JP2013069902A - テンプレートの再生方法および再生装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】実施形態に係るテンプレートの再生方法は、凹凸パターンが設けられた転写面と、前記転写面に結合した無機官能基部と有機官能基部を含む離型層を有するテンプレートの再生方法であって、前記離型層の有機官能基部を酸化分解により除去する工程と、前記離型層の無機官能基部を除去する工程と、前記転写面にシランカップリング剤を結合させて前記離型層を形成する工程とを備える。
【選択図】図1
Description
図1は、第1の実施形態に係るテンプレートの再生方法を説明するフローチャートである。
(第2の実施形態)
第2の実施形態は、第1の実施形態において説明した再生方法により、テンプレートを再生する再生装置について説明するものである。図5及び図6に、本実施形態に係るテンプレートの再生装置を示す。図5は再生装置を上面から見た図であり、図6は再生装置の断面図(横方向から見た図)である。
Claims (7)
- 凹凸パターンが設けられた転写面と、前記転写面に結合した無機官能基部と有機官能基部を含む離型層を有するテンプレートの再生方法であって、
前記離型層の有機官能基部を酸化分解により除去する工程と、
前記離型層の無機官能基部を除去する工程と、
前記転写面にシランカップリング剤を結合させて前記離型層を形成する工程と
を備えることを特徴とするテンプレートの再生方法。 - 前記離型層の無機官能基部を除去する工程は、アンモニア、コリン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、フッ化水素水のうち、少なくともいずれか1つを含む薬液を用いた薬液処理により行われる
ことを特徴とする請求項1に記載のテンプレートの再生方法。 - 前記離型層の無機官能基部を除去する工程において、0.15nm以上のエッチングを行う
ことを特徴とする請求項1又は請求項2に記載のテンプレートの再生方法。 - 前記酸化分解は、紫外線照射、酸による薬液処理、プラズマ照射、オゾン処理のいずれかによって行われることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか一項に記載のテンプレートの再生方法。
- 前記離型層は、前記シランカップリング剤のケイ素原子が酸素を介して前記転写面と共有結合した無機官能基部と、前記ケイ素原子に隣接した有機官能基部とを含む
ことを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか一項に記載のテンプレートの再生方法。 - 前記有機官能基部は、アルキル基、フルオロ基のいずれかを含むことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか一項に記載のテンプレートの再生方法。
- 凹凸パターンが設けられた転写面と、前記転写面に結合した無機官能基部と有機官能基部を含む離型層を有するテンプレートの再生装置であって、
前記離型層の有機官能基部を酸化分解により除去する第1処理部と、
前記離型層の無機官能基部を除去する第2処理部と、
前記転写面にシランカップリング剤を結合させて前記離型層を形成する第3処理部と
を備えることを特徴とするテンプレートの再生装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207821A JP2013069902A (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | テンプレートの再生方法および再生装置 |
TW101132403A TWI483829B (zh) | 2011-09-22 | 2012-09-05 | 模板再生方法及再生裝置 |
US13/606,199 US9475213B2 (en) | 2011-09-22 | 2012-09-07 | Method for reproducing template and reproducing apparatus |
CN201210347807.3A CN103092010B (zh) | 2011-09-22 | 2012-09-18 | 再生模板的方法和再生设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011207821A JP2013069902A (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | テンプレートの再生方法および再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013069902A true JP2013069902A (ja) | 2013-04-18 |
Family
ID=48204752
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011207821A Pending JP2013069902A (ja) | 2011-09-22 | 2011-09-22 | テンプレートの再生方法および再生装置 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9475213B2 (ja) |
JP (1) | JP2013069902A (ja) |
CN (1) | CN103092010B (ja) |
TW (1) | TWI483829B (ja) |
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- 2012-09-07 US US13/606,199 patent/US9475213B2/en active Active
- 2012-09-18 CN CN201210347807.3A patent/CN103092010B/zh active Active
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CN103092010B (zh) | 2015-11-25 |
TW201318804A (zh) | 2013-05-16 |
TWI483829B (zh) | 2015-05-11 |
US20130233829A1 (en) | 2013-09-12 |
US9475213B2 (en) | 2016-10-25 |
CN103092010A (zh) | 2013-05-08 |
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A621 | Written request for application examination |
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A977 | Report on retrieval |
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