JP2013033975A - 真空処理装置及び真空処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】カセット内のウェハを処理装置に搬送して処理する際、搬送したウェハに各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理、１つのカセット内に収納された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理等のいずれかを選択的に施す。
【解決手段】ウェハを前記真空処理室に搬送し、真空処理されたウェハを搬出する制御を行う制御手段とを備え、制御手段は、少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理と、１つのカセット内に収納された複数のウェハを複数の真空処理室へ順次搬送し、前記順次搬送された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理とを備え、ウェハ供給停止、カセット供給停止、実行中の真空処理等の動作を停止するサイクル停止、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより実行中の処理を終了させる。
【選択図】図１

Description

本発明は、プロセス処理を行う２つ以上のプロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置で構成され、少なくとも２つ以上のプロセス処理装置を使って処理する処理方法及び処理装置に関する。

従来の装置は、例えば、特許文献１，２，３に示すように搬送室に処理室を接続したシステムにおいて、別々のウェハを別々の処理室で同時に実行したり、又はウェハを順次に２つ以上の処理室を経由して処理することのできる装置及びその搬送に関するものであった。

特開昭６３−１３３５３２号公報 特開昭６３−２５２４３９号公報 特開昭６３−１２９６４１号公報

上記従来技術は、２つ以上のプロセス処理を施すにつき、ウェハを真空雰囲気の搬送路を介して２つ以上の処理室に搬送し、個々の処理室では、その処理室が持つ固有の処理を施すことにより、大気状態にさらすことなく真空中で複数のプロセス処理をする為の装置構成、搬送方法を考案したものであった。

ところで、従来技術では２つ以上の処理室を処理経路として使って運転している運転中に、どれかの処理室が故障等で使用できなくなった時に正常な処理室を使って処理を続行する運転については、考慮されていなかった。

又、運転開始時修復する必要のある処理室がある場合でも、正常な処理室のみを使って装置を運転する方法についても考慮されていなかった。

又、２つ以上の処理室を処理経路として使って運転中にその運転を一時中断させ、中断させる迄にその運転の処理経路に使っていなかった処理室を処理経路として使った割り込み処理を優先的に実行し、その割り込み処理が終了した後は一時中断させていた処理を続行させる運転する方法についても考慮されていなかった。

又、２つ以上の処理室を処理経路として使って運転中にその運転の処理経路に使用していない処理室の機器に対する操作指示の方法については考慮されていなかった。またその運転の処理経路に使用していない処理室の機器に対する操作指示を通常操作する操作部と離れた場所にある操作部で行う場合での操作上の安全性確保についても考慮されていなかった。

このように従来技術は処理室が正常な状態にあるときの運転を考慮したものであるが、処理室が異常等で使用できない時の運転、割り込み処理、運転中での運転の一時中断及び中断状態から再開運転や、運転中に処理経路に使用していない処理室の操作、運用等については考慮されていないため、例えば同種の処理室が接続されておれば、他方の正常な処理室を使って運転を続行するという装置の運転方法が考慮されておらず、稼働率の低い装置であった。

本発明は、プロセス処理を行う２つ以上のプロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置で構成され、少なくとも２つ以上のプロセス処理装置を使って処理する真空処理装置において、
１）２つ以上の処理室を処理経路として使って運転中に、処理室の内どれかが故障等で使用できなくなった場合でも運転続行でき、又、
２）修復する必要のあるプロセス処理装置がある場合は、正常な処理室のみを処理経路として使って運転でき、又
３）運転中に運転の一時中断、及び中断状態からの再開運転、及び運転中に運転を一時中断させ、中断させる迄にその運転の処理経路に使っていなかった処理室を処理経路として使った割り込み処理を実行し、その割り込み処理が終了した後は一時中断させていた処理を続行させる運転ができ、又
４）２つ以上の処理室を処理経路として使って運転中に、その運転の処理経路に使用していない処理室の機器に対する操作指示ができ、またその運転の処理経路に使用していない処理室の機器に対して操作指示をする場合や、通常の操作指示をする操作部と離れた場所にある操作部で行う場合、操作上の安全性確保できるようにすることにより、装置の稼働率を向上できる真空処理装置を提供することにある。

上記目的を達成するために、プロセス処理装置の運転有効／無効であることを示す運転情報信号を発生する運転情報信号発生手段を各プロセス処理装置毎に設け、その運転情報信号を記憶する運転情報信号記憶手段を設け、運転情報信号を元にして運転無効である該プロセス処理装置を使用せず、他の有効なプロセス処理装置を使って運転続行する装置制御手段を設けたものである。

装置の運転においては、運転途中に或プロセス処理装置が故障等で使用できなくなった場合は、装置運転を一時中断し、オペレータに運転続行／中止の判断を促し、続行する場合は、装置運転続行の処置を施すことで運転続行が可能となるようにしたものである。

又、運転開始時点で修復、保守等する必要のあるプロセス処理装置がある状態で運転を開始する場合は、運転開始前に修復、保守等する必要のあるプロセス処理装置を使わず、有効なプロセス処理装置を使って装置運転する処置を施すことで運転が可能となるようにしたものである。

本発明によれば、運転途中に或プロセス処理装置が故障等で使用できなくなった場合や、運転開始時点で修復や保守の必要のあるプロセス処理装置がある状態で運転を開始する場合や、運転途中に或プロセス処理装置の運転を中断させ他の有効なプロセス処理装置を使って運転中に、先に中断させたプロセス処理装置を運転再開する場合に、装置運転続行の処置を施すことで運転続行が可能となるようにしたことにより、プロセス処理を行う複数のプロセス処理装置と、ウェハの搬送を行う搬送処理装置で構成された真空処理装置では、複数ある処理室の内、どれかが故障等で使用できなくなった場合でも運転続行ができ、又運転開始時修復や保守する必要のあるプロセス処理装置がある場合でも、正常なプロセス処理装置を使って運転でき、装置の稼働率を向上することができる。

本発明による真空処理装置の一実施例を示す平面図である。 本発明による真空処理装置の他の実施例を示す平面図である。 図１の一実施例の真空処理装置における装置制御手段の制御構成図である。 図１の一実施例の真空処理装置における装置制御手段の運転情報信号を示す図である。 図１の一実施例の真空処理装置における装置制御手段の処理順序情報を示す図である。 図１の一実施例の真空処理装置における装置制御手段の自動運転のフロー図である。 図６の自動運転フローの詳細を示すフロー図である。 図１の一実施例の真空処理装置における異常発生後の自動運転再開処理時の動作状態を示す図である。 図１の一実施例の真空処理装置における自動運転中の処理装置運転切り離し処理の動作状態を示す図である。 図１の一実施例の真空処理装置における自動運転中のパイロットカセット処理時の状態変化を示す図である。

以下、本発明の一実施例を図１〜図１０に示す。

図１は、一実施例であり、プロセス処理装置が搬送処理装置に４室接続され、処理装置にウェハを搬入する為のカセットは処理装置本体の前に設置した大気搬送装置に設置し、該カセットから１枚ずつ取り出し処理装置に搬入し処理する装置構成図を示す。プロセス処理装置が４つ以上接続されても構わない。１はウェハの搬送を行う搬送処理装置でありロードロック室のウェハをウェハの搬送スケジュールに従ってプロセス処理装置２−１〜２−４に搬送し、プロセス処理装置で処理終了したウェハを次のプロセス処理装置に搬送し、全てのプロセス処理が終了したウェハをアンロードロック室に搬送する。２−１〜２−４はプロセス処理を行うプロセス処理装置である。プロセス処理としてはエッチング、後処理、成膜、スパッタ、ＣＶＤ、水洗処理等ウェハのプロセス処理全てを含む。３はロードロック室であり大気搬送装置６にあるウェハを搬送処理装置に搬入する室、４はアンロードロック室であり真空処理室にあるウェハを大気搬送装置６に搬出する室、５は搬送処理装置内に設置されウェハの搬送を行う真空ロボット、６はウェハを収納したカセットを設置するための大気搬送装置、７は処理するウェハを収納したカセットであり製品用ウエハを収納したカセットやクリーニング用ウェハを収納したカセットである。８は大気搬送装置上のカセット内のウェハをカセットから搬出し、ロードロック室３に搬入し、またアンロードロック室４のウェハを元のカセットに戻す大気ロボットを示す。

通常の運転にあたっては、オペレータは、カセット７−１（又は７ー２）を大気搬送装置６に設置する。その後表示手段１３、入力手段１４とを使って運転条件の設定を行った後運転の開始指示を行うことで、ウェハの搬送が開始しプロセス処理装置２−１（２−２〜２−４）に搬送され、プロセス処理を行って元のカセットに戻される。元のカセット内のウェハが全て処理されるとそのカセットの回収の為にこの図に示していないブザーを鳴らし、オペレータにカセット回収要求を通報し、オペレータがカセットを取り除く。尚、運転条件設定の１部である処理経路の設定においては、その処理に使用するプロセス処理装置をウェハの処理する順序にプロセス処理装置の記号等を使って設定する。

このウェハの処理順序は、運転モードとして表１に示す。

以下のこの運転モードの説明ではプロセス処理装置２ー２と２ー３は同一のプロセス処理を（この実施例ではエッチング処理とする）、プロセス処理装置２ー１と２ー４は同一のプロセス処理を（この実施例では後処理とする）するものとして説明する。またプロセス処理の実施例としては、プロセス処理装置２ー２または２ー３を使ったエッチング処理を行った後、プロセス処理装置２ー１と２ー４を使った後処理を行うものとする。またウエハの処理条件によってはエッチング処理のみであっても良い。

１）１カセット１レシピ並列運転
同一のプロセス処理条件（以下では、プロセス処理条件をレシピと称する）で処理するウェハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウェハから順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。ウェハは、プロセス処理装置２ー２でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー１で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ａという）と、プロセス処理装置２ー３でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー４で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ｂという）の両方を使って処理する。

この実施例での処理順序は
経路Ａ：カセットＣ１→プロセス処理装置２ー２→プロセス処理装置２ー１→カセットＣ１
経路Ｂ：カセットＣ１→プロセス処理装置２ー３→プロセス処理装置２ー４→カセットＣ１
の組み合わせとしたが、
経路Ｃ：カセットＣ１→プロセス処理装置２ー２→プロセス処理装置２ー４→カセットＣ１
経路Ｄ：カセットＣ１→プロセス処理装置２ー３→プロセス処理装置２ー１→カセットＣ１
の組み合わせであっても良い。

ウェハの処理は、１枚目のウェハは経路Ａ、２枚目は経路Ｂ、３枚目のウェハは経路Ａ、４枚目は経路Ｂ、・・・という順序でカセット内の最終ウェハ迄処理を行う。Ｃ１カセット内の全てを処理終了するとＣ１カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この時迄にＣ２カセットが設置されてあれば、Ｃ１カセットの処理終了に引き続きＣ２カセットの処理に移る。Ｃ２カセットについてもＣ１カセットの場合と同じ順序で処理を行い、Ｃ２カセット内の全てを処理終了するとＣ２カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この時迄にＣ１カセットが設置されてあれば、Ｃ２カセットの処理終了に引き続きＣ１カセットの処理に移る。以降この運転サイクル繰り返しを行う。

この運転を終了する場合は、主制御部１１から運転終了の操作入力を行うことで運転が終了する。

処理を終了する方法として、以下の５モードがある。

ア）ウェハ供給停止：処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止する。

（２カセットを１ロットとして運転している場合は、指定した方のカセットから
のウェハ取り出しを中止する。）
イ）カセット供給停止：現在処理中のカセット内のウェハを全て処理終了した後、
その処理終了迄に設置されてあったカセットの処理を中止する。

（２カセットを１ロットとして運転している場合は、指定した方のカセット内の
ウェハを全て処理終了した後、その時迄に設置されてあったカセットの処理を中
止する。）
ウ）サイクル停止：現在実行中のプロセス処理、排気、リーク、搬送等の動作終了後
その場で停止する。

エ）処理室一時停止：指定処理室について、現在処理中のプロセス処理終了後停止す
る。この場合は、運転の再開操作により一時停止した状態から運転を再開するこ
とができる。またその処理室のみ手動操作は可能である。

オ）即停止：実行中の全ての動作を即時停止する。

処理終了に当たってはいずれの方法によっても良い。

２）２カセット１レシピ並列運転
同一のプロセス処理条件（レシピ）で処理するウェハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウェハから順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。

この場合のカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をする運転が前記の「１カセット１レシピ並列運転」の場合と異なる。

前記の「１カセット１レシピ並列運転」の場合は、同一カセットから順次ウェハを抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理を実施し、そのカセットのウェハを全て終了した後次のカセットのウェハの処理に移ったが、本「２カセット１レシピ並列運転」では、カセットＣ１とカセットＣ２から交互にウェハを抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理を実施する。ウェハの処理経路は前記の「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同様に、プロセス処理装置２ー２でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー１で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ａという）と、プロセス処理装置２ー３でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー４で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ｂという）の両方を使って処理する。

この実施例での処理順序の経路Ａ、Ｂもしくは経路Ｃ、Ｄについては前記前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。

ウェハの処理は、１枚目のウェハはＣ１カセットからの１枚目を経路Ａ、２枚目はＣ２カセットからの１枚目を経路Ｂ、３枚目のウェハはＣ１カセットからの２枚目を経路Ａ、４枚目はＣ２カセットからの２枚目を経路Ｂ、・・・という順序でカセット内の最終ウエハ迄処理を行う。Ｃ１もしくはＣ２カセット内の全てを処理終了するとＣ１（またはＣ２）カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この終了したカセットが取り除かれ新しいカセットが設置されるまでは、他方のカセット側の処理のみ継続されている。新しいカセットが設置されると前記のようにＣ１とＣ２カセットから交互ににウェハを抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理を実施する。以降この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了する場合は、主制御部１１から運転終了の操作入力を行う事で運転が終了する。終了方法は前記「１カセッ
ト１レシピ並列運転」の場合と同じである。

３）２カセット２レシピ並列運転
この運転では、Ｃ１カセットとＣ２カセットとのウェハ処理レシピが異なる事以外は前
記「２カセット１レシピ並列運転」と同じある。

４）１カセット１レシピ直列運転
この運転では、同一のプロセス処理条件（レシピ）で処理するウェハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウェハから順番にカセットから抜き出し搬送処理装置に搬入しプロセス処理をすることは前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。ところがウェハの処理経路は前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と異なる。

本「１カセット１レシピ直列運転」では、ウェハはプロセス処理装置２ー２（もしくはプロセス処理装置２ー３）でエッチング処理した後、更にプロセス処理装置２ー３（もしくはプロセス処理装置２ー２）でエッチング処理した後、プロセス処理装置２ー１（もしくはプロセス処理装置２ー４）で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ｅという）で処理する。

ウェハの処理は、１枚目のウェハは経路Ｅ、２枚目は経路Ｅ、３枚目のウェハは経路Ｅ、４枚目は経路Ｅ、・・・という順序でカセット内の最終ウェハ迄処理を行う。Ｃ１カセット内の全てを処理終了するとＣ１カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この時迄にＣ２カセットが設置されてあれば、Ｃ１カセットの処理終了に引き続きＣ２カセットの処理に移る。Ｃ２カセットについてもＣ１カセットの場合と同じ順序で処理を行い、Ｃ２カセット内の全てを処理終了するとＣ２カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この時迄にＣ１カセットが設置されてあれば、Ｃ２カセットの処理終了に引き続きＣ１カセットの処理に移る。以降この運転サイクル繰り返しを行う。

この運転を終了する場合は、主制御部１１から運転終了の操作入力を行う事で運転が終了する。終了方法は前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。

また、装置を保守、メンテナンスする場合は補助操作盤２２内にある表示手段２６、入力手段２５とを使って装置の機側で操作することができる。この補助操作盤２２は可搬型の操作端末（例えばノートパソコン）であり装置の近くまで持ち運び、装置状態を目視しながら表示手段２６に表示される装置情報（例えば入出力ビットのＯＮ／ＯＦＦ情報、エラー情報等）を保守、メンテナンスの操作に活用でき、保守、メンテナンスの操作性を向上させているものである。この補助操作盤２２では、主制御部１１と同じ機能を有しているが、オペレータに対する安全性を確保する為に主制御部１１と補助操作盤２２とで同時に操作する場合は、片方しか操作入力できないように誤操作防止機能を設けてある。

図２は、別の一実施例あり、プロセス処理装置が搬送処理装置に４室接続され、処理装置にウェハを搬入する為のカセットは処理装置本体内のロードロック室に設置し、カセットから１枚ずつ取り出し処理装置に搬入し処理する装置構成図を示す。プロセス処理装置がこれ以上接続されても構わない。装置構成としては図１に示す構成からウェハを収納したカセットを設置するための大気搬送装置６、大気ロボット８を削除したものである。ウエハのカセットからの搬出がロードロック室３からとなり、カセットへの収納がアンロードロック室４となる以外の各機器の機能及び構成は図１と同じである。また運転モードにおいては、
１）１カセット１レシピ並列運転
同一のプロセス処理条件（レシピ）で処理するウェハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウェハから順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。ウェハは、プロセス処理装置２ー２でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー１で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ａという）と、プロセス処理装置２ー３でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー４で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ｂという）の両方を使って処理する。

この実施例での処理順序は
経路Ａ：ロードロック室内カセット→プロセス処理装置２ー２→プロセス処理装置
２ー１→アンロードロック室内カセット
経路Ｂ：ロードロック室内カセット→ プロセス処理装置２ー３→プロセス処理装
置２ー４→アンロードロック室内カセット
又は、
経路Ｃ：ロードロック室内カセット→プロセス処理装置２ー２→プロセス処理装置
２ー４→アンロードロック室内カセット
経路Ｄ：ロードロック室内カセット→プロセス処理装置２ー３→プロセス処理装置
２ー１→アンロードロック室内カセット
の組み合わせであっても良い。また上記処理順序では処理したウェハはアンロードロック室内カセットに戻したがウェハを取り出したロードロック室内カセットに戻すこともできる。

本実施例では経路Ａと経路Ｂを並行してロードロック室内のカセットから抜き出したウエハはアンロードロック室内のカセットに戻す処理の例を示す。ウェハの処理は、１枚目のウェハは経路Ａ、２枚目は経路Ｂ、３枚目のウェハは経路Ａ、４枚目は経路Ｂ、・・・という順序でカセット内の最終ウェハ迄処理を行う。

ロードロック室内カセット内の全てを処理終了するとロードロック室内カセットとアンロードロック室内カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。次に新たな未処理ウェハの入ったカセットをロードロック室に、空のカセットをアンロードロック室設置して、以降この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了する場合は、主制御部１１から運転終了の操作入力を行う事で運転が終了する。終了方法は前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。

２）２カセット１レシピ並列運転
同一のプロセス処理条件（以下では、プロセス処理条件をレシピと称する）で処理するウェハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウェハから順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理をするものである。

前記の「１カセット１レシピ並列運転」の場合は、同一カセットから順次ウェハを抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理を実施し、そのカセットのウェハを全て終了した後次のカセットのウェハの処理に移ったが、本「２カセット１レシピ並列運転」では、ロードロック室内のカセットとアンロードロック室内のカセットから交互にウェハを抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理を実施する。ウェハの処理経路は前記の「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同様に、プロセス処理装置２ー２でエッチング処理した後プロセス処理装置２ー１で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ａという）と、プロセス処理装置２ー３でエッチング処理した後、プロセス処理装置２ー４で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ｂという）の両方を使って処理する。

この実施例での処理順序の経路Ａ、Ｂもしくは経路Ｃ、Ｄについては前記前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。

ウェハの処理は、１枚目のウェハはロードロック室内のカセットからの１枚目を経路Ａ、２枚目はアンロードロック室内のカセットからの１枚目を経路Ｂ、３枚目のウェハはロードロック室内のカセットからの２枚目を経路Ａ、４枚目はアンロードロック室内のカセットからの２枚目を経路Ｂ、・・・という順序でカセット内の最終ウェハ迄処理を行う。

ロードロック室内もしくはアンロードロック室カセット内の全てのウェハを処理終了するとロードロック室内（またはアンロードロック室内）カセットの処理終了とカセット交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。この終了したカセットが取り除かれ新しいカセットが設置されるまでは、他方のカセット側の処理のみ継続されている。新しいカセットが設置されると前記のようにロードロック室内とアンロードロック室内カセットから交互ににウェハを抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理を実施する。以降この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了する場合は、主制御部１１から運転終了の操作入力を行う事で運転が終了する。終了方法は前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。

３）２カセット２レシピ並列運転
この運転では、ロードロック室内のカセットとアンロードロック室内のカセットとのウエハ処理レシピが異なる事以外は前記「２カセット１レシピ並列運転」と同じある。

４）１カセット１レシピ直列運転
この運転では、同一のプロセス処理条件（以下では、プロセス処理条件をレシピと称する）で処理するウェハが収納されたカセット内の最下段もしくは最上段のウェハから順番にカセットから抜き出しプロセス処理装置に搬入しプロセス処理をすることは前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。ところがウェハの処理経路は前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と異なる。本「１カセット１レシピ直列運転」では、ウエハはプロセス処理装置２ー２（もしくはプロセス処理装置２ー３）でエッチング処理した後、更にプロセス処理装置２ー３（もしくはプロセス処理装置２ー２）でエッチング処理した後、プロセス処理装置２ー１（もしくはプロセス処理装置２ー４）で後処理をして元のカセットに戻す経路（この経路Ｅという）で処理する。

本実施例では経路Ｅでロードロック室内のカセットから抜き出したウェハはアンロードロック室内のカセットに戻す処理の例を示す。ウェハの処理は、１枚目のウェハは経路Ｅ、２枚目は経路Ｅ、３枚目のウェハは経路Ｅ、４枚目は経路Ｅ、・・・という順序でカセット内の最終ウェハ迄処理を行う。カセット内の全てを処理終了するとロードロック室内カセットとアンロードロック室内カセットの処理終了と交換をオペレータに通報する為にこの図に示していないブザーを鳴らす。

次に新たな未処理ウェハの入ったカセットをロードロック室に、空のカセットをアンロードロック室に設置して、以降この運転サイクル繰り返しを行う。この運転を終了する場合は、主制御部１１から運転終了の操作入力を行う事で運転が終了する。終了方法は前記「１カセット１レシピ並列運転」の場合と同じである。

図３は、制御構成図を示す。本実施例では、装置全体の主制御部は、搬送処理装置に搭載している場合を示す。尚、装置全体の主制御部は、搬送処理装置以外にあっても構わない。また表示手段１３、入力手段１４は主制御部とは別の制御ユニットとして構成しても良い。１１は、装置全体を制御する主制御部の構成を示す。制御手段としては、本発明の請求範囲に該当する部分のみを抜き出して記述しており、装置を動かす上での必要な入出力制御部分（ＤＩ／Ｏ、ＡＩ／Ｏ）については、記述していない。１６は、処理装置内でのウェハの処理順序を記憶する処理順序情報記憶手段であり、例えばＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ Ａｃｃｅｓｓ Ｍｅｍｏｒｙ）である。このウェハの処理順序は、運転開始前に表示手段１３、入力手段１４とを使ってオペレータによって入力されたデータが記憶される。

１７は、プロセス処理装置１８−１〜１８−４の運転有効／無効であることを示す運転情報信号を記憶する運転情報信号記憶手段であり、例えばＲＡＭである。１３は、運転状態、運転条件の設定内容、運転の開始指示／終了の表示を行う表示手段であり、例えばＣＲＴである。１４は、運転条件の設定、運転の開始指示入力、プロセス処理条件、保守やメンテナンスの操作入力等を行う入力手段であり、例えばキーボードである。１５は、上記プロセス処理装置１８−１〜１８−４の運転有効／無効であることを示す運転情報信号状態を判断し、自動運転中にプロセス処理装置１８−１〜１８−４のどれかが運転不可となっても該プロセス処理装置を使用せず、他のプロセス処理装置を使って運転続行する処理手順を記憶した装置制御手段であり、例えばＲＯＭ（Ｒｅａｄ Ｏｎｌｙ Ｍｅｍｏｒｙ）である。１２は、上記１３〜１７を制御する中央制御手段であり、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ Ｕｎｉｔ）である。１８−１〜１８−４は、ウェハのプロセス処理を行うプロセス処理装置である。この処理装置としては、エッチング、後処理、成膜、スパッタ、ＣＶＤ、水処理等ウェハのプロセス処理を行う処理であれば、何であっても良い。１９−１〜１９−４は、プロセス処理装置１８−１〜１８−４の運転有効／無効であることを示す運転情報信号を発生する運転情報信号発生手段である。本実施例では、プロセス処理装置に設けているが、どこにあっても良い。この運転情報信号を発生する手段として、
１）プロセス処理装置の装置電源の遮断信号を用いる
２）プロセス処理装置の使用の有効／無効を設定する運転切り替え信号（例えば、切り替えスイッチ）を用いる
３）プロセス処理装置の使用の有効／無効を示す運転制御信号として、オペレータが設定入力した入力情報を用いる
ことができる。

２０と２１は、装置全体を制御する主制御部１１と補助操作盤２２とを接続する通信手段である。補助操作盤２２、２５、２６は上述した用途に使用するものである。２４は補助操作盤での端末機能を制御する処理手順を記憶した端末制御手段である。２３は上記２１、２４から２６を制御する中央制御手段であり、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ Ｐｒｏｃｅｓｓｏｒ Ｕｎｉｔ）である。

図４は、運転情報信号図である。各プロセス処理装置毎に運転の有効／無効を示す情報が記憶される。この場合では、有効な場合は、１を、無効な場合は、０を示すが区別できる内容であれば、記号や数字であっても良い。この情報は、運転情報信号発生手段１９−１〜１９−４の信号状態が反映されたものであり、運転情報信号記憶手段１７に記憶される。

図５は、処理順序情報図である。運転条件設定の一つとして、オペレータが運転開始前に表示手段１３、入力手段１４とを使ってウェハの処理する順序を設定した情報である。

この情報は処理順序情報記憶手段に記憶される。

図６は、装置運転フロー図を示す。オペレータは運転開始前に処理装置として構成されているプロセス処理装置の内、故障等で運転に使用できない、又は保守（プラズマクリーニングも含む）の為使用しないプロセス処理装置があるか否かを判断する（３０）。使用できない（又は、使用しない）プロセス処理装置があれば、運転情報信号発生手段１９を用いて図４に記述した状態になるように設定する（３２）。この設定の方法の一つとして、
１）プロセス処理装置の装置電源の遮断信号を用いる場合は、該プロセス処理装置の装置電源供給用電磁開閉器をＯＦＦする。これにより、遮断信号が発生し、運転情報信号記憶手段１７に伝えられ、図４に記載された情報として記憶される。

２）プロセス処理装置の使用の有無を設定する運転切り替え信号（例えば、切り替えスイッチ）を用いる場合は、該プロセス処理装置に割り当てられた切り替えスイッチを有効又は無効の状態に設定する。これにより、切り替え信号が確定し、運転情報信号記憶手段１７に伝えられ、図４に記載された情報として記憶される。

３）プロセス処理装置の使用の有効／無効を示す運転制御信号として、オペレータが設定入力した入力情報を用いる場合は、オペレータは、該プロセス処理装置に割り当てられた設定情報を入力手段１４より入力する。これにより、設定情報が確定し、運転情報信号記憶手段１７に伝えられ、図４に記載された情報として記憶される。装置接続構成を決定した後、自動運転をスタートする（３４）。

尚、ウェハの処理する順序は以下のように製品処理条件として設定する。

１）ウェハの運転モードを選択する。

「１カセット１レシピ並列」、「２カセット１レシピ並列」、
「２カセット２レシピ並列」、「１カセット１レシピ直列」のいずれかを選択
２）ウェハの搬送経路を設定する。

カセット毎にウェハの処理経路をプロセス処理装置の記号を使ってパラレルまたはシリーズ処理を設定する。代表的な設定例を以下に示す。（ウェハ処理経路は、前述のように組み合わせが可能である）
２ー１）パラレル処理の場合：
Ｃ１：Ｅ１→Ａ１、Ｃ１：Ｅ２→Ａ２
Ｃ２：Ｅ１→Ａ１、Ｃ２：Ｅ２→Ａ２
Ｅ１：プロセス処理装置２ー２、Ｅ２：プロセス処理装置２ー３
Ａ１：プロセス処理装置２ー１、Ａ２：プロセス処理装置２ー４
２ー２）シリーズ処理の場合：
Ｃ１：Ｅ１→Ｅ２→Ａ１
Ｃ２：Ｅ２→Ｅ１→Ａ２
３）プロセス処理室毎にプロセス処理条件（プロセスレシピともいう）を設定する。

以上の製品処理条件を設定した後、自動運転開始の起動をかける。

図７は、自動運転フロー図を示す。自動運転を開始すると、処理すべきウェハを全て搬送したかを判断し、搬送済であれば処理が終了し、搬送必要であれば、自動運転処理に進む（４０）。自動運転中に異常等が発生し、運転が一時中断した状態にあるか否かを判断する（４２）。異常が無ければ、運転を続行する（４４へ）。運転に使用できないプロセス処理装置がある場合は、該プロセス処理装置を使わないで運転続行が可能か否かをオペレータが判断する（７０）。続行が不可能な場合は、オペレータが自動運転の中止設定を行うことにより、装置は自動運転停止処理を行う（９０）。

続行が可能な場合でも、プロセス処理装置にウェハが残っている場合、真空ロボットのハンド上にウェハが残っている場合、ロードロック室やアンロードロック室にウェハが残っている場合等がある。

このように自動運転中に異常が発生し、自動運転の続行ができなくなり自動運転が一時中断した状態から引き続き自動運転を再開し、続行するため、異常が発生した機器内に残存しているウェハを元のカセットに搬出する処理を行なう。これは自動運転中に異常が発生した時点では処理装置内の全ウェハの搬送・処理のスケジュールが確定しているため、異常が発生した機器にあるウェハを取り出したカセット７に戻さないとウェハの搬送・処理のスケジュールが狂ってしまい、自動運転の一時中断状態からの再開、自動運転続行ができなくなるためである。処理装置内に残存しているウェハの処置例を以下に示す。装置内に残存ウェハがあるか否か判断する（７２）。残存しているウェハのうちエッチング処理をするか否かを判断する（７４）。処理室内に残存しているウェハのうち、エッチング処理の途中で異常が発生した場合は、残りのエッチング処理を実施した後（７６）、ウェハを元のカセットに戻す（７８）。これはできうる限りウェハを救済するために行なうものである。また真空ロボットのウェハハンド上にウェハが残っている場合や、ロードロック室アンロードロック室にウェハが残っている場合は、機器個別の操作（ロック室の排気／リーク，ウェハの搬送）を行なって、そのウェハを元のカセットに戻す（７８）。以上のように異常の発生した機器にあったウェハは必要な処置を実施し元のカセットに戻した後、一時中断していた自動運転を再開する操作を行なう。このようにすることで異常が発生した機器（処理室や真空ロボット等）にあったウェハのトラッキング情報は、正常な経路で処理されたのと同等となり、自動運転が再開できることになる。以上のような処理装置内に残存していたウェハの処置を行なった後、使用しないプロセス処理装置に対して図６の（３２）にて示した内容と同じ運転情報信号発生手段の切り替え操作（８０）を行う。異常発生情報をリセットし（８２）、自動運転を続行する。

正常な運転状態では、次のウェハの搬送経路を処理順序情報記憶手段１６に記憶されてある情報を読み出し（４４）、運転情報信号記憶手段１７に記憶されてある情報と整合処理し搬送順路を決定する（４６）。決定した搬送順路はカセットより搬出するウェハ毎に搬送順路データを持っても良いし、処理順序情報記憶手段１６とは別の処理順序情報テーブルを作成し、ウェハを搬送する際には、このテーブルを参照するようにしても良い。搬送順路が決定すると大気ロボット８はカセット７よりウェハを搬出し（４８）、上記決定した搬送順路に登録されてあるプロセス処理装置に搬送し（５０）、ウェハの処理を行う（５２）。このウェハ搬送処理及びプロセス処理で異常が発生した場合は、引き続き自動運転を継続する為に処理続行可能な処理はその個々の処理を終了させるまで実行した後、自動運転を一時中断状態にする。（例えばＮ枚目のウェハのエッチング処理中であれば、そのＮ枚目のウェハのエッチング処理が終了するまでエッチング処理を継続し、終了した時点で自動運転を一時中断する。また真空ロボット５によるウェハ搬送中に他の処理で異常が発生したら、真空ロボット５は、所定の場所へのウェハ搬送を終了した時点で自動運転を一時中断する。）この後異常発生したことを示す異常発生情報（図示は無し）を記憶させた後、装置を一時中断状態にオペレータに中断したことを表示手段１３に表示するとともに図示しないブザーを鳴らす。この後（４２）に戻り、所定のフローで処理する。

図８は、異常発生後の自動運転再開処理図を示す。以下に図７で述べた自動運転中に異常が発生した後の自動運転再開迄の処理について説明する。図Ａは表１での「１カセット１レシピ並列運転」の運転モードでウェハの搬送経路が
Ｃ１：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２
Ｃ２：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２にて運転し、Ｅ２では（Ｎ）枚目のウェハがエッチング処理中でＡ１では（Ｎー１）枚目のウェハが後処理中の時に図Ｂに示すようにＥ２で異常が発生すると、エッチング処理は終了しＡ１の（Ｎー１）枚目のウエハは後処理終了後、アンロードロック室４に搬出しないで自動運転を一時中断する。Ｅ２で異常の発生した（Ｎ）枚目ウェハについては図７の７６と７８の処置を行う。その後Ｅ２とＡ２については図７の８０の運転情報信号発生手段による切替操作として図６の説明で説明した１）または２）または３）の操作を行い、図４で示したようにプロセス処理装置３（Ｅ２）、プロセス処理装置４（Ａ２）の運転情報を「無効：０」とする。この後異常発生情報をリセット（図７の８０）し、自動運転を再開する。再開後は図ＣのようにＡ２の（Ｎー１）枚目のウェハはアンロードロック室４に搬送され、以降はＥ１とＡ１とを使って処理を続行する。

次に、運転情報を「無効：０」としたプロセス処理装置３（Ｅ２）、プロセス処理装置４（Ａ２）については、補助操作盤２２を使って異常原因を究明する為にプロセス処理装置３（Ｅ２）、プロセス処理装置４（Ａ２）に対して機器動作を行う為の操作入力が行える。例えば、プロセス処理装置３（Ｅ２）内の本図に示していないウェハ押し上げ操作を行い動作を確認する。

このような操作により異常原因を対策でき、「無効：０」としたプロセス処理装置３（Ｅ２）、プロセス処理装置４（Ａ２）をウェハの処理経路に復帰させる手順を以下に示す。

次に図Ｃの運転中に自動運転の中断操作を行い、運転モードの処理経路から切り離したＥ２とＡ２とを有効と設定することで図Ａに移行することができ、
運転モードでウェハの搬送経路が
Ｃ１：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２
Ｃ２：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２にて運転できる。

図９は、自動運転中の処理装置運転切り離し処理図を示す。以下に図７で述べた自動運転中にＥ２とＡ２を自動運転処理経路から切り離した後自動運転を再開する処理について説明する。図Ａは図８の図Ａの運転経路と同じである。表１での「１カセット１レシピ並列運転」の運転モードでウェハの搬送経路が
Ｃ１：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２
Ｃ２：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２にて運転し、Ｅ２では（Ｎ）枚目のウェハがエッチング処理中でＡ１では（Ｎー１）枚目のウェハが後処理中の時に図Ａに示すようにＥ２とＡ２に運転停止操作により停止指示が出されると、Ａ１の（Ｎー１）枚目のウェハは後処理終了後、元のカセットに戻され、（Ｎ）枚目のウェハのエッチング処理が終了しＡ２に搬送され後処理終了後元のカセットに戻される。ところで、Ｅ２とＡ２は運転停止状態となっている為（Ｎ＋１）枚目以降のウェハは、Ｅ１とＡ１とを使って運転が続行される。

上記では、自動運転中にＥ２とＡ２を自動運転処理経路から切り離す手段として運転停止操作により停止指示を出すことで切り離しを行ったが、別の方法として処理装置内に組み込んだ検出器の機能によって停止指示を出すこともできる。一例としては、処理装置内に組み込んだ異物モニタ装置からの異物測定モニタ値が運転前に設定した設定値を超過したことを検知し、この超過した信号をもって自動運転中にＥ２とＡ２に停止指示を出すことで運転停止操作と同じ機能を行える。

また切り離したプロセス処理装置をウェハの搬送経路に復帰させる手順は、図９の説明で示した内容と同じである。

図１０は、パイロットカセット処理図を示す。これは自動運転中に割り込み特急処理を行い、その処理終了後は元の処理を再開し続行するものである。以下に図７で述べた自動運転中に特定の（この場合はＥ２とＡ２とする） 処理装置を現在運転中の運転モードの処理経路から切り離し、その切り離したＥ２とＡ２とを使ってそれまでに運転していたプロセス処理条件とは異なるプロセス処理条件で処理するカセット（このカセットのことをパイロットカセットと呼ぶ）を割り込んで処理後、元の自動運転を再開し続行する処理について説明する。図Ａは図８での運転経路と同じである。表１での「１カセット１レシピ並列運転」の運転モードでウェハの搬送経路が
Ｃ１：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２
Ｃ２：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２にて運転し、Ｅ２ではＣ１カセットの（Ｎ）枚目のウェハがエッチング処理中で、Ａ１ではＣ１カセットの（Ｎー１）枚目のウェハが後処理中の時に図Ａに示すようにＥ２とＡ２を使った割り込み特急処理を行う為に自動運転の中断操作を行う。Ｅ２とＡ２に運転停止操作により停止指示が出されると、Ａ１の（Ｎー１）枚目のウェハは後処理終了後、元のカセットに戻され、（Ｎ）枚目のウェハはエッチング処理が終了しＡ２に搬送され後処理終了後元のカセットに戻される。

ところで、Ｅ２とＡ２は運転停止状態となっている為（Ｎ＋１）枚目以降のウェハは、Ｅ１とＡ１とを使って運転が続行される（図Ｃ）。Ｅ１とＡ１とを使った運転中に、Ｅ２とＡ２とを使った割り込み特急処理のカセットがＣ２（７ー２）に置かれ割り込み処理の起動運転が掛かけられる（図Ｃ）とその時迄にＣ１（７−１）カセットから抜き出されたウエハが全て処理されＣ１カセットに搬入後、Ｃ１カセット内ウェハのＥ１とＡ１とを使った運転は一時中断状態となり、割り込み特急処理用のカセットＣ２内ウェハの処理が開始される（図Ｄ）。Ｃ２カセットのウェハについては順次Ｅ２ → Ａ２の処理を行いＣ２カセットに搬入する。パイロットカセットの処理が終了すると割り込み処理終了と一時中断状態の運転の再開設定を行い、中断していたＣ１（７−１）カセットからウェハの処理が再開する（図Ｃの状態に戻る）。次に図Ｃに戻った状態で運転中に自動運転の中断操作を行い、運転モードの処理経路から切り離したＥ２とＡ２とを有効と設定することで図Ａに移行することができ、運転モードでウェハの搬送経路が
Ｃ１：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２
Ｃ２：Ｅ１→Ａ１及びＥ２→Ａ２にて運転できる。

以上に述べた内容でも分かるように故障等で運転に使用できない、又は修復や保守（プラズマクリーニングも含む）の為使用しないプロセス処理装置は、運転情報信号記憶手段１７に記憶されており、装置制御手段はこの情報を参照して運転を進める為、無効と設定したプロセス処理装置に搬送することはない。又この無効と設定したプロセス処理装置では、修復、保守及び不具合原因を行うために、続行している自動運転でのウェハ処理と並行してメンテナンス操作（例えば、プラズマクリーニング処理、ガスライン排気処理、ウェハプッシャーの押上げ／押下げ動作）を行なうことができる。この場合無効と設定したプロセス処理装置に対して機側で修復、保守及び不具合原因のための操作入力としては前述の補助操作盤２２を用いる。ところで通常生産ラインでは、図１に示す大気搬送装置６がクリーンルーム側に搬送処理装置１、プロセス処理装置２−１〜２−４は、メンテルーム側に設置されており、クリーンルーム側とメンテルーム側との間は、パーテーションで区切られており、片側から他方は、充分に視界がきかない場合がある。また補助操作盤２２は、主制御部１１にも接続されているが、補助操作盤２２は主制御部１１とは、普通は離れた場所でかつ別々の人が操作することがある。このような場合に、どちらの操作部でも操作ができるようにしておくと、特に機側で補助操作盤２２を用いて操作する場合、操作しているオペレータに対して安全上の災害の発生させることが考えられるため、この災害を防止するため補助操作盤２２を用いて機側でプロセス処理装置に操作（例えばウェハ押し上げの上昇／下降操作）を行なう時は、主制御部１１は機器への操作ができないように機能上インターロックをかけている。

以上の内容でもって、自動運転中にその処理に使用していない処理室を使った処理、及
びその処理室への操作を実行することができる。

１…搬送処理装置、２−１，２，３，４…プロセス処理装置、３…ロードロック室、４…アンロードロック室、５…真空ロボット、６…大気搬送装置、７…カセット、８…大気ロボット、１１…主制御部、１２…中央制御手段、１３…表示手段、１４…入力手段、１５…装置制御手段、１６…処理順序情報記憶手段、１７…運転情報信号記憶手段、１８−１，２，３，４…プロセス処理装置、１９−１，２，３，４…運転情報信号発生手段、２０，２１…通信手段、２２…補助操作盤、２３…中央制御手段、２４…端末制御手段、２５…入力手段、２６…表示手段。

Claims (6)

1. ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、前記ウェハを収納する複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、前記複数の真空処理室と前記カセット載置手段との間に設けられた搬送手段と、該搬送手段を用いて前記カセット内から前記ウェハを前記真空処理室に搬送し、前記真空処理室で真空処理されたウェハを搬出する制御を行う制御手段とを備える真空処理装置において、
   前記制御手段は、少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理と、
   １つのカセット内に収納された複数のウェハを複数の真空処理室へ順次搬送し、前記順次搬送された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理と、を備えられ、
   真空処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止するウェハ供給停止、前記カセット内の全てのウェハの真空処理が終了した後にカセットの真空処理を中止するカセット供給停止、実行中の真空処理、前記真空処理室の排気、前記真空処理室のリーク、あるいは、前記ウェハの搬送のいずれかの動作が終了後に前記動作を停止するサイクル停止、指定された真空処理室で実行中の真空処理が終了後にカセットの真空処理を一次停止し、前記カセットの真空処理の再開操作により前記一次停止したカセットの真空処理を再開できる処理室一次停止、または、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより２種類の前記処理の中で実行中の処理を終了させることによって前記２種類の処理の何れかを選択的に施すことを特徴とする真空処理装置。
2. ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、前記ウェハを収納する複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、前記複数の真空処理室と前記カセット載置手段との間に設けられた搬送手段と、該搬送手段を用いて前記カセット内から前記ウェハを前記真空処理室に搬送し、前記真空処理室で真空処理されたウェハを搬出する制御を行う制御手段とを備える真空処理装置において、
   前記制御手段は、少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセット毎に異なる真空処理を施すカセットの並列処理と、
   １つのカセット内に収納された複数のウェハを複数の真空処理室へ順次搬送し、前記順次搬送された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理と、を備えられ、
   真空処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止するウェハ供給停止、前記カセット内の全てのウェハの真空処理が終了した後にカセットの真空処理を中止するカセット供給停止、実行中の真空処理、前記真空処理室の排気、前記真空処理室のリーク、あるいは、前記ウェハの搬送のいずれかの動作が終了後に前記動作を停止するサイクル停止、指定された真空処理室で実行中の真空処理が終了後にカセットの真空処理を一次停止し、前記カセットの真空処理の再開操作により前記一次停止したカセットの真空処理を再開できる処理室一次停止、または、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより２種類の前記処理の中で実行中の処理を終了させることによって前記２種類の処理の何れかを選択的に施すことを特徴とする真空処理装置。
3. ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、前記ウェハを収納する複数のカセットを載置し得るカセット載置手段と、前記複数の真空処理室と前記カセット載置手段との間に設けられた搬送手段と、該搬送手段を用いて前記カセット内から前記ウェハを前記真空処理室に搬送し、前記真空処理室で真空処理されたウェハを搬出する制御を行う制御手段とを備える真空処理装置において、
   前記制御手段は、少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセット毎に異なる真空処理を施すカセットの並列処理と、
   少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理と、を備えられ、
   真空処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止するウェハ供給停止、前記カセット内の全てのウェハの真空処理が終了した後にカセットの真空処理を中止するカセット供給停止、実行中の真空処理、前記真空処理室の排気、前記真空処理室のリーク、あるいは、前記ウェハの搬送のいずれかの動作が終了後に前記動作を停止するサイクル停止、指定された真空処理室で実行中の真空処理が終了後にカセットの真空処理を一次停止し、前記カセットの真空処理の再開操作により前記一次停止したカセットの真空処理を再開できる処理室一次停止、または、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより前記２種類の処理の中で実行中の処理を終了させることによって前記２種類の処理の何れかを選択的に施すことを特徴とする真空処理装置。
4. ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、前記ウェハを収納する複数のカセットを載置し得るカセット載置手段とを備える真空処理装置を用いて真空処理を行う真空処理方法において、
   少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理と、
   １つのカセット内に収納された複数のウェハを複数の真空処理室へ順次搬送し、前記順次搬送された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理と、を有し、
   真空処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止するウェハ供給停止、前記カセット内の全てのウェハの真空処理が終了した後にカセットの真空処理を中止するカセット供給停止、実行中の真空処理、前記真空処理室の排気、前記真空処理室のリーク、あるいは、前記ウェハの搬送のいずれかの動作が終了後に前記動作を停止するサイクル停止、指定された真空処理室で実行中の真空処理が終了後にカセットの真空処理を一次停止し、前記カセットの真空処理の再開操作により前記一次停止したカセットの真空処理を再開できる処理室一次停止、または、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより２種類の前記処理の中で実行中の処理を終了させることによって前記２種類の処理の何れかを選択的に施すことを特徴とする真空処理方法。
5. ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、前記ウェハを収納する複数のカセットを載置し得るカセット載置手段とを備える真空処理装置を用いて真空処理を行う真空処理方法において、
   少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセット毎に異なる真空処理を施すカセットの並列処理と、
   １つのカセット内に収納された複数のウェハを複数の真空処理室へ順次搬送し、前記順次搬送された複数のウェハに共通の真空処理を施す真空処理室の並列処理と、を有し、
   真空処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止するウェハ供給停止、前記カセット内の全てのウェハの真空処理が終了した後にカセットの真空処理を中止するカセット供給停止、実行中の真空処理、前記真空処理室の排気、前記真空処理室のリーク、あるいは、前記ウェハの搬送のいずれかの動作が終了後に前記動作を停止するサイクル停止、指定された真空処理室で実行中の真空処理が終了後にカセットの真空処理を一次停止し、前記カセットの真空処理の再開操作により前記一次停止したカセットの真空処理を再開できる処理室一次停止、または、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより２種類の前記処理の中で実行中の処理を終了させることによって前記２種類の処理の何れかを選択的に施すことを特徴とする真空処理方法。
6. ウェハを真空処理する複数の真空処理室と、前記ウェハを収納する複数のカセットを載置し得るカセット載置手段とを備える真空処理装置を用いて真空処理を行う真空処理方法において、
   少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセット毎に異なる真空処理を施すカセットの並列処理と、
   少なくとも２つのカセットを使用し、各カセットに収納されたウェハを各カセット毎に対応する真空処理室に搬送し、各カセット毎に割り付けられ各カセットとも共通な真空処理を施すカセットの並列処理と、を有し、
   真空処理中のカセットからのウェハ取り出しを中止するウェハ供給停止、前記カセット内の全てのウェハの真空処理が終了した後にカセットの真空処理を中止するカセット供給停止、実行中の真空処理、前記真空処理室の排気、前記真空処理室のリーク、あるいは、前記ウェハの搬送のいずれかの動作が終了後に前記動作を停止するサイクル停止、指定された真空処理室で実行中の真空処理が終了後にカセットの真空処理を一次停止し、前記カセットの真空処理の再開操作により前記一次停止したカセットの真空処理を再開できる処理室一次停止、または、実行中のカセットの真空処理の動作を全て即時停止する即停止の何れかにより前記２種類の処理の中で実行中の処理を終了させることによって前記２種類の処理の何れかを選択的に施すことを特徴とする真空処理方法。

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