JP2013047362A - スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート - Google Patents
スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート Download PDFInfo
- Publication number
- JP2013047362A JP2013047362A JP2011186034A JP2011186034A JP2013047362A JP 2013047362 A JP2013047362 A JP 2013047362A JP 2011186034 A JP2011186034 A JP 2011186034A JP 2011186034 A JP2011186034 A JP 2011186034A JP 2013047362 A JP2013047362 A JP 2013047362A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- zno
- thin film
- film
- sputtering target
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 title claims abstract description 65
- 239000010409 thin film Substances 0.000 title claims abstract description 62
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 22
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 104
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 41
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 8
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 88
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 claims description 70
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 52
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 claims description 44
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 24
- 238000005245 sintering Methods 0.000 claims description 18
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 17
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 17
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 14
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 13
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 claims description 10
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 9
- 230000035699 permeability Effects 0.000 claims description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 6
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 5
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 claims description 4
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 claims description 3
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 3
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 3
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 abstract description 67
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 54
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 47
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 27
- 239000000463 material Substances 0.000 description 23
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 13
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 13
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 11
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 10
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 10
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 9
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 7
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 7
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 7
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 6
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 4
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 3
- 239000013077 target material Substances 0.000 description 3
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 2
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 2
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000005286 illumination Methods 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 2
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 2
- 238000003826 uniaxial pressing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012935 Averaging Methods 0.000 description 1
- 229920000089 Cyclic olefin copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000004831 Hot glue Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 238000005054 agglomeration Methods 0.000 description 1
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 230000003078 antioxidant effect Effects 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000032798 delamination Effects 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000009820 dry lamination Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 1
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 1
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 1
- 229920006254 polymer film Polymers 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000002987 primer (paints) Substances 0.000 description 1
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000001552 radio frequency sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H sodium hexametaphosphate Chemical compound [Na]OP1(=O)OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])OP(=O)(O[Na])O1 GCLGEJMYGQKIIW-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 235000019982 sodium hexametaphosphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000004611 spectroscopical analysis Methods 0.000 description 1
- 238000001694 spray drying Methods 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001577 tetrasodium phosphonato phosphate Substances 0.000 description 1
- 150000003606 tin compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 1
- 239000006097 ultraviolet radiation absorber Substances 0.000 description 1
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明のスパッタリングターゲットは、酸化亜鉛(ZnO)と酸化アルミニウム(Al2O3)とを主成分とする焼結体からなり、焼結体の相対密度が95%以上であり、酸化亜鉛(ZnO)と酸化アルミニウム(Al2O3)のモル比が50:50〜95:5であることを特徴とする。
【選択図】図1
Description
先ず、平均粒径が0.8μm、純度が99.8%の高純度ZnO粉末を、平均粒径が1.5μm、純度が99.8%の高純度Al2O3粉末を、バインダとしてPVB樹脂を、有機溶媒としてエタノールとアセトンをそれぞれ用意した。
ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが61モル%、Al2O3が39モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが80モル%、Al2O3が20モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが95モル%、Al2O3が5モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが80モル%、Al2O3が20モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
平均粒径が0.1μm、純度が99.8%の高純度ZnO粉末及び平均粒径が0.1μm、純度が99.8%の高純度Al2O3粉末を使用し、ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが80モル%、Al2O3が20モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
平均粒径が5.0μm、純度が99.8%の高純度ZnO粉末及び平均粒径が5.0μm、純度が99.8%の高純度Al2O3粉末を使用し、ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが80モル%、Al2O3が20モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
Al2O3粉末を混合せずに調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが98モル%、Al2O3が2モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
ZnO粉末並びにAl2O3粉末の混合量を、形成後のスパッタリングターゲットに含まれるZnOが40モル%、Al2O3が60モル%となるように調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
ZnO粉末を混合せずに調整したこと以外は、実施例1と同様にスパッタリングターゲットを得た。
実施例1〜11及び比較例1〜4で得られたスパッタリングターゲットを用いて、厚さ75μmのPETフィルム上に、RFスパッタリング法により蒸着を行って厚さ100nmの薄膜を成膜し、薄膜シートを形成した。スパッタリング条件は、成膜速度は1nm/secであり、基板温度、酸素ガス分圧は次の表1に示す通りである。これらの薄膜シートについて、水蒸気透過度を測定し、ガスバリア性を評価した。また、これらの薄膜シートについて、光透過率を測定し、透明性を評価した。これらの結果を以下の表1に示す。
11 第1基材フィルム
12 ZnO−Al2O3系膜
13 接着層
14 第2基材フィルム
20 積層シート
Claims (7)
- 酸化亜鉛(ZnO)と酸化アルミニウム(Al2O3)とを主成分とする焼結体からなり、前記焼結体の相対密度が95%以上であり、前記酸化亜鉛と前記酸化アルミニウムのモル比が50:50〜95:5であることを特徴とするZnO−Al2O3系スパッタリングターゲット。
- 一次粒子の平均粒径が0.1〜5.0μmのZnO粉末とAl2O3粉末とを、前記酸化亜鉛(ZnO)と前記酸化アルミニウム(Al2O3)のモル比が50:50〜95:5になるように混合し、バインダーを加え、加圧成形し、脱型後、1000℃以上で焼結することによって、相対密度が95%以上の焼結体を製造することを特徴とするZnO−Al2O3系スパッタリングターゲットの製造方法。
- 有機溶媒及び水分等の除去を目的とする予備乾燥として50〜150℃で1〜10時間の処理、バインダーの消失を目的とする脱脂処理として400〜600℃で3〜15時間の処理、及び密度を向上させる焼結工程として1000〜1500℃で3〜15時間の処理をこの順で行う請求項2記載のZnO−Al2O3系スパッタリングターゲットの製造方法。
- 請求項1記載のZnO−Al2O3系スパッタリングターゲットを用いたスパッタリング法により基板表面にZnO−Al2O3系膜を形成することを特徴とするZnO−Al2O3系膜の製造方法。
- 請求項4記載の製造方法により形成されたことを特徴とするZnO−Al2O3系膜。
- 請求項5記載のZnO−Al2O3系膜を第1基材フィルム上に備え、
温度20℃、相対湿度50%RHの条件で1時間放置したときの水蒸気透過度Sが0.3g/m2・day以下であることを特徴とする薄膜シート。 - 請求項6記載の薄膜シートの薄膜形成側に接着層を介して第2基材フィルムを積層してなる積層シート。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011186034A JP5741325B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
CN2012102699384A CN102965620A (zh) | 2011-08-29 | 2012-07-31 | 溅射靶及其制法、利用该靶得到的薄膜、薄膜片及层叠片 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011186034A JP5741325B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013047362A true JP2013047362A (ja) | 2013-03-07 |
JP5741325B2 JP5741325B2 (ja) | 2015-07-01 |
Family
ID=47796053
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011186034A Expired - Fee Related JP5741325B2 (ja) | 2011-08-29 | 2011-08-29 | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5741325B2 (ja) |
CN (1) | CN102965620A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN104416160B (zh) * | 2013-09-11 | 2017-04-19 | 安泰科技股份有限公司 | 高致密度氧化锌基靶材及其制备方法 |
CN106187100B (zh) * | 2015-05-04 | 2019-02-12 | 清华大学 | 溅射靶及其制备方法 |
CN111439997B (zh) * | 2020-05-25 | 2022-01-18 | 先导薄膜材料(广东)有限公司 | 一种氧化锌铝靶材及其制备方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001011613A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
JP2006044994A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 酸化インジウム粉末 |
JP2009132998A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-06-18 | Mitsubishi Materials Corp | ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 |
JP2009249187A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Hitachi Metals Ltd | 酸化亜鉛焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、電極 |
JP2011063866A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Tosoh Corp | 複合酸化物焼結体、酸化物透明導電膜、及びその製造方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3864425B2 (ja) * | 1994-03-22 | 2006-12-27 | 東ソー株式会社 | アルミニウムドープ酸化亜鉛焼結体およびその製造方法並びにその用途 |
EP0969521A1 (de) * | 1998-07-03 | 2000-01-05 | ISOVOLTAÖsterreichische IsolierstoffwerkeAktiengesellschaft | Fotovoltaischer Modul sowie ein Verfahren zu dessen Herstellung |
JP4733930B2 (ja) * | 2004-05-20 | 2011-07-27 | 株式会社アルバック | 複合酸化物焼結体の製造方法及びその焼結体からなるスパッタリングターゲット |
JP4716773B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2011-07-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムとそれを用いた有機デバイス |
JP5358891B2 (ja) * | 2006-08-11 | 2013-12-04 | 日立金属株式会社 | 酸化亜鉛焼結体の製造方法 |
CN101851739A (zh) * | 2009-04-02 | 2010-10-06 | 宜兴佰伦光电材料科技有限公司 | 一种高稳定性能透明导电膜用azo溅射靶材及制造方法 |
CN102162085A (zh) * | 2010-02-16 | 2011-08-24 | 三菱综合材料株式会社 | 薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材 |
CN102191459A (zh) * | 2010-03-04 | 2011-09-21 | 三菱综合材料株式会社 | 薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材 |
CN102153352B (zh) * | 2010-12-17 | 2015-05-20 | 西北稀有金属材料研究院 | 一种复合粘结剂及其在制备烧结靶上的应用 |
-
2011
- 2011-08-29 JP JP2011186034A patent/JP5741325B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2012
- 2012-07-31 CN CN2012102699384A patent/CN102965620A/zh active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2001011613A (ja) * | 1999-06-29 | 2001-01-16 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 酸化亜鉛を含有するスパッタリングターゲットの製造方法 |
JP2006044994A (ja) * | 2004-08-04 | 2006-02-16 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | 酸化インジウム粉末 |
JP2009132998A (ja) * | 2007-10-30 | 2009-06-18 | Mitsubishi Materials Corp | ZnOスパッタリングターゲットとその製造方法 |
JP2009249187A (ja) * | 2008-04-01 | 2009-10-29 | Hitachi Metals Ltd | 酸化亜鉛焼結体およびその製造方法、スパッタリングターゲット、電極 |
JP2011063866A (ja) * | 2009-09-18 | 2011-03-31 | Tosoh Corp | 複合酸化物焼結体、酸化物透明導電膜、及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN102965620A (zh) | 2013-03-13 |
JP5741325B2 (ja) | 2015-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5760857B2 (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート | |
JP2013047361A (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート | |
JP5884549B2 (ja) | 透明酸化物膜およびその製造方法 | |
JP5741325B2 (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート | |
CN102312193B (zh) | 薄膜形成用蒸镀材及具备该薄膜的薄膜片以及层叠片 | |
JP5519959B2 (ja) | 積層シート | |
JP2012158820A (ja) | 薄膜の製造方法及び薄膜形成用の共蒸着用蒸着材、該方法により得られる薄膜、該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP5747738B2 (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法並びに該ターゲットを用いた薄膜、該薄膜を備える薄膜シート、積層シート | |
JP2011202268A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP5673158B2 (ja) | 薄膜の製造方法及び薄膜形成用の共蒸着用蒸着材 | |
JP5664162B2 (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2011214136A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP5720446B2 (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートの製造方法 | |
JP5720495B2 (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シートの製造方法 | |
JP2012132086A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP5573554B2 (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2011214133A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2012132085A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP5545104B2 (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2012132087A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2012122128A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2011214135A (ja) | 薄膜形成用の蒸着材及び該薄膜を備える薄膜シート並びに積層シート | |
JP2019183244A (ja) | 透明酸化物積層膜、透明酸化物積層膜の製造方法、スパッタリングターゲット及び透明樹脂基板 | |
CN102433532B (zh) | 薄膜形成用气相沉积材、具备该薄膜的薄膜片材和层压片材 | |
TW201936953A (zh) | 氧化物濺鍍膜、氧化物濺鍍膜之製造方法、氧化物燒結體及透明樹脂基板 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140328 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20141017 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20141021 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141126 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150331 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150413 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5741325 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |