Related JP5659999B2 (ja) | 2011-10-18 | 2011-10-18 | ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5659999B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015182937A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 住友金属鉱山株式会社 | Gsgg単結晶の製造方法と酸化物ガーネット単結晶膜の製造方法 |
JP2018095486A (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 住友金属鉱山株式会社 | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜とその製造方法、及び光アイソレータ |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0632698A (ja) * | 1992-07-17 | 1994-02-08 | Namiki Precision Jewel Co Ltd | 磁気光学材料およびその製造方法 |
JPH06281902A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 磁気光学素子材料 |
JPH0959093A (ja) * | 1995-08-21 | 1997-03-04 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | Lpe法による磁性ガーネット単結晶の製造方法 |
-
2011
- 2011-10-18 JP JP2011228673A patent/JP5659999B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0632698A (ja) * | 1992-07-17 | 1994-02-08 | Namiki Precision Jewel Co Ltd | 磁気光学材料およびその製造方法 |
JPH06281902A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | 磁気光学素子材料 |
JPH0959093A (ja) * | 1995-08-21 | 1997-03-04 | Fuji Elelctrochem Co Ltd | Lpe法による磁性ガーネット単結晶の製造方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015182937A (ja) * | 2014-03-25 | 2015-10-22 | 住友金属鉱山株式会社 | Gsgg単結晶の製造方法と酸化物ガーネット単結晶膜の製造方法 |
JP2018095486A (ja) * | 2016-12-08 | 2018-06-21 | 住友金属鉱山株式会社 | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜とその製造方法、及び光アイソレータ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5659999B2 (ja) | 2015-01-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPWO2012014796A1 (ja) | ガーネット型単結晶、光アイソレータ及びレーザ加工機 | |
JP5659999B2 (ja) | ビスマス置換希土類−鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル成長方法 | |
JP2004269305A (ja) | 磁性ガーネット単結晶膜形成用基板、その製造方法、光学素子およびその製造方法 | |
US9303333B2 (en) | Bismuth-substituted rare-earth iron garnet crystal film and optical isolator | |
US9322111B2 (en) | Bismuth-substituted rare-earth iron garnet crystal film and optical isolator | |
JP2015086108A (ja) | 非磁性ガーネット単結晶基板の製造方法 | |
JP2007008759A (ja) | ビスマス置換磁性ガーネット膜及びその製造方法 | |
JP2017200864A (ja) | CaMgZr置換型ガドリニウム・ガリウム・ガーネット(SGGG)単結晶とその育成方法 | |
JPWO2004070091A1 (ja) | 磁性ガーネット単結晶膜形成用基板、その製造方法、光学素子およびその製造方法 | |
JP5966945B2 (ja) | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の熱処理方法 | |
JP7327148B2 (ja) | ビスマス置換希土類-鉄ガーネット膜の液相エピタキシャル育成方法 | |
JP2008143738A (ja) | 磁性ガーネット単結晶及びその製造方法 | |
JP2007210879A (ja) | 磁性ガーネット単結晶及びその製造方法並びにそれを用いた光学素子 | |
JP2017024960A (ja) | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜の製造方法、ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜 | |
JP5459245B2 (ja) | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜と光アイソレータ | |
JP4415630B2 (ja) | 磁性ガーネット単結晶膜育成用基板及びそれを用いた磁性ガーネット単結晶膜の製造方法 | |
JP2013095608A (ja) | ビスマス置換希土類鉄ガーネット結晶、その製造方法、及びファラデー回転子 | |
JP2011256073A (ja) | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜の製造方法 | |
JP2007302517A (ja) | ビスマス置換型ガーネット膜の製造方法 | |
JP2004269283A (ja) | 磁性ガーネット単結晶膜形成用基板、その製造方法、光学素子およびその製造方法 | |
JP2016074568A (ja) | 非磁性ガーネット単結晶基板と磁性ガーネット単結晶膜および光学素子 | |
JP5459244B2 (ja) | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜と光アイソレータ | |
JP2005314135A (ja) | ビスマス置換型磁性ガーネット膜の製造方法および膜 | |
JP5459243B2 (ja) | ビスマス置換型希土類鉄ガーネット結晶膜と光アイソレータ | |
JP2009147184A (ja) | ビスマス置換希土類鉄ガーネット単結晶の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20131225 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140520 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140527 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140717 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20141104 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20141117 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5659999 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |