JP2013053350A - ターゲット及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】本発明のターゲットは、ZnO及びZn2SnO4からなる。錫(Sn)及び亜鉛(Zn)の原子数比Zn/(Zn+Sn)が0.81〜0.94の範囲にある。ZnOの平均粒径が2[μm]以上の範囲にある一方、Zn2SnO4の平均粒径が14[μm]以下の範囲にある。ターゲットの体積抵抗率は1E−01[Ωcm]以下であり、気孔率は1.7%以下である。
【選択図】図1
Description
錫(Sn)及び亜鉛(Zn)の原子数比Zn/(Zn+Sn)が0.81〜0.94の範囲にあり、ZnOの平均粒径が2[μm]以上の範囲にあり、かつ、Zn2SnO4の平均粒径が14[μm]以下の範囲にあることを特徴とする。体積抵抗率が1E−01[Ωcm]以下であり、かつ、気孔率が1.7[%]以下であることが好ましい。ZnOの平均粒径が2〜10[μm]の範囲にあり、かつ、Zn2SnO4の平均粒径が6〜14[μm]の範囲にあることが好ましい。
本発明の一実施形態としてのターゲットの製造方法について説明する。
前記方法によって製造された焼結体としてのターゲットは、ZnO及びZn2SnO4からなり、錫(Sn)及び亜鉛(Zn)の原子数比Zn/(Zn+Sn)が0.81〜0.94の範囲にあり、ZnOの平均粒径が2[μm]以上の範囲にあり、Zn2SnO4の平均粒径が14[μm]以下の範囲にある。また、その体積抵抗率は1E−01[Ωcm]以下であり、かつ、気孔率が1.7[%]以下である。
(実施例1)
平均粒径0.4[μm]のZnO原料と、平均粒径1.0[μm]のSnO2原料が用いられた。前記のように原料粉末の混合に費やす時間として第1所定時間が3時間に設定され、第2所定時間が12時間に設定された。適当なバインダー及び分散剤が原料粉末に添加され、原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.81」になるようにスラリーが調整された。これがスプレードライ乾燥されることにより顆粒が得られた。
平均粒径0.9[μm]のSnO2原料が用いられ、成形体の焼成温度が1400[℃]に設定され、かつ、焼成時間が10時間に設定されたほかは、実施例1と同一条件下で実施例2のターゲットが製造された。
原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.88」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1400[℃]に設定され、かつ、焼成時間が10時間に設定されたほかは、実施例1と同一条件下で実施例3のターゲットが製造された。
平均粒径1.3[μm]のSnO2原料が用いられたほかは、実施例3と同一条件下で実施例4のターゲットが製造された。
原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.94」になるように原料が調製され、成形体の焼成温度が1450[℃]に設定され、かつ、焼成時間が5時間に設定されたほかは、実施例3と同一条件下で実施例5のターゲットが製造された。
平均粒径1.3[μm]のSnO2原料が用いられ、原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.94」になるように原料が調製され、かつ、成形体の焼成温度が1350[℃]に設定されたほかは、実施例1と同一条件下で実施例6のターゲットが製造された。
平均粒径0.9[μm]のSnO2原料が用いられ、かつ、成形体の焼成時間が10時間に設定されたほかは、実施例6と同一条件下で実施例7のターゲットが製造された。
(比較例1)
原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.74」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1500[℃]に設定され、かつ、焼成時間が5時間に設定されたほかは、実施例1と同一条件下で比較例1のターゲットが製造された。
成形体の焼成温度が1450[℃]に設定され、かつ、焼成時間が15時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例2のターゲットが製造された。
成形体の焼成温度が1450[℃]に設定され、かつ、焼成時間が30時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例3のターゲットが製造された。
原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.81」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1450[℃]に設定され、かつ、焼成時間が4時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例4のターゲットが製造された。
原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.70」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1450[℃]に設定され、かつ、焼成時間が20時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例5のターゲットが製造された。
原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.94」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1550[℃]に設定され、かつ、焼成時間が10時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例6のターゲットが製造された。
平均粒径0.6[μm]のSnO2原料が用いられ、原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.81」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1400[℃]に設定され、かつ、焼成時間が10時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例7のターゲットが製造された。
平均粒径0.6[μm]のSnO2原料が用いられ、原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.88」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1400[℃]に設定され、かつ、焼成時間が5時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例8のターゲットが製造された。
平均粒径0.9[μm]のSnO2原料が用いられ、原子数比Zn/(Zn+Sn)が「0.94」になるように原料が調整され、成形体の焼成温度が1300[℃]に設定され、かつ、焼成時間が5時間に設定されたほかは、比較例1と同一条件下で比較例9のターゲットが製造された。
Claims (4)
- ZnO及びZn2SnO4からなり、
錫(Sn)及び亜鉛(Zn)の原子数比Zn/(Zn+Sn)が0.81〜0.94の範囲にあり、ZnOの平均粒径が2[μm]以上の範囲にあり、かつ、Zn2SnO4の平均粒径が14[μm]以下の範囲にあることを特徴とするターゲット。 - 請求項1記載のターゲットにおいて、
体積抵抗率が1E−01[Ωcm]以下であり、かつ、気孔率が1.7[%]以下であることを特徴とするターゲット。 - 請求項1又は2記載のターゲットにおいて、
ZnOの平均粒径が2〜10[μm]の範囲にあり、かつ、Zn2SnO4の平均粒径が6〜14[μm]の範囲にあることを特徴とするターゲット。 - 請求項1記載のターゲットを製造する方法であって、
酸化亜鉛(ZnO)及び酸化錫(SnO2)のそれぞれの原料粉末を溶媒及び分散剤とともに第1所定時間にわたり混合する工程と、
錫(Sn)及び亜鉛(Zn)の原子数比Zn/(Zn+Sn)が0.81〜0.94の範囲に収まるように酸化亜鉛混合物及び酸化錫混合物を合わせたものにバインダーを添加した上で、さらに第2所定時間にわたり混合することによりスラリーを調製する工程と、
前記スラリーを用いて所定形状の成形体を作成する工程と、
大気雰囲気下で、酸化亜鉛の揮発が防止されるように昇温速度が調節された上で、1350〜1450[℃]の温度範囲に収まる温度で5〜10時間にわたり前記成形体を焼成することにより、前記ターゲットとしての焼結体を作成する工程とを含むことを特徴とする方法。
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