JP2013070023A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2013070023A5
JP2013070023A5 JP2012111419A JP2012111419A JP2013070023A5 JP 2013070023 A5 JP2013070023 A5 JP 2013070023A5 JP 2012111419 A JP2012111419 A JP 2012111419A JP 2012111419 A JP2012111419 A JP 2012111419A JP 2013070023 A5 JP2013070023 A5 JP 2013070023A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mold
substrate
imprint apparatus
unit
holding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2012111419A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP6004738B2 (ja
JP2013070023A (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2012111419A priority Critical patent/JP6004738B2/ja
Priority claimed from JP2012111419A external-priority patent/JP6004738B2/ja
Priority to US13/603,575 priority patent/US9400426B2/en
Publication of JP2013070023A publication Critical patent/JP2013070023A/ja
Publication of JP2013070023A5 publication Critical patent/JP2013070023A5/ja
Priority to US15/191,715 priority patent/US10095117B2/en
Application granted granted Critical
Publication of JP6004738B2 publication Critical patent/JP6004738B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

JP2012111419A 2011-09-07 2012-05-15 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法 Expired - Fee Related JP6004738B2 (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2012111419A JP6004738B2 (ja) 2011-09-07 2012-05-15 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
US13/603,575 US9400426B2 (en) 2011-09-07 2012-09-05 Imprint apparatus
US15/191,715 US10095117B2 (en) 2011-09-07 2016-06-24 Imprint apparatus

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2011194583 2011-09-07
JP2011194583 2011-09-07
JP2012111419A JP6004738B2 (ja) 2011-09-07 2012-05-15 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2013070023A JP2013070023A (ja) 2013-04-18
JP2013070023A5 true JP2013070023A5 (https=) 2015-07-09
JP6004738B2 JP6004738B2 (ja) 2016-10-12

Family

ID=47752508

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2012111419A Expired - Fee Related JP6004738B2 (ja) 2011-09-07 2012-05-15 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Country Status (2)

Country Link
US (2) US9400426B2 (https=)
JP (1) JP6004738B2 (https=)

Families Citing this family (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6069689B2 (ja) * 2012-07-26 2017-02-01 大日本印刷株式会社 ナノインプリント用テンプレート
JP2014033050A (ja) * 2012-08-02 2014-02-20 Toshiba Corp インプリントシステム及びインプリント方法
JP6271875B2 (ja) * 2013-06-18 2018-01-31 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法および物品の製造方法
JP6282069B2 (ja) 2013-09-13 2018-02-21 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、検出方法及びデバイス製造方法
JP6538695B2 (ja) 2013-12-31 2019-07-03 キャノン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド パーシャルフィールドインプリントのための非対称的なテンプレート形状の調節
JP6497849B2 (ja) * 2014-04-15 2019-04-10 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
CN112445064A (zh) * 2014-04-22 2021-03-05 Ev 集团 E·索尔纳有限责任公司 用于压印纳米结构的方法和装置
JP6472189B2 (ja) * 2014-08-14 2019-02-20 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6659104B2 (ja) * 2014-11-11 2020-03-04 キヤノン株式会社 インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法
JP6674218B2 (ja) * 2014-12-09 2020-04-01 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6478635B2 (ja) * 2015-01-05 2019-03-06 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法及び物品の製造方法
JP6553926B2 (ja) * 2015-04-09 2019-07-31 キヤノン株式会社 インプリント装置、インプリント方法、および物品の製造方法
JP6647027B2 (ja) * 2015-12-03 2020-02-14 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP6942491B2 (ja) * 2016-03-15 2021-09-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品の製造方法
KR101737817B1 (ko) * 2016-06-15 2017-05-19 울산과학기술원 재료 시험 장치 및 이를 이용한 재료 시험방법
JP6706983B2 (ja) 2016-07-12 2020-06-10 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP2018041774A (ja) * 2016-09-05 2018-03-15 キヤノン株式会社 インプリント装置および物品製造方法
JP6762853B2 (ja) * 2016-11-11 2020-09-30 キヤノン株式会社 装置、方法、及び物品製造方法
JP6940944B2 (ja) * 2016-12-06 2021-09-29 キヤノン株式会社 インプリント装置、及び物品製造方法
US10497667B2 (en) 2017-09-26 2019-12-03 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Apparatus for bond wave propagation control
JP7033994B2 (ja) * 2018-04-11 2022-03-11 キヤノン株式会社 成形装置及び物品の製造方法
JP7233174B2 (ja) * 2018-05-17 2023-03-06 キヤノン株式会社 インプリント装置、物品製造方法、平坦化層形成装置、情報処理装置、及び、決定方法
JP7237519B2 (ja) * 2018-10-25 2023-03-13 キヤノン株式会社 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置、成形方法、および物品の製造方法
US11442359B2 (en) 2019-03-11 2022-09-13 Canon Kabushiki Kaisha Method of separating a template from a shaped film on a substrate
JP7284639B2 (ja) 2019-06-07 2023-05-31 キヤノン株式会社 成形装置、および物品製造方法
US12600062B2 (en) 2019-12-02 2026-04-14 Ev Group E. Thallner Gmbh Method and device for detaching a stamp
JP7414508B2 (ja) * 2019-12-16 2024-01-16 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
US11614693B2 (en) 2021-06-30 2023-03-28 Canon Kabushiki Kaisha Method of determining the initial contact point for partial fields and method of shaping a surface
US12235587B2 (en) 2023-03-28 2025-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Method and system for determining initial contact control values for shaping partial fields and method and system for shaping partial fields
JP7675130B2 (ja) * 2023-05-23 2025-05-12 キヤノン株式会社 インプリント装置、および物品製造方法
CN119225114B (zh) * 2024-12-03 2025-02-25 江苏快克芯装备科技有限公司 一种晶片覆膜装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10172897A (ja) * 1996-12-05 1998-06-26 Nikon Corp 基板アダプタ,基板保持装置及び基板保持方法
US7019819B2 (en) * 2002-11-13 2006-03-28 Molecular Imprints, Inc. Chucking system for modulating shapes of substrates
MY164487A (en) * 2002-07-11 2017-12-29 Molecular Imprints Inc Step and repeat imprint lithography processes
US6900881B2 (en) * 2002-07-11 2005-05-31 Molecular Imprints, Inc. Step and repeat imprint lithography systems
ATE438197T1 (de) * 2002-11-13 2009-08-15 Molecular Imprints Inc Ein halterungssystem und ein verfahren zum modulieren von substratformen
US8166876B2 (en) * 2005-05-03 2012-05-01 Koninklijke Philips Electronics N.V. Method and device for transferring a pattern from a stamp to a substrate
CN101573659A (zh) 2005-12-08 2009-11-04 分子制模股份有限公司 排除位于基板和模具之间的气体的方法
US8945444B2 (en) * 2007-12-04 2015-02-03 Canon Nanotechnologies, Inc. High throughput imprint based on contact line motion tracking control
US8652393B2 (en) * 2008-10-24 2014-02-18 Molecular Imprints, Inc. Strain and kinetics control during separation phase of imprint process
US8309008B2 (en) * 2008-10-30 2012-11-13 Molecular Imprints, Inc. Separation in an imprint lithography process
JP4940262B2 (ja) * 2009-03-25 2012-05-30 株式会社東芝 インプリントパターン形成方法
JP5669377B2 (ja) * 2009-11-09 2015-02-12 キヤノン株式会社 インプリント装置及び物品の製造方法
JP5750992B2 (ja) * 2011-04-27 2015-07-22 大日本印刷株式会社 インプリント方法およびそれを実施するためのインプリント装置
JP5893303B2 (ja) * 2011-09-07 2016-03-23 キヤノン株式会社 インプリント装置、それを用いた物品の製造方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2013070023A5 (https=)
JP6659104B2 (ja) インプリント方法、インプリント装置、型、および物品の製造方法
US9400426B2 (en) Imprint apparatus
JP5893303B2 (ja) インプリント装置、それを用いた物品の製造方法
JP5744590B2 (ja) インプリント方法、型、それらを用いた物品の製造方法
US8678808B2 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method
KR102602905B1 (ko) 성형 장치 및 물품 제조 방법
KR102238990B1 (ko) 임프린트 장치 및 물품 제조 방법
US10620532B2 (en) Imprint method, imprint apparatus, mold, and article manufacturing method
JP2013058517A5 (https=)
KR101673580B1 (ko) 마이크로 디바이스의 전사장치, 마이크로 디바이스의 전사방법, 및 그 전사장치의 제조방법
US10018909B2 (en) Imprint apparatus and method of manufacturing article
US9568819B2 (en) Holding apparatus, imprint apparatus and article manufacturing method using same
JP2013008911A (ja) クリーニング方法、それを用いたインプリント装置および物品の製造方法
US20160257060A1 (en) Imprint apparatus, imprint method, and article manufacturing method
JP2013098497A (ja) インプリント装置及び物品の製造方法
JP2017112230A (ja) インプリント装置および物品製造方法
US20150328827A1 (en) Imprint apparatus and article manufacturing method
JP6995530B2 (ja) 型を用いて基板上の組成物を成形する成形装置及び物品の製造方法
JP2014022527A5 (https=)