JP2013045766A - 有機発光表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】有機発光表示装置およびその製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、第１画素、第２画素、および第３画素にそれぞれ形成されている第１画素電極、第２画素電極、および第３画素電極を含む画素電極と、前記第１画素電極上に形成されている共振補助層と、前記共振補助層および第２画素電極上に共通で形成されている第１有機発光層、前記第１有機発光層上に形成されている第２有機発光層、前記第３画素電極上に形成されている第３有機発光層を含む有機発光層と、前記有機発光層上に形成されている共通電極と、前記共通電極上に形成されており、前記第１有機発光層で発光する第１光の波長領域と前記第２有機発光層で発光する第２光の波長領域の重畳波長領域の重畳光を吸収する混色防止膜とを含んでもよい。
【選択図】図２

Description

本発明は、有機発光表示装置およびその製造方法に関する。

有機発光表示装置は、正孔注入電極と有機発光層、および電子注入電極で構成される有機発光素子を含む。それぞれの有機発光素子は、有機発光層の内部で電子と正孔が結合して生成された励起子（ｅｘｃｉｔｏｎ）が励起状態から基底状態に落ちるときに発生するエネルギーによって発光するが、このような発光を利用して有機発光表示装置が所定の映像を表示する。

有機発光表示装置は自発光（ｓｅｌｆ−ｌｕｍｉｎａｎｃｅ）特性を有し、液晶表示装置とは異なって別途の光源を必要としないため、厚さと重量を減らすことができる。さらに、有機発光表示装置は、低い消費電力、高い輝度、および速い応答速度などのハイクォリティー特性を有するため、次世代表示装置として注目されている。

このような有機発光表示装置の単位画素（ｐｉｘｅｌ）には、赤色画素、緑色画素、および青色画素のサブ画素（ｓｕｂ ｐｉｘｅｌ）が備えられているが、この３色のサブ画素の色の組み合わせによって所望するカラーが表現される。すなわち、各サブ画素ごとに２つの電極間に赤色、緑色、および青色のうちのいずれか１つの色の光を発する有機発光層が介在する構造を有し、この３色の光の適切な組み合わせによって単位画素の色が表現される。

このような有機発光層はマスク蒸着法によって形成されることができるが、有機発光層のパターンと同じパターンを有する微細金属マスク（Ｆｉｎｅ Ｍｅｔａｌ Ｍａｓｋ：ＦＭＭ）を対象材の上に整列させ、このマスクを介して元素材を蒸着することにより、所望するパターンの有機発光層を対象材に形成するようになる。

しかし、このようなマスク蒸着法を行うためには、赤色、緑色、青色の各サブ画素を形成するたびに微細金属マスクを変えて用いなければならないため、合計３回のマスク工程を実行しなければならないという煩わしさが伴う。例えば、赤色画素を蒸着するときには１回目の微細金属マスクを用い、緑色画素を蒸着するときには２回目の微細金属マスクを、青色画素を蒸着するときには３回目の細金属マスクを用いるというように蒸着を行うことによって単位画素の発光層パターンが完成されるため、マスク工程が極めて増加するようになり、生産性が低下する。さらに、マスク蒸着の際には、隣接する色の有機発光層と所定の間隔が確保されることによって蒸着が円滑に行われるようになるため、マスク工程が増えることは高解像度の実現にも阻害要因として作用する。

日本国特許第４０６９７４５号

本発明は、製造工程が単純であり、色純度および視野角を向上させることができる有機発光表示装置およびその製造方法を提供することを目的とする。

本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置は、第１画素、第２画素、および第３画素にそれぞれ形成されている第１画素電極、第２画素電極、および第３画素電極を含む画素電極と、前記第１画素電極上に形成されている共振補助層と、前記共振補助層および第２画素電極上に共通で形成されている第１有機発光層、前記第１有機発光層上に形成されている第２有機発光層、前記第３画素電極上に形成されている第３有機発光層を含む有機発光層と、前記有機発光層上に形成されている共通電極と、前記共通電極上に形成されており、前記第１有機発光層で発光する第１光の波長領域と前記第２有機発光層で発光する第２光の波長領域の重畳波長領域の重畳光を吸収する混色防止膜とを含んでもよい。

前記共通電極と前記混色防止膜の間に形成されている偏光膜をさらに含んでもよい。

前記混色防止膜は前記第１画素にのみ形成されてもよい。

前記混色防止膜上に形成されている偏光膜をさらに含んでもよい。

前記混色防止膜は、支持膜と、前記支持膜上に形成されており、前記重畳光を吸収する吸水膜を含んでもよい。

前記混色防止膜は、前記偏光膜の接着剤に前記重畳光を吸収する吸収剤が混合されている混合層であってもよい。

前記混色防止膜は赤色カラーフィルタを含んでもよい。

前記赤色カラーフィルタは前記第１画素にのみ形成されてもよい。

前記混色防止膜は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の前記重畳光を吸収してもよい。

前記第１有機発光層と前記第２有機発光層は、同じパターンで形成されてもよい。

前記画素電極は、反射電極と、前記反射電極上に形成されている透明電極とを含み、前記第１画素と前記第２画素において、前記反射電極と前記共通電極の間の距離は互いに相違するように形成されてもよい。

前記反射電極と前記共通電極の間の距離は、前記第１画素、第２画素、および第３画素の順に短くなってもよい。

前記第１画素は赤色画素、前記第２画素は緑色画素、前記第３画素は青色画素であってもよい。

前記反射電極は非晶質ＩＴＯを含み、前記共振補助層は結晶質ＩＴＯを含んでもよい。

また、本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法は、第１画素、第２画素、および第３画素にそれぞれ第１画素電極、第２画素電極、および第３画素電極を形成する段階と、前記第１画素電極上に共振補助層を形成する段階と、前記共振補助層および第２画素電極上に第１有機発光層を共通で形成する段階と、前記第１有機発光層上に第２有機発光層を形成する段階と、前記第３画素電極上に第３有機発光層を形成する段階と、前記第１有機発光層、前記第２有機発光層および第３有機発光層上に共通電極を形成する段階と、前記共通電極上に混色防止膜を形成する段階とを含んでもよい。

前記混色防止膜を形成する段階では、前記第１有機発光層で発光する第１光の波長領域と前記第２有機発光層で発光する第２光の波長領域の重畳波長領域の重畳光を吸収する前記混色防止膜を形成してもよい。

前記混色防止膜を形成する段階の前に、前記共通電極上に偏光膜を形成する段階をさらに含んでもよい。

前記混色防止膜は前記第１画素にのみ形成されてもよい。

前記混色防止膜上に偏光膜を形成する段階をさらに含んでもよい。

前記混色防止膜を形成する段階は、支持膜を形成する段階と、前記支持膜上に前記重畳光を吸収する吸水膜を形成する段階とを含んでもよい。

前記混色防止膜は、前記偏光膜の接着剤に前記重畳光を吸収する吸収剤を混合した混合層で形成されてもよい。

前記混色防止膜は赤色カラーフィルタで形成してもよい。

前記赤色カラーフィルタは前記第１画素にのみ形成されてもよい。

前記混色防止膜は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の前記重畳光を吸収してもよい。

前記第１有機発光層と前記第２有機発光層は、同じ第１マスクによって同じパターンで形成されてもよい。

前記第１画素は赤色画素、前記第２画素は緑色画素、前記第３画素は青色画素であってもよい。

本発明の一実施形態に係る有機発光表示装置およびその製造方法は、２回のマスク工程だけで３色の有機発光層を形成することができるため、工程の簡素化によって生産性を向上させることができ、蒸着する３色の有機発光層の間隔の減少によって３００ＰＰＩ水準の高解像度を実現できると同時に、混色防止膜を形成することによって同じマスクによって形成される赤色画素および緑色画素の色干渉現象を防ぎ、視野角を向上させることができる。

また、偏光膜の接着剤に吸収剤を混合して混色防止膜を容易に形成することにより、赤色画素および緑色画素の色干渉現象を防ぎ、視野角を向上させることができる。

本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置において、一サブ画素の等価回路図である。 図１に示す有機発光表示装置の単位画素の断面図である。 本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の混色防止膜の波長による透過度を示すグラフである。 混色防止膜が形成されていない赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例１において、波長による発光光度を示すグラフである。 混色防止膜が形成されていない赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例１において、視野角による発光強度を示すグラフである。 混色防止膜が形成された本発明の第１実施形態に係る赤色および緑色重畳有機発光表示装置において、視野角による発光強度を示すグラフである。 ５６０ｎｍ〜５７０ｎｍの重畳波長領域の光を吸収する混色防止膜が形成された赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例２において、視野角による発光光度を示すグラフである。 ５８０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光を吸収する混色防止膜が形成された赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例３において、視野角による発光光度を示すグラフである。 本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法により、第１マスクを利用して赤色有機発光層と緑色有機発光層を順に積層する段階を示す図である。 本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法により、第２マスクを利用して青色有機発光層を形成する段階を示す図である。 本発明の第２実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。 本発明の第３実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。 本発明の第４実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。 本発明の第５実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。 本発明の第５実施形態に係る有機発光表示装置の赤色カラーフィルタの波長による透過度のグラフである。 本発明の第５実施形態に係る有機発光表示装置において、視野角による発光強度を示すグラフである。

以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について、本発明が属する技術分野において通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、本発明は、多様に相違した形態で実現することができ、ここで説明する実施形態に限定されることはない。

また、明細書全体に渡って同一または類似する構成要素については、同一する参照符号を付与する。

さらに、図面に示す各構成の大きさおよび厚さは、説明の便宜のために任意に示したものであり、本発明が必ずしも示されたものに限定されることはない。

以下、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置について、図１および図２を参照しながら詳細に説明する。

図１は、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置において、一サブ画素の等価回路図である。

図１に示すように、本実施形態に係る有機発光表示装置は、複数の信号線１２１、１７１、１７２と、これに連結しているサブ画素（ｓｕｂ ｐｉｘｅｌ）（ＰＸ）とを含む。サブ画素（ＰＸ）は、第１画素、第２画素、および第３画素のうちのいずれか１つであってもよく、第１画素、第２画素、および第３画素はそれぞれ赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、および青色画素（Ｂ）であってもよい。

信号線は、ゲート信号（または走査信号）を伝達する走査信号線（ｓｃａｎｎｉｎｇ ｓｉｇｎａｌ ｌｉｎｅ）１２１、データ信号を伝達するデータ線（ｄａｔａ ｌｉｎｅ）１７１、駆動電圧を伝達する駆動電圧線（ｄｒｉｖｉｎｇ ｖｏｌｔａｇｅ ｌｉｎｅ）１７２などを含む。走査信号線１２１はほぼ行方向に伸びていながら互いがほぼ平行であり、データ線１７１はほぼ列方向に伸びていながら互いがほぼ平行である。駆動電圧線１７２はほぼ列方向に伸びているように示されているが、行方向または列方向に伸びてもよく、網状に形成されてもよい。

一サブ画素（ＰＸ）は、スイッチングトランジスタ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）（Ｑｓ）、駆動トランジスタ（ｄｒｉｖｉｎｇ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）（Ｑｄ）、ストレージキャパシタ（ｓｔｏｒａｇｅ ｃａｐａｃｉｔｏｒ）（Ｃｓｔ）、および有機発光素子（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｅｌｅｍｅｎｔ）（ＬＤ）を含む。

スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）は、制御端子（ｃｏｎｔｒｏｌ ｔｅｒｍｉｎａｌ）（Ｎ１）、入力端子（ｉｎｐｕｔ ｔｅｒｍｉｎａｌ）（Ｎ２）、および出力端子（ｏｕｔｐｕｔ ｔｅｒｍｉｎａｌ）（Ｎ３）を有するが、制御端子（Ｎ１）は走査信号線１２１に連結しており、入力端子（Ｎ２）はデータ線１７１に連結しており、出力端子（Ｎ３）は駆動トランジスタ（Ｑｄ）に連結している。スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）は、走査信号線１２１から受けた走査信号に応答し、データ線１７１から受けたデータ信号を駆動トランジスタ（Ｑｄ）に伝達する。

駆動トランジスタ（Ｑｄ）も、制御端子（Ｎ３）、入力端子（Ｎ４）、および出力端子（Ｎ５）を有するが、制御端子（Ｎ３）はスイッチングトランジスタ（Ｑｓ）に連結しており、入力端子（Ｎ４）は駆動電圧線１７２に連結しており、出力端子（Ｎ５）は有機発光素子（ＬＤ）に連結している。駆動トランジスタ（Ｑｄ）は、制御端子（Ｎ３）と出力端子（Ｎ５）の間にかかる電圧に応じて、その大きさが異なる出力電流（Ｉ_ＬＤ）を流す。

キャパシタ（Ｃｓｔ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の制御端子（Ｎ３）と入力端子（Ｎ４）の間に連結している。このキャパシタ（Ｃｓｔ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の制御端子（Ｎ３）に印加されるデータ信号を充電し、スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）がターンオフ（ｔｕｒｎ−ｏｆｆ）した後にもこれを維持する。

有機発光素子（ＬＤ）は、例えば、有機発光ダイオード（ｏｒｇａｎｉｃ ｌｉｇｈｔ ｅｍｉｔｔｉｎｇ ｄｉｏｄｅ：ＯＬＥＤ）であって、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の出力端子（Ｎ５）に連結しているアノード（ａｎｏｄｅ）と、共通電圧（Ｖｓｓ）に連結しているカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）とを有する。有機発光素子（ＬＤ）は、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の出力電流（Ｉ_ＬＤ）に応じて強度を異にし、発光によって映像を表示する。有機発光素子（ＬＤ）は、赤色、緑色、青色の三原色などの基本色（ｐｒｉｍａｒｙ ｃｏｌｏｒ）のうちのいずれか１つまたは１つ以上の光を固有に出す有機物質を含んでもよく、有機発光表示装置はこれらの色の空間的な合によって所望する映像を表示する。

スイッチングトランジスタ（Ｑｓ）および駆動トランジスタ（Ｑｄ）は、ｎ−チャネル電界効果トランジスタ（ｆｉｅｌｄ ｅｆｆｅｃｔ ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：ＦＥＴ）であってもよく、これらのうちの少なくとも１つはｐ−チャネル電界効果トランジスタであってもよい。また、トランジスタ（Ｑｓ、Ｑｄ）、キャパシタ（Ｃｓｔ）、および有機発光素子（ＬＤ）の連結関係が変わってもよい。

以下、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の断面構造について、図２を上述した図１と共に参照しながら詳細に説明する。

図２は、図１に示す有機発光表示装置の単位画素の断面図である。

透明なガラスまたはプラスチックなどで生成される絶縁基板１１０上に、複数の駆動トランジスタ（Ｑｄ）が形成されている。この他に、絶縁基板１１０上には、複数の信号線（図示せず）および複数のスイッチングトランジスタ（図示せず）などがさらに形成されてもよい。

駆動トランジスタ（Ｑｄ）上には、無機物または有機物で生成される保護膜１８０が形成されている。保護膜１８０が有機物で生成された場合、その表面が平坦になってもよい。

保護膜１８０には、駆動トランジスタ（Ｑｄ）の一部を露出する接触孔１８５が形成されている。

各画素（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の保護膜１８０上には画素電極１９０が形成されている。画素電極１９０は、赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、および青色画素（Ｂ）にそれぞれ形成されている第１画素電極、第２画素電極、および第３画素電極を含む。画素電極１９０は、反射電極１９１と、その上に形成された透明電極１９２とを含む。反射電極１９１は、銀（Ａｇ）またはアルミニウム（Ａｌ）などの反射度が高い金属またはこれらの合金などで生成されてもよく、透明電極１９２は、ＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｔｉｎ ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ ｚｉｎ ｃｏｘｉｄｅ）などの透明な導電性酸化物などで生成される結晶質ＩＴＯ層を含んでもよい。

赤色画素（Ｒ）の画素電極１９０上には共振補助層１９３が形成されているが、共振補助層１９３は、ＩＴＯまたはＩＺＯなどの透明な導電性酸化物などで生成される非晶質ＩＴＯ層を含んでもよい。共振補助層１９３は、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の２つの電極、すなわち、画素電極１９０と共通電極２７０の間隔を相違して生成するために追加されるものであって、赤色有機発光層３２０Ｒと緑色有機発光層３２０Ｇを同じ形状で赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）に共通的に形成しても、共振補助層１９３によって赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）はそれぞれの色の光を発光できるようになる。

保護膜１８０上には、画素電極１９０の周縁周辺を覆うように画素定義膜１８９が形成されている。

赤色、緑色、および青色画素（Ｒ、Ｇ、Ｂ）において、画素電極１９０および画素定義膜１８９上の前面には正孔付帯層３１０が形成されているが、正孔付帯層３１０は、正孔注入層（ＨＩＬ：ｈｏｌｅ ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）と、その上に積層された正孔輸送層（ＨＴＬ：ｈｏｌｅ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）とを含む。

赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の正孔付帯層３１０上には共通的に赤色有機発光層３２０Ｒが形成されており、赤色有機発光層３２０Ｒ上には緑色有機発光層３２０Ｇが形成されている。赤色有機発光層３２０Ｒと緑色有機発光層３２０Ｇは、同じ第１マスク１０を利用して同じパターンで形成される。したがって、製造工程を単純化させることができる。

また、青色画素（Ｂ）の正孔付帯層３１０上には、青色有機発光層３２０Ｂが独立的に形成されている。

赤色、緑色、および青色有機発光層３２０Ｒ、３２０Ｇ、３２０Ｂは、赤色、緑色、および青色の光を固有に出す有機物質で生成されてもよい。

赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）に形成された緑色有機発光層３２０Ｇ上と青色画素（Ｂ）に形成された青色有機発光層３２０Ｂ上には電子付帯層３３０が形成されているが、電子付帯層３３０は、電子輸送層（ＥＴＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｔｒａｎｓｐｏｒｔ ｌａｙｅｒ）と、その上に積層された電子注入層（ＥＩＬ：ｅｌｅｃｔｒｏｎ ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ ｌａｙｅｒ）とを含む。

正孔付帯層３１０と電子付帯層３３０は、有機発光層３２０Ｒ、３２０Ｇ、３２０Ｂの発光効率を向上するためのものであって、正孔輸送層と電子輸送層は電子と正孔の均衡を合わせるためのものであり、正孔注入層と電子注入層は電子と正孔の注入を強化するためのものである。

正孔付帯層３１０、有機発光層３２０Ｒ、３２０Ｇ、３２０Ｂ、電子付帯層３３０は共に有機発光部材３７０を形成する。

電子付帯層３３０上には、共通電圧（Ｖｓｓ）を伝達する共通電極２７０が形成されている。共通電極２７０は、下部層と上部層の二重層で形成されており、光の一部は反射させて残りの一部は通過させる半透過（ｔｒａｎｓｆｌｅｃｔｉｖｅ）特性を有する半透過電極であってもよい。この下部層と上部層はすべて光を反射する性質を有する金属で形成されるが、その厚さを薄くすれば、入射光が反射したり透過する半透過特性を有することができる。また、共通電極２７０は、単一膜で構成されてもよい。

このような有機発光表示装置において、画素電極１９０、有機発光部材３７０、および共通電極２７０は、有機発光素子（ＬＤ）をなす。画素電極１９０は、保護膜１８０の接触孔１８５を介して駆動トランジスタ（Ｑｄ）から電圧が伝達されてもよい。

このような有機発光表示装置は、共通電極２７０側に光を排出して映像を表示する。有機発光層３２０Ｒ、３２０Ｇ、３２０Ｂから共通電極２７０側に放出された光は、共通電極２７０に至り、一部は共通電極２７０を透過して出ていき、他の一部は反射して画素電極１９０側に送られる。画素電極１９０は、これを再び反射して共通電極２７０側に送る。このように、画素電極１９０と共通電極２７０の間で往復する光は干渉現象を引き起こすようになるが、光のうち、画素電極１９０と共通電極２７０の距離が共振を引き起こす距離に該当する波長の光は補強干渉を引き起こして強度が強くなり、他の波長の光は相殺干渉を引き起こして強度が弱くなる。このような光の往復および干渉過程を微細共振（ｍｉｃｒｏ ｃａｖｉｔｙ）という。

青色画素（Ｂ）は、青色有機発光層３２０Ｂが赤色画素（Ｒ）および緑色画素（Ｇ）と分離して形成されるため、独自に補強干渉が適切に引き起こるように画素電極１９０と共通電極２７０の間隔を設定する。画素電極１９０と共通電極２７０の間隔は、青色有機発光層３２０Ｂの厚さを調節して設定してもよい。

また、赤色画素（Ｒ）および緑色画素（Ｇ）は、赤色有機発光層３２０Ｒおよび緑色有機発光層３２０Ｇが赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）に渡って同じパターンで形成されているが、赤色画素（Ｒ）に共振補助層１９３を形成することにより、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）において画素電極１９０と共通電極２７０の間隔を互いに異なるようにする。このように、共振補助層１９３を利用して画素電極１９０と共通電極２７０の間隔を調節することにより、赤色画素（Ｒ）では赤色光の補強干渉が適切に起こるようにし、緑色画素（Ｇ）では緑色光の補強干渉が適切に起こるようにする。したがって、赤色画素（Ｒ）では赤色光が、緑色画素（Ｇ）では緑色光が出るようになる。以下、赤色有機発光層３２０Ｒおよび緑色有機発光層３２０Ｇが赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）に渡って同じパターンで形成されており、赤色画素（Ｒ）に共振補助層１９３が形成された構造の有機発光表示装置を、赤色および緑色重畳有機発光表示装置として定義する。

共通電極２７０上には、密封層（ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ ｌａｙｅｒ）４００が形成されている。密封層４００は、有機膜と無機膜が互いに１つずつ交互に積層される薄膜封止層として形成されてもよい。このような密封層４００は、有機発光部材３７０および共通電極２７０を密封（ｅｎｃａｐｓｕｌａｔｉｏｎ）し、外部から水分または酸素が侵入することを防ぐことができる。

密封層４００上には偏光膜５１０が形成されている。偏光膜５１０は、外部から有機発光表示装置内に入ってくる光と有機発光層の発光時に有機発光表示装置内の金属配線によって発生する多くの反射光とが本来発光する色と混合してコントラスト比（ｃｏｎｔｒａｓｔ ｒａｔｉｏ）を低下させることを防ぐために、有機発光表示装置の発光方向に形成されている。

偏光膜５１０上には、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の混色防止のための混色防止膜５２０が形成されている。混色防止膜５２０は、透明な材質の支持膜５２１と、支持膜５２１上に形成されている吸水膜５２２とを含む。

吸水膜５２２は、赤色有機発光層３２０Ｒで発光する赤色光の波長領域と緑色有機発光層３２０Ｇで発光する緑色光の波長領域の重畳波長領域（Ｐ）に該当する重畳光を吸収する。具体的に、吸水膜５２２は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域（Ｐ）の重畳光を吸収して除去する。

図３は、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の混色防止膜の波長による透過度を示すグラフである。図３には、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の重畳光を除去する混色防止膜が形成された本発明の第１実施形態に係る赤色および緑色重畳有機発光表示装置の波長による透過度グラフ（Ａ）、５６０ｎｍ〜５７０ｎｍの重畳波長領域の光を吸収する混色防止膜が形成された赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例２の波長による透過度グラフ（Ｂ１）、５８０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光を吸収する混色防止膜が形成された赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例３の波長による透過度グラフ（Ｂ２）が示されている。

図３に示すように、混色防止膜５２０は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の重畳光の透過度をゼロ（ｚｅｒｏ）近くまで低下させる。

以下、本発明の第１実施形態に係る赤色および緑色重畳有機発光表示装置について、比較例１〜比較例３と比べた図面を参照しながら詳しく説明する。

図４は、混色防止膜が形成されていない赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例１において、波長による発光光度を示すグラフである。図５は、混色防止膜が形成されていない赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例１において、視野角による発光強度を示すグラフである。図６は、混色防止膜が形成された本発明の第１実施形態に係る赤色および緑色重畳有機発光表示装置において、視野角による発光強度を示すグラフである。

図４に示すように、赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例１では、赤色有機発光層３２０Ｒと緑色有機発光層３２０Ｇを赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）すべてに積層し、赤色画素（Ｒ）に共振補助層１９３を形成することにより、赤色画素（Ｒ）で赤色の光が出るようにし、緑色画素（Ｇ）で緑色の光が出るようにする。しかし、この場合、赤色有機発光層３２０Ｒと緑色有機発光層３２０Ｇが赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）すべてに積層されているため、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）が重なる５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域（Ｐ）で光の相互干渉が生じるようになり、赤色画素（Ｒ）に緑色の光が少し混ざり出て、緑色画素（Ｇ）に赤色の光が少し混ざり出るようになり、各画素の色純度が低下する。

また、図５に示すように、赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例１を側面方向から見たとき、光の光学的透過経路が変更して視野角が低下する。特に、赤色画素（Ｒ）は、視野角による発光光度の変化が酷く、赤色画素（Ｒ）でオレンジ色が出るという現象が発生することがある。

しかし、図６に示すように、本発明の第１実施形態に係る赤色および緑色重畳有機発光表示装置の混色防止膜５２０は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の重畳光は吸収し、残りの波長領域の光は透過させるため、混色防止膜５２０を通過した光は５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域、すなわち、オレンジ色領域の光が除去されている。したがって、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の色干渉現象を防ぎ、視野角を改善することができる。

また、混色防止膜５２０は、赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、および青色画素すべてに形成されるため、色別に整列する必要がなく、フィルム形態で製造することもでき、容易に有機発光表示装置に付着して用いることもできる。

さらに、複数の混色防止膜５２０を積層することにより、除去したい波長領域を選択することができるため、どんな波長領域でも容易に除去することができる。

図７は、５６０ｎｍ〜５７０ｎｍの重畳波長領域の光を吸収する混色防止膜が形成された赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例２において、視野角による発光光度を示すグラフである。図８は、５８０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光を吸収する混色防止膜が形成された赤色および緑色重畳有機発光表示装置の比較例３において、視野角による発光光度を示すグラフである。

図７および図８に示すように、混色防止膜５２０が５６０ｎｍ〜５７０ｎｍの重畳波長領域の光のみを吸収したり、５８０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光のみを吸収する場合には、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の間の色干渉現象がそのまま発生し、視野角が低下することが分かる。したがって、本発明の第１実施形態に係る赤色および緑色重畳有機発光表示装置の混色防止膜５２０は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光は吸収し、残りの波長領域の光は透過させることができるため、視野角を向上させることができる。

以下、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法について、図２、図９、および図１０を参照しながら詳しく説明する。

図９は、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法により、第１マスクを利用して赤色有機発光層と緑色有機発光層を順に積層する段階を示す図面である。図１０は、本発明の第１実施形態に係る有機発光表示装置の製造方法により、第２マスクを利用して青色有機発光層を形成する段階を示す図である。

まず、図９を参照すれば、絶縁基板１１０上に複数の駆動トランジスタ（Ｑｄ）を形成し、その上に複数の接触孔１８５を有する保護膜１８０を形成する。そして、各画素（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の保護膜１８０上に反射層および結晶質導電性酸化物部材を順に積層してパターニングして画素電極１９０を形成し、赤色画素（Ｒ）の画素電極１９０上には画素電極１９０と同じパターンで共振補助層１９３を形成する。そして、保護膜１８０上に窒化物または酸化物を利用して画素電極１９０および共振補助層１９３の周縁周辺を覆う画素定義膜１８９を形成し、赤色、緑色、および青色画素（Ｒ、Ｇ、Ｂ）の画素電極１９０および画素定義膜１８９上に正孔付帯層３１０を形成する。

そして、赤色画素（Ｒ）および緑色画素（Ｇ）に対応する開口部を有する第１マスク１０を利用して、正孔付帯層３１０上に赤色有機発光層３２０Ｒおよび緑色有機発光層３２０Ｇを順に積層する。このように、赤色画素（Ｒ）の有機発光層と緑色画素（Ｇ）の有機発光層を１つの第１マスク１０を利用して形成することができるため、２回のマスク工程で３色有機発光層を形成することができ、製造過程が簡素化する。

また、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）は同じ第１マスク１０を利用して形成されるため、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の間隔を減らすことができ、高解像度を実現することができる。

次に、図１０に示すように、青色画素（Ｂ）に対応する開口部を有する第２マスク２０を利用して、正孔付帯層３１０上に青色有機発光層３２０Ｂを形成する。

次に、図２に示すように、緑色有機発光層３２０Ｇおよび青色有機発光層３２０Ｂ上に電子付帯層３３０、共通電極２７０を順に積層し、その上に有機膜と無機膜を交互に形成して密封層４００を形成する。そして、密封層４００上に偏光膜５１０を付着し、偏光膜５１０上に５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の重畳光を吸収する混色防止膜５２０を付着する。このような混色防止膜５２０は、赤色画素（Ｒ）、緑色画素（Ｇ）、および青色画素（Ｂ）すべての前面に付着されるため、色別に整列する必要がない。

また、混色防止膜５２０は、フィルム形態に製造し、容易に有機発光表示装置に付着して用いることもできる。

一方、前記第１実施形態では、偏光膜の上に混色防止膜が形成されているが、偏光膜の下に混色防止膜が形成されてもよい。

図１１は、本発明の第２実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。

図１１に示す実施形態は、図２に示す実施形態に比べ、偏光膜の下に混色防止膜が形成されたことを除いては実質的に同じであるため、反復する説明は省略する。

図１１に示すように、密封層４００と偏光膜５１０の間には、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の混色防止のための混色防止膜５２０が形成されている。混色防止膜５２０は、透明な材質の支持膜５２１と、支持膜５２１上に形成されている吸水膜５２２とを含む。

吸水膜５２２は、赤色有機発光層３２０Ｒで発光する赤色光の波長領域と緑色有機発光層３２０Ｇで発光する緑色光の波長領域の重畳波長領域（Ｐ）に該当する重畳光を吸収する。具体的に、吸水膜５２２は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域（Ｐ）の重畳光を吸収して除去する。したがって、混色防止膜５２０を通過した光は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光が除去されており、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の間の色干渉現象を防ぎ、視野角を改善することができる。

一方、前記第１実施形態では、混色防止膜が赤色画素、緑色画素、および赤色画素すべてに形成されているが、混色防止膜が赤色画素にのみ形成されてもよい。

図１２は、本発明の第３実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。

図１２に示す実施形態は、図２に示す実施形態に比べ、混色防止膜が赤色画素にのみ形成されたことを除いては実質的に同じであるため、反復する説明は省略する。

図１２に示すように、赤色画素（Ｒ）に対応する密封層４００上には、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の混色防止のための混色防止膜５２０が形成されている。混色防止膜５２０は、透明な材質の支持膜５２１と、支持膜５２１上に形成されている吸水膜５２３とを含む。

吸水膜５２３は、赤色有機発光層３２０Ｒで発光する赤色光の波長領域と緑色有機発光層３２０Ｇで発光する緑色光の波長領域の重畳波長領域（Ｐ）に該当する重畳光を吸収する。具体的に、吸水膜５２３は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域（Ｐ）の重畳光を吸収して除去する。したがって、混色防止膜５２０を通過した光は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光が除去されており、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の間の色干渉現象を防ぎ、視野角を改善することができる。

一方、前記第２実施形態では、混色防止膜が支持膜と吸水膜で構成されているが、混色防止膜が偏光膜の接着剤と重畳光を吸収する吸収剤の混合層であってもよい。

図１３は、本発明の第４実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。

図１３に示す実施形態は、図１１に示す実施形態に比べ、混色防止膜が偏光膜の接着剤と重畳光を吸収する吸収剤の混合層であることを除いては実質的に同じであるため、反復する説明は省略する。

図１３に示すように、密封層４００と偏光膜５１０の間には、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の混色防止のための混色防止膜５３０が形成されている。混色防止膜５３０は、偏光膜５１０を密封層４００に付着する接着剤と重畳光を吸収する吸収剤の混合層であってもよい。吸収剤は、赤色有機発光層３２０Ｒで発光する赤色光の波長領域と緑色有機発光層３２０Ｇで発光する緑色光の波長領域の重畳波長領域（Ｐ）に該当する重畳光を吸収する。具体的に、吸収剤は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域（Ｐ）の重畳光を吸収して除去する。したがって、混色防止膜５３０を通過した光は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光が除去されており、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の間の色干渉現象を防ぎ、視野角を改善することができる。

また、偏光膜の接着剤に吸収剤を混合することにより、混色防止膜を容易に形成してもよい。

一方、前記第２実施形態では、混色防止膜が支持膜と吸水膜で構成されているが、混色防止膜が赤色カラーフィルタを含んでもよい。

図１４は、本発明の第５実施形態に係る有機発光表示装置の断面図である。図１５は、本発明の第５実施形態に係る有機発光表示装置の赤色カラーフィルタの波長による透過度のグラフである。図１６は、本発明の第５実施形態に係る有機発光表示装置において、視野角による発光強度を示すグラフである。

図１４に示す実施形態は、図１１に示す実施形態に比べ、混色防止膜が赤色カラーフィルタを含むことを除いては実質的に同じであるため、反復する説明は省略する。

図１４に示すように、密封層４００と偏光膜５１０の間には、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の混色防止のための混色防止膜５４０が形成されている。混色防止膜５４０は、赤色画素（Ｒ）に形成されている赤色カラーフィルタを含む。緑色画素（Ｇ）および青色画素（Ｂ）には透明フィルターが形成されてもよい。赤色カラーフィルタは赤色画素（Ｒ）にのみ形成されていてもよい。

図１５に示すように、赤色カラーフィルタは、５８０ｎｍ〜７８０ｎｍ波長領域の光を透過させ、５８０ｎｍ以下の波長領域の光は吸収するため、図１６に示すように、赤色画素（Ｒ）で混色防止膜５２０を通過した光は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の光が除去されており、赤色画素（Ｒ）と緑色画素（Ｇ）の間の色干渉現象を防ぎ、視野角を改善することができる。

以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、特許請求の範囲と発明の詳細な説明、および添付の図面の範囲内で多様に変形して実施することが可能であり、これも本発明の範囲に属することは当然である。

１０：第１マスク
２０：第２マスク
１９０：画素電極
１９３：共振補助層
２７０：共通電極
３１０：正孔付帯層
３２０Ｒ：赤色有機発光層
３２０Ｇ：緑色有機発光層
３２０Ｂ：青色有機発光層
３７０：有機発光部材
４００：密封層
５１０：偏光膜
５２０、５３０、５４０：混色防止膜
５２１：支持膜
５２２、５２３：吸水膜

Claims (26)

1. 第１画素、第２画素、および第３画素にそれぞれ形成されている第１画素電極、第２画素電極、および第３画素電極を含む画素電極、
   前記第１画素電極上に形成されている共振補助層、
   前記共振補助層および第２画素電極上に共通で形成されている第１有機発光層、前記第１有機発光層上に形成されている第２有機発光層、前記第３画素電極上に形成されている第３有機発光層を含む有機発光層、
   前記有機発光層上に形成されている共通電極、
   前記共通電極上に形成されており、前記第１有機発光層で発光する第１光の波長領域と前記第２有機発光層で発光する第２光の波長領域の重畳波長領域の重畳光を吸収する混色防止膜、
   を含む、有機発光表示装置。
2. 前記共通電極と前記混色防止膜の間に形成されている偏光膜をさらに含む、請求項１に記載の有機発光表示装置。
3. 前記混色防止膜は前記第１画素にのみ形成されている、請求項２に記載の有機発光表示装置。
4. 前記混色防止膜上に形成されている偏光膜をさらに含む、請求項１に記載の有機発光表示装置。
5. 前記混色防止膜は、
   支持膜、
   前記支持膜上に形成されており、前記重畳光を吸収する吸水膜、
   を含む、請求項２または４に記載の有機発光表示装置。
6. 前記混色防止膜は、前記偏光膜の接着剤に前記重畳光を吸収する吸収剤が混合されている混合層である、請求項４に記載の有機発光表示装置。
7. 前記混色防止膜は赤色カラーフィルタを含む、請求項４に記載の有機発光表示装置。
8. 前記赤色カラーフィルタは前記第１画素にのみ形成されている、請求項７に記載の有機発光表示装置。
9. 前記混色防止膜は、５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の前記重畳光を吸収する、請求項１に記載の有機発光表示装置。
10. 前記第１有機発光層と前記第２有機発光層は同じパターンで形成されている、請求項１に記載の有機発光表示装置。
11. 前記画素電極は、反射電極と、前記反射電極上に形成されている透明電極とを含み、
    前記第１画素と前記第２画素において、前記反射電極と前記共通電極の間の距離は互いに異なるように形成されている、請求項１に記載の有機発光表示装置。
12. 前記反射電極と前記共通電極の間の距離は、前記第１画素、第２画素、および第３画素の順に短くなる、請求項１１に記載の有機発光表示装置。
13. 前記第１画素は赤色画素、前記第２画素は緑色画素、前記第３画素は青色画素である、請求項１２に記載の有機発光表示装置。
14. 前記反射電極は非晶質ＩＴＯを含み、前記共振補助層は結晶質ＩＴＯを含む、請求項１１に記載の有機発光表示装置。
15. 第１画素、第２画素、および第３画素にそれぞれ第１画素電極、第２画素電極、および第３画素電極を形成する段階、
    前記第１画素電極上に共振補助層を形成する段階、
    前記共振補助層および第２画素電極上に第１有機発光層を共通で形成する段階、
    前記第１有機発光層上に第２有機発光層を形成する段階、
    前記第３画素電極上に第３有機発光層を形成する段階、
    前記第１有機発光層、前記第２有機発光層および第３有機発光層上に共通電極を形成する段階、
    前記共通電極上に混色防止膜を形成する段階、
    を含む、有機発光表示装置の製造方法。
16. 前記混色防止膜を形成する段階では、
    前記第１有機発光層で発光する第１光の波長領域と前記第２有機発光層で発光する第２光の波長領域の重畳波長領域の重畳光を吸収する前記混色防止膜を形成する、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
17. 前記混色防止膜を形成する段階の前に、前記共通電極上に偏光膜を形成する段階をさらに含む、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
18. 前記混色防止膜は前記第１画素にのみ形成する、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
19. 前記混色防止膜上に偏光膜を形成する段階をさらに含む、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
20. 前記混色防止膜を形成する段階は、
    支持膜を形成する段階、
    前記支持膜上に前記重畳光を吸収する吸水膜を形成する段階、
    を含む、請求項１７または１９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
21. 前記混色防止膜は、前記偏光膜の接着剤に前記重畳光を吸収する吸収剤を混合した混合層で形成される、請求項１９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
22. 前記混色防止膜は赤色カラーフィルタで形成される、請求項１９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
23. 前記赤色カラーフィルタは前記第１画素にのみ形成される、請求項１９に記載の有機発光表示装置の製造方法。
24. 前記混色防止膜は５６０ｎｍ〜５９０ｎｍの重畳波長領域の前記重畳光を吸収する、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
25. 前記第１有機発光層と前記第２有機発光層は、同じ第１マスクによって同じパターンで形成される、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。
26. 前記第１画素は赤色画素、前記第２画素は緑色画素、前記第３画素は青色画素である、請求項１５に記載の有機発光表示装置の製造方法。

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