JP2013041976A - 窒化物系半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】第1HEMT部30及び第2HEMT部31から成るトランジスタ部1と、第1電極24と電気的に短絡された第1ショットキー電極28及び第1ゲート電極26と電気的に第2ショットキー電極29から成るダイオード部2と、を備えて構成されている。また、第1電極24と第2電極25との間の領域に第1電極24に沿って、第1ゲート電極26及び第1ショットキー電極28が交互に形成され、かつ、第2電極25に沿って、第2ゲート電極27及び第2ショットキー電極29が交互に形成されている。さらに、第1ゲート電極26と第2ゲート電極27とは、対向して形成されており、第1ショットキー電極28と第2ショットキー電極29とは対向して形成されている。
【選択図】図1
Description
2、72 ダイオード部
10、50 窒化物系半導体素子
12 基板
14 バッファ層
16 GaN層
18 2DEG層
20 AlGaN層
24、54 第1電極
25、55 第2電極
26、56 第1ゲート電極
27、57 第2ゲート電極
28、58 第1ショットキー電極
29、59 第2ショットキー電極
30 第1HEMT部
31 第2HEMT部
60 第1MOSFET部
61 第2MOSFET部
32 第1リセス部
33 第2リセス部
Claims (6)
- 基板と、
前記基板上に形成されたバッファ層と、
前記バッファ層上に形成された窒化物系化合物より成る電子走行層と、
前記電子走行層上に形成され、前記電子走行層とはバンドギャップエネルギーが異なる電子供給層と、
前記電子供給層上の対向する位置に形成された第1電極及び第2電極と、
複数の第1ゲート電極及び第2ゲート電極と、
前記電子供給層に整流性を有する接合によって接合され、かつ、前記第1電極に接続されて前記第1電極にキャリアを輸送するための複数の第1キャリア輸送用電極と、
前記電子供給層に整流性を有する接合によって接合され、かつ、前記第2電極に接続されて前記第2電極にキャリアを輸送するための複数の第2キャリア輸送用電極と、
を備え、
前記第1ゲート電極及び前記第1キャリア輸送用電極は、前記第1電極と前記第2電極との間に前記第1電極に沿って交互に配置され、かつ、前記第2ゲート電極及び前記第2キャリア輸送用電極は、前記第1ゲート電極及び前記第1キャリア輸送用電極と前記第2電極との間に前記第2電極に沿って交互に配置された、窒化物系半導体装置。 - 前記第1ゲート電極は前記第2ゲート電極と対向する位置に設けられており、かつ前記第1キャリア輸送用電極は前記第2キャリア電極と対向する位置に設けられている、請求項1に記載の窒化物系半導体装置。
- 前記第1ゲート電極は前記第2キャリア輸送用電極と対向する位置に設けられており、かつ前記第1キャリア輸送用電極は前記第2ゲート電極と対向する位置に設けられている、請求項1に記載の窒化物系半導体装置。
- 前記第1ゲート電極及び前記第2ゲート電極は、前記電子供給層上に形成されている、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の窒化物系半導体装置。
- 前記電子供給層を分断する第1リセス部と、
前記第1リセス部内部を覆うように、前記第1リセス部から前記電子供給層の表面にわたって形成された第1ゲート絶縁膜と、
前記電子供給層を分断する第2リセス部と、
前記第2リセス部内部を覆うように、前記第2リセス部から前記電子供給層の表面にわたって形成された第2ゲート絶縁膜と、
を備え、前記第1ゲート電極は、前記第1ゲート絶縁膜上に形成されており、前記第2ゲート電極は、前記第2ゲート絶縁膜上に形成されている、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の窒化物系半導体装置。 - 前記第1キャリア輸送用電極及び前記第2キャリア輸送用電極における整流性を有する接合は、ヘテロ接合、pn接合、及びショットキー接合のいずれかである、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の窒化物系半導体装置。
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- 2011-08-15 JP JP2011177704A patent/JP2013041976A/ja active Pending
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