JP2013056856A - シクロヘキサントリカルボン酸無水物のトランス体製造法 - Google Patents
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Abstract
Description
また、本発明は該製造方法で得られたtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を無水化することを特徴とするtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物の製造方法に関するものである。
本発明の原料となるシクロヘキサントリカルボン酸異性体混合物の製造方法は特に限定されないが、下記式(4)に示されるtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を含んでいることが必要となる。
下記式(3)に示されるcis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸は、加熱によって異性化が進行する。cis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を150℃〜250℃加熱溶融させることでtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸が一定の割合で生じる。また、この時、脱水縮合も進行してシクロヘキサントリカルボン酸無水物が生じる。例えば(特許文献3)に記載された方法を用いることにより、下記式(1)に示されるtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物と下記式(2)に示されるcis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物の混合物を得ることができる。この無水物異性体混合物に重量で0.5〜5倍量、好ましくは1〜3倍量の水を加えて加熱することで加水分解を進行させ、精製原料としてのシクロヘキサントリカルボン酸の異性体混合物を得ることができる。この場合の加熱温度は60〜100℃が好ましく、75〜85℃がより好ましい。
本発明におけるシクロヘキサントリカルボン酸の精製は、シクロヘキサントリカルボン酸の異性体混合物に、重量で1〜5倍量、好ましくは2〜3倍量の水を加えて、加熱(温度は20〜100℃が好ましく、40〜90℃がより好ましい)することでより水への溶解度の高いcis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を優先的に溶解させ、晶析によってtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を得ることができる。
trans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を無水化(脱水縮合)、好ましくは氷酢酸溶媒(重量で2〜5倍量、好ましくは2.5〜3.5倍量)中、無水酢酸(1.0当量〜2.0当量、好ましくは1.1〜1.3当量)を用いて無水化(脱水縮合)することでtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物を得ることができる。
300mLナス型フラスコに(特許文献3)実施例1と同様にして得られた液状シクロヘキサントリカルボン酸無水物(trans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物58質量%、cis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物4質量%)50gと水150gを加えて、80℃で1時間攪拌した。その後、反応系を常温(25℃)まで冷却して、結晶を析出させた。この結晶を、ブフナーロートを用いて吸引ろ過後、真空乾燥することにより、trans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を収率80%、純度97%で得た。
次に、得られたtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸30gを、氷酢酸105gを溶媒として300mLナス型フラスコに仕込み、そこに無水酢酸15gを添加した。反応系を100℃まで昇温してから2時間で反応を終了とし、エバポレーターを用いて溶媒を除去することで結晶を析出させた。得られた結晶を、ブフナーロートを用いて吸引ろ過し、結晶に対しトルエン2gを用いたリンスを2回行った。真空乾燥することにより、trans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物を収率95%、純度99%で得た。
これによってシクロヘキサントリカルボン酸無水物の用途である、塗料、接着剤、成型品、光半導体の封止剤用樹脂、あるいは液晶表示装置(LCD)、固体撮像素子(CCD)、エレクトロルミネッセンス(EL)装置等を構成するカラーフィルターの保護膜用塗工液等に好適に使用できる熱硬化性樹脂組成物の硬化剤、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、アルキッド樹脂等の原料や改質剤、可塑剤や潤滑油原料、医農薬中間体、塗料用樹脂原料、トナー用樹脂等にさらなる特性を与えられる可能性があり、工業的意義が大きい。
Claims (3)
- 水を用いた晶析により、cis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸とtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸の混合物から、trans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を分離することを特徴とするtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸の製造方法。
- 前記混合物が、cis, cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物とtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物の混合物を加水分解して得られたものである請求項1に記載のtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の方法で得られたtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸を無水化することを特徴とするtrans, trans−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸−1,2−無水物の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016152470A1 (ja) * | 2015-03-20 | 2016-09-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジカルボン酸化合物の精製方法 |
JP2017081178A (ja) * | 2017-02-08 | 2017-05-18 | 永大産業株式会社 | 木質ボードおよびその製造方法 |
WO2018180696A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2018-10-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | cis,cis-1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸結晶の製造方法 |
WO2020129466A1 (ja) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | シクロヘキサントリカルボン酸無水物の結晶の製造方法および結晶 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5988442A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 脂環式トリカルボン酸又はその無水物の製造方法 |
US5412108A (en) * | 1994-01-05 | 1995-05-02 | Amoco Corporation | Method for preparing 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid and anhydride |
JP2003286222A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-10-10 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水素化芳香族ポリカルボン酸の製造方法及び水素化芳香族ポリカルボン酸無水物の製造方法 |
JP2008163087A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | エステル基含有脂環式テトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
-
2011
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5988442A (ja) * | 1982-11-12 | 1984-05-22 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 脂環式トリカルボン酸又はその無水物の製造方法 |
US5412108A (en) * | 1994-01-05 | 1995-05-02 | Amoco Corporation | Method for preparing 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid and anhydride |
JP2003286222A (ja) * | 2001-12-28 | 2003-10-10 | Mitsubishi Gas Chem Co Inc | 水素化芳香族ポリカルボン酸の製造方法及び水素化芳香族ポリカルボン酸無水物の製造方法 |
JP2008163087A (ja) * | 2006-12-27 | 2008-07-17 | Mitsubishi Chemicals Corp | エステル基含有脂環式テトラカルボン酸二無水物の製造方法 |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2016152470A1 (ja) * | 2015-03-20 | 2016-09-29 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジカルボン酸化合物の精製方法 |
JPWO2016152470A1 (ja) * | 2015-03-20 | 2017-12-28 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ジカルボン酸化合物の精製方法 |
JP2017081178A (ja) * | 2017-02-08 | 2017-05-18 | 永大産業株式会社 | 木質ボードおよびその製造方法 |
WO2018180696A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2018-10-04 | 三菱瓦斯化学株式会社 | cis,cis-1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸結晶の製造方法 |
KR20190135475A (ko) * | 2017-03-29 | 2019-12-06 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | cis,cis-1,2,4-시클로헥산트리카르본산결정의 제조방법 |
JPWO2018180696A1 (ja) * | 2017-03-29 | 2020-02-06 | 三菱瓦斯化学株式会社 | cis,cis−1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸結晶の製造方法 |
US11021428B2 (en) | 2017-03-29 | 2021-06-01 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Method for producing cis,cis-1,2,4-cyclohexane tricarboxylic acid crystal |
JP7103349B2 (ja) | 2017-03-29 | 2022-07-20 | 三菱瓦斯化学株式会社 | cis,cis-1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸結晶の製造方法 |
TWI785021B (zh) * | 2017-03-29 | 2022-12-01 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | cis,cis-1,2,4-環己烷三羧酸結晶之製造方法 |
KR102599901B1 (ko) | 2017-03-29 | 2023-11-09 | 미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 | cis,cis-1,2,4-시클로헥산트리카르본산결정의 제조방법 |
WO2020129466A1 (ja) * | 2018-12-21 | 2020-06-25 | 三菱瓦斯化学株式会社 | シクロヘキサントリカルボン酸無水物の結晶の製造方法および結晶 |
TWI835944B (zh) * | 2018-12-21 | 2024-03-21 | 日商三菱瓦斯化學股份有限公司 | 環己烷三羧酸酐之結晶之製造方法及結晶 |
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Publication number | Publication date |
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JP5751104B2 (ja) | 2015-07-22 |
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